主要製品の製造工程主要製品と製造工程塩安・ソーダ灰まず，原料塩を粉砕し，マグネシウム，カルシウム，硫酸イオン等の不純物を洗浄除去し，遠心分離機で脱水し精製塩とする。炭酸化工程からアンモニア吸収器を経て，送られて来た塩安母液を結晶槽に導き，ブラインで冷却しながら精製塩を添加すると塩安が晶出する。これを遠心分離機で脱水し，重油燃焼式回転乾燥炉に送って乾燥し，製品とし，貯蔵サイロに入れる。塩安工程から炭酸化工程に戻った塩安母液は炭酸化塔上部に送られ，下部からの炭酸ガスと反応しながら冷却され，粗重曹の結晶を析出する。これをフィルターで粗重曹と母液に分離し，粗重曹はソーダ灰工程に，母液を塩安工程に送る。粗重曹はライト灰 S TD（S te a m-tube -drye r）に送り，熱分解してライト灰とする。ここで発生する炭酸ガスは，洗浄後炭酸化工程へ送る。また，ライト灰に加水して 2 水塩結晶とし，デンス灰 S TD で乾燥してデンス灰とする。（注） ①蒸留工程，石灰炉工程，圧縮工程，原塩精製工程，冷凍工程は省略した。 ②ライト灰（軽灰）；微細粒子で見掛け比重が 1.0 以下のもの。デンス灰（重灰）；粒状で見掛け比重が 1.0 以上のもの。塩安・ソーダ灰製造工程図 − 245 − 重曹苛性ソーダ液を重曹用炭酸化塔の上部から送入し，塔底からの炭酸ガスと反応させ，冷却すると塔の下部で重曹結晶を析出してスラリーとなる。分離機で重曹と母液に分離し，重曹を乾燥篩分けて製品とする。重曹製造工程図苛性ソーダ（電解・水銀法）まず，塩水精製工程で，原塩を淡塩水で溶解し，カルシウム，マグネシウム，硫酸イオン，鉄および重金属などの不純物を除去し電解工程に送る。水銀法電解ソーダ製造工程では，精製塩水を TOS O 型電解槽に送り，これを電気分解して液体苛性ソーダ（48％），塩素，水素を製造する。陰極（水銀）で生成したナトリウムアマルガムは，解汞塔で加水分解され，48％苛性ソーダ製品となり，水素を発生する。一方，陽極で発生した塩素ガスは冷却，乾燥して製品とする。苛性ソーダ（水銀法）製造工程図苛性ソーダ（電解・隔膜法）隔膜法電解ソーダ製造工程では，精製塩水を複極式隔膜電解槽に送り，陽極に金属電極，陰極にアスベストの隔膜に覆われた金網を使用し，電気分解する。発生した塩素，水素は水銀法電解と同様に処理する。陰極室から出た薄い苛性ソーダ液は蒸発缶によって 48％苛性ソーダに濃 − 246 − 縮する。未分解の食塩は，冷却して析出した食塩を除去して，製品とする。苛性ソーダ（隔膜法）製造工程図燐酸反応槽に微粉砕した燐鉱石を入れ，硫酸で分解すると燐酸と 2 水石膏が得られる。次に石膏を分離した燐酸溶液中の，硫酸根，硅素等を薬品で除去して燐酸原液を作る。溶媒によって燐酸原液から燐酸を抽出して不純物を除去した精製燐酸を濃縮し，肥料用，工業用等向けにそれぞれ濃度調整を行い，食品用はさらに抽出精製を行って製品とする。75％燐酸はほとんど，隣接する東洋ストーファ㈱に送液する。石膏は結晶中に燐酸を含んでいるので，改質槽に送り，硫酸で処理した後過してα型半水石膏とする。これに石灰乳を加え造粒機で造粒し，製品とする。燐酸製造工程図 − 247 − 臭素海水中には，臭化マグネシウム，臭化ナトリウムなどの形で臭素が約 60P P ｍ存在している。海水に塩素を吹き込むと，塩素の作用で臭素が遊離する。海水そのままでは，P H ＝ 7.2 と弱アルカリ性であるため，遊離臭素が再び海水のアルカリを中和して臭素酸塩を生じ，また希薄状態では遊離臭素は加水分解して臭化水素酸となり，海水に再溶解する。これを防ぐため，海水を廃硫酸などであらかじめ P H ＝ 3 ∼ 4 に酸性化しておいてから，塩素を吹き込む。こうして遊離された臭素を含む海水を発生塔の上部から流下させ，下部より多量の空気をブロワーで送り，臭素を海水中から追い出す。発生塔からの臭素を含んだ空気を，つぎに吸収塔でカセイソーダなどのアルカリ液で洗い，臭素を吸収分離させる。臭素を吸収したアルカリ液は硫酸で中和後，蒸留塔で水蒸気蒸留して液体臭素が得られる。臭素製造工程図 E D B （ニ臭化エチレン） EDB は，当社が唯一の国産メーカーであり，エチレンと臭素の付加反応で製造している。反応塔の上部から臭素を供給し，下部からエチレンを吹き込み EDB を生成させる。反応液の一部は反応塔とクーラーの間を循環し，発生した反応熱を吸収する。反応塔から出た液は，微量の未反応臭素および副生臭化水素が溶解しているので，苛性ソーダ液で中和洗浄して臭素を除き，その液を水蒸気蒸留して副生高沸点物質を除去する。比重差で水を分離した EDB に乾燥空気を吹込み水分を除去して製品とする。 − 248 − ＥＤＢ製造素工程図塩素化パラフィン当社で作られる塩素化パラフィンには，粘稠な透明液体 3 種類および白色粉末の 4 種類がある。