小角 X 線散乱 - SLit-J

小角 X 線散乱
Small Angle X-ray Scattering (SAXS)
●物質内部のナノスケール構造(空孔、結晶配向性等)に関する情報を分析
●液体・気体の構造およびこれらによる粒子の分散状態も評価可能
●有機高分子などのソフトマターおよび非晶質物質の高次構造の評価に有用
測定原理 物質に X 線を照射すると,物質を構成する原
子や分子の電子密度を反映して X 線が散乱される.小角
度領域(一般的には散乱角 2θ <10°以内)に現れる散乱 X
線は、物質中の粒子およびドメイン構造などのナノ構造
情報を含んでいる。
得られる情報 空孔、分散粒子、結晶配向性などの物質
内部のナノスケール構造について、散乱体大きさや周
期、形状に関する情報を得ることが出来る。
特徴 固体の他、液体や気体に関しても応用可能。有機
図 1. SAXS 測定装置(KEK, BL-6A)*1
高分子などのソフトマターおよび非晶質物質の高次構造
の評価に特に有用である。
応用例 ポリエチレンのシシケバブ構造形成過程の解明:高強度・高弾性率の起源となる有機
材料の特徴的な高次構造形成機構を、SAXS その場観察で解明 (KEK)
http://polyweb.yz.yamagata-u.ac.jp/~matsuba/kenkyuJ2.pdf
図 2. 溶液中に分散した Cd 粒子の直
径と SAXS プロファイル変化*2
図 3. 乳化剤の高次液晶構造評価*3
東北放射光施設における展開 軟 X 線は、SAXS 測定の分解能向上に寄与し、従来よりもさ
らに大きなスケールでの構造情報を得ることができる。高輝度のマイクロビームを利用するこ
とにより、マクロスケールでの物性に影響を及ぼす有機・非晶質材料における高次構造のダイ
ナミクス測定が容易になることが期待できる。
既存ビームラインとの基本スペック比較
SAXS
SPring-8
SLiT-J
KEK (PF ring)
BL-05
BL08B2
BL45XU
BL-10C
BL-15A
アンジュレータ
偏向電磁石
アンジュレータ
偏向電磁石
アンジュレータ
エネルギー範囲[keV]
3~30
4.6~70
6.7~14.0
6.5~14
2.1~15
エネルギー分解能 ΔE/E
~10-4
~10-4
~10-4
~10-4
~2×10-4
光源
ビームサイズ [μm]
~1
-
300×200
270×560
340×18
光子数(集光位置) [photons/sec]
~1012
~109
~2×1011
1010 ~1011
~1011
*1 : http://pfwww.kek.jp/users_info/station_spec/bl6/bl6a.html
*2 : https://user.spring8.or.jp/resrep/?p=6465
*3 : http://www.mst.or.jp/method/tabid/154/Default.aspx