NO. 150652 レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決 ◆日時：2015年06月19日（金）10:30～16:30 ◆会場：商工情報センター（カメリアプラザ）　9F　研修室 ◆聴講料： 1名につき49,980円（税込、昼食、資料付）　セミナーお申込みＦＡＸ ※会員登録（無料）をしていただいた方には下記の割引・特典を適用します。・1名でお申込みされた場合、1名につき47,250円・2名同時でお申し込みされた場合、2人目は無料（2名で49,980円） ※大学生、教員のご参加は、1名につき受講料10,800円です。（ただし、企業在籍者は除きます。また、2人目無料も適用外です。）０３－５８５７－４８１２ ※お申込み確認後は弊社よりご連絡いたします。 ●講師 : 国立大学法人長岡技術科学大学大学院　電気電子情報工学専攻電子デバイス・フォトニクス工学講座　教授　博士（工学）　河合晃　氏現在、フォトレジストは、産業の様々な分野で広く利用されています。しかし、その高度化に伴い、フォトレジストの品質が製品に与える影響も深刻化しています。本セミナーでは、これからレジスト材料を使用する方、レジストリソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明します。また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説します。初心者にも分かりやすく、基礎から学べる内容となっています。受講者が抱えている日々のトラブル相談にも応じます。１．レジスト・リソグラフィ入門 2-10 レジスト膜の欠陥発生メカニズムと対策 1-1　リソグラフィプロセスの基礎（レジストとは？） 1-2　レジストコントラストの理解（なぜコントラストが重要か？） 1-3　段差部でのパターン形状設計（膜内多重反射、バルク効果） 1-4　先端リソグラフィ（位相シフトマスク、液浸リソグラフィ） 1-5　エッチングマスクとしてのレジストパターン 1-6　検査技術（SEM、AFMのポイント）（環境応力亀裂、濡れ不良、ポップアップ） 2-11 ドライフィルムレジスト（DFR）の付着性（メッキ時のEaves不良） 2-12 ナノインプリントにおける剥離残差対策（疎水化による離型処理） 2-13 ウォーターマーク（乾燥痕）はこうして発生する（乾燥メカニズム、液体内の対流効果、微粒子凝集、パターン形状依存性） 2-14 レジスト表面の微小気泡対策（気泡のピンニング効果）２．レジストトラブルの発生メカニズムと対策 2-1　レジスト付着性を促進する要因（表面エネルギー、凝集力、応力緩和） 2-2　レジスト付着性を低下させる要因（応力集中、溶液浸透、パターン間メニスカス） 2-3　表面エネルギーからレジスト付着性を予測する（付着エネルギーWa、拡張係数S、円モデル） 2-4　ドライ中での付着性は溶液中と逆の結果になる（γｐ効果、最適条件の設定法） 2-5　HMDS処理はレジスト膜の付着性を低下させる（処理温度と処理時間、付着性と密着性の差） 2-6　Al膜上でのレジスト付着不良（WBL、複合表面処理） 2-7　パターン凸部は凹部よりも剥離しやすい（応力集中効果、表面硬化層の影響） 2-8　レジスト膜の応力をin-situ測定する（応力緩和と発生、乾燥プロセス変動） 2-9　レジスト膜の膨潤をモニタする（アルカリ液の浸透、屈折率評価、導電性解析）３．レジスト材料プロセスの高品位化 3-1　微小パターンの物性（表面サイズ効果、相互作用因子とは） 3-2　レジストパターン1個の付着力を実測する（DPAT法、ナノサイズの付着力の実験式） 3-3　高分子集合体をマニピュレーションする（レジストパターンからの集合体分離） 3-4　レジスト膜中のナノ空間を見る（vacancy、パターン構造設計） 3-5　レジストパターン１個のヤング率を実測する（測定方法、強度設計） 3-6　レジスト膜表面にはナノ硬化層が存在する（AFMインデンテーション法、断面硬化層分布、LER評価） 3-7　レジスト膜表面のナノ気泡を見る（AFMナノバブル観察）４．技術開発および各種トラブル相談（日頃のトラブルサポートなど）『レジスト材料』セミナー申込書 ● セミナーの受講申込みについて ● 会社・大学住　所〒電話番号お名前ＦＡＸＥ－Ｍａｉｌ所属・役職 ① 左の申込みフォームに必要事項をご明記ください。お申込み後は、弊社より確認のご連絡をいたしまして受講券、請求書、会場の地図をお送りいたします。セミナーお申込み後のキャンセルは基本的にお受けしておりませんので、ご都合により出席できなくなった場合は代理の方がご出席ください。お申込み･振込に関する詳細はＨＰをご覧下さい。 ⇒　https://www.rdsc.co.jp/pages/entry ② 会員登録（無料）　※案内方法を選択してください。複数選択可。 □Eメール　□ 郵送個人情報保護方針の詳細はＨＰをご覧下さい。 ⇒　https://www.rdsc.co.jp/pages/privacy 株式会社Ｒ＆Ｄ支援センター〒135-0016　東京都江東区東陽3-23-24　VORT東陽町ビル7階 TEL) 03‐5857‐4811 FAX) 03‐5857‐4812 URL) https://www.rdsc.co.jp/