《商品名トヨパラックス A―40，145，150》パラフィンワックスまたはノルマルパラフィンを反応槽に入れ，塩素ガスを吹き込み，外部から冷却しながら塩素化する。反応終了後，反応生成物中に含まれている塩化水素・塩素を完全に除去し，安定剤を添加して製品とする。《トヨパラックス A―70》 40％塩素化パラフィンと溶媒をグラスライニング製反応槽に入れ，塩素含有量が 70％に達するまで塩素化する。反応は発熱反応なので外部から冷却しながら反応温度を制御する。排ガス中の溶媒は，水およびブラインで冷却凝縮させ回収する。反応終了後，反応生成物中に含まれている塩化水素，塩素を，水およびアルカリで洗浄，除去し，反応生成物中の溶媒は溶媒回収器で回収する。溶剤を除いた高粘度の塩素化パラフィンをベルトフレーカーで冷却固化させフレーク状とし，粉砕，分級して製品とする。塩素化パラフィン製造工程図 − 249 − 塩化ビニール（モノマー）エチレン，塩化水素および空気を反応器に導き EDC を合成する。反応器から出てくる生成物を冷却し EDC を分離する。未凝縮ガス中の EDC を中和塔でアルカリ洗浄し，吸収塔で EDC を回収する。得られた EDC を直接塩素化法の EDC と共に洗浄器でアルカリ洗浄し粗 EDC を得る。これをまず脱水塔で EDC に溶解している水分を除去し，ライト塔，ヘビー塔でそれぞれ低沸点物質，高沸点物質を除く。精製 EDC を分解炉に供給し，高温，高圧下で熱分解し塩ビモノマーと塩化水素を生成する。この分解ガスを冷却し塩酸塔で塩化水素ガスを分離する。分離したガスを反応塔に戻す。塩酸塔から出る塩ビモノマーを塩ビ塔で精製し製品とする。塩ビモノマー製造工程図高圧法ポリエチレン原料を 1 次圧縮機で約 300 気圧まで圧縮し，改質剤を加え，循環ガスを合わせて，2 次圧縮機でさらに 1000 気圧∼ 2500 気圧まで圧縮し触媒を注入すると重合反応が起り，ポリマーが生成する。反応器で生成したポリマーと未反応ガスを高圧分離機に送り，約 300 気圧まで減圧し，未反応ガスを一部分離する。それを低圧分離機に送り，常圧近くまで減圧しポリマーと未反応ガスを完全に分離し，分離したガスを加圧して原料エチレンに混入する。低圧分離器を出た溶融ポリマーを押出機で押出しカッターでペレットとする。ペレットは用途に応じ添加剤を加え混練して再度ペレット化し袋詰めして製品とする。 − 250 − 高圧法ポリエチレン製造工程図クロロプレンゴムブタジェンと塩素との混合ガスを，反応器で反応させると，1.4. ジクロロブテン―2 と 3.4 ジクロロブテン―1 の混合物が得られる。これを脱ガスして 1.4 分離塔に送り，1.4 ジクロロブテン―1 の一部を 1.4 ブタンジオール， THF 工程に送る。残りを異性化器に送り触媒によって異性化し，全部 3.4 ジクロロブテン―1 とする。これを反応器に送って苛性ソーダを加え，粗クロロプレンを得る。これを蒸留塔に送って塩分を除き，さらに精留塔で精留するとクロロプレンモノマーとなる。このクロロプレンモノマーを重合器に送り，乳化剤と重合開始剤を加えて乳化重合を行い，ラテックスとする。これを酸で中和し，冷却した回転ドラムに送って，表面にクロロプレンゴムを析出させ，洗浄，乾燥してシートとし，細いロープ状に裁断しさらに切断してチップ状の，製品とする。クロロプレンゴム製造工程図 − 251 − トリクロロエタン塩ビモノマーと塩素ガスを反応器に入れ，触媒を加えて反応させ，1.1.2. （商品名トヨクリーン）トリクロロエタンを得る。また，塩ビ工場からの重質廃液を蒸留し，1.1.2. トリクロロエタンを回収する。 1.1.2. トリクロロエタンと石灰乳を反応器に入れ，攪拌しながら加熱して塩化ビリニデンを発生させ，これを蒸留精製する。塩化ビニリデンと塩酸ガスを反応器に入れ，触媒を加えて反応させ， 1.1.1. トリクロロエタンを生成し，水洗して触媒と塩酸を除去する。粗 1.1.1. トリクロロエタンを蒸留により精製し，さらに安定剤を添加して製品とする。トリクロロエタン製造工程図 − 252 − セメント当社のポルトランドセメントの製造は，乾式工程と湿式工程の 2 系列があり，原料は石灰石，粘土，軟硅石，鉄滓などである。以下主流である乾式について述べる。石灰石と粘土質原料の 2 系列に分け，それぞれの系列で乾燥，微粉砕し，コンピューターで原料成分になるように調合してブレンディングサイロに送る。焼成工程は，サスペンションプレヒーター（以下 S P とよぶ）の上部から原料を供給し，S P 内を浮遊させて排ガスと熱交換させ，サイクロンで捕集する操作を 3 段に行い，さらに助燃炉に導き，重油燃焼によって分解を早めて底部サイクロンに戻し，キルンに送入する。キルン内で約 1.450 度 C まで加熱してセメントクリンカーに焼成し，これを急冷する。クリンカーと石膏を仕上ミルで，微粉砕して混合し製品とする。セメント製造工程図 − 253 −