ワンランク上のハロゲンフリーエポキシ化合物を使ってみませんか！産業科学研究所生体・分子系研究部門助教市原潤子山口俊郎＜研究の背景＞＜ワンランク上のハロゲンフリー化＞電気・電子産業分野おいて、電子部品の高機能化が進み、対応して主要原料のエポキシ樹脂（エポキシ化合物）は、高性能化・高寿命化の実現のためにハロゲンフリー化が要求されている。現状汎用型エポキシ化合物の低ハロゲン化物（ 900 ppm以下）は流通するが、ワンランク上のハロゲンフリーのエポキシ化合物は存在しない。ハロゲンフリー現行規格：銅張積層板(CCL)として JPCA‐ES‐01‐1999 Br < 900ppm, Cl < 900ppm 左記問題に対応可能な技術の内容【ノンハライト法：粉体状態で反応させる画期的で環境にやさしい技術】反応装置1台で、反応から単離・リユースまで繰り返し行える簡便な製造システムワンランク上のハロゲンフリーのエポキシ化合物の製造に成功（ハロゲン 8 ppm （検出限界）以下）ノンハライト法ノンハライト法の特徴粉体状態で効率良く反応させる技術省資源・省エネルギー型の環境にやさしい製造システムノンハライト® aq.H2O2 ポリ酸触媒/アパタイト粉体 O H2O 反応率＞99％選択率＞99％ノンハライト®（ポリ酸触媒/アパタイトから成る粉体）に,有機化合物と過酸化水素水を染み込ませ、粉体状態で静置すれば、ワンランク上のハロゲンフリーエポキシ化合物が得られるワンランク上のハロゲンフリーのエポキシ化合ぶ物の合成製造中にエポキシ環が開環するような合成しにくいグリシジルエーテル型エポキシ化合物にも適用従来技術とその問題点塩素含有量１‐10％ • ハロヒドリン法：エピクロロヒドリンを用いる方法で、生ノンハライト® aq.H2O2 • 全工程で原料にハロゲン化物を用いないことで、ワンランク上のハロゲンフリー化を実現 • “粉体の表面”という特殊な反応場を利用した温和な反応→ 触媒の劣化や副反応を抑制し、高純度を達成 • 副反応の抑制：エポキシ環の開環 • ノンハライト®のリユースが可能（＞25回まで確認） • 廃棄物は水のみ • 簡便な反応操作および単離操作 • （かければ）高温・高圧不要、特殊素材不要。 • 少量・多品目の製造に対応 H2O ハロゲンフリージグリシジルエーテル型成物は１‐10％の有機塩素化合物を含む。塩素含有量を900 ｐｐｍ以下に抑えるには、精密蒸留を繰り返し行うことが必要 →工程増加 • 過酢酸法：脂環式系エポキシ化合物の合成に有効であ原料としてハロゲン化物を一切用いない酸化反応るが、多量の廃棄物（酢酸）が副生 →→ワンランク上のハロゲンフリー化合物を得ることができる。ワンランク上のハロゲンフリーエポキシ化合物を使ってみませんか！産業科学研究所生体・分子系研究部門助教市原潤子山口俊郎ワンランク上のハロゲンフリーエポキシ化合物の製造フローワンランク上のハロゲンフリーエポキシ化合物合成例透明性のエポキシ樹脂原料反応性希釈剤反応性希釈剤耐熱性エポキシ樹脂原料ワンランク上の阪大ハロゲンフリーエポキシを使って製造した御社の製品の評価してみませんか！ワンランク上のハロゲンフリーエポキシ製品反応性希釈剤阪大ハロゲンフリーエポキシ希釈剤 and/or 他社希釈剤エポキシ化合物ワンランク上の阪大ハロゲンフリーエポキシ and / or セロキサイド（CMCC）フィラーハロゲンフリーエポキシ製品の性能評価実用化に向けた課題企業への期待電子部品メーカー：「ワンランク上のハロゲンフリーエポキシ化合物が本当に必要な最終製品掘」「ワンランク上のハロゲンフリー製品の開発」エポキシ化合物メーカー：電子部品メーカーへの橋渡しおよび製造知財状況：固相系酸化反応システム：特許5376505号出願人：大阪大学、発明者：市原潤子、山口俊郎