固体電子物性特論 第4回 石橋隆幸 講義ファイルのダウンロード http://mst.nagaokaut.ac.jp/~t_bashi/ppt/ppt2009.html 授業のファイル(物質・材料系内からのみアクセス可) 固体電子物性特論 第1回 結晶と逆格子 (2009.4.20)固体電子物性特論09-1.ppt 第2回 フォノン (2009.4.27)固体電子物性特論09-2.ppt 第3回 エネルギーバンド (2008.5.1)固体電子物性特論09-3.ppt 第4回 金属、半導体の電子分布 (2008.5.11) 第5回 p-n接合 (2008.5.18) 第6回 光学特性、磁気特性 (2008.5.25) 第7回 超伝導 (2008.6.1) 今日の内容 • エネルギーバンド – バンドの形成 • 状態密度 • フェルミ分布関数 – 金属のバンド – 半導体のバンド • 真性半導体 • 外因性半導体 ブロッホ関数 uk (k)e ikr n=1, 2, 3, …. N a 1次元の場合を考えてみる 周期ポテンシャル V(x) V(x na) (x Na) (x) (周期的境界条件を考慮) 波動関数 演習 波動関数を (x a) C (x) とすると (x) はどのような関数になるか 金属、半導体、絶縁体 導電率 (conductivity) 抵抗率 (resistivity) 1 cm1 cm 1 エネルギーバンドの構造 金属の場合 電子が取 りうる準位 がある 準位がない 許容帯 禁制帯 許容帯 E 電子が つまっている エネルギーバンドの構造 半導体、絶縁体の場合 E 許容帯 電子がない 禁制帯 許容帯 電子がつまっ ている 禁制帯の幅の大きさに よって分類 例 Si : 1.1 eV ダイヤモンド : 5.6 eV 半導体と絶縁体 おおよそ3 eVが目安 電子分布 どのように電子が分布するか 分布関数 電子が占める確率 状態密度関数 単位体積当たりの電子密度 分布関数と状態密度関数を掛け合わせたものが 電子分布を表す。 フェルミディラック分布関数 1 f () f 1 exp kB T f フェルミエネルギー f のとき 1 f () 2 状態密度関数 統計量子力学より とdの間にある状態密度は 32 V 2m 12 g()d 2 2 d 2 g() 状態密度関数 金属の場合 N 0 g() f ()d V 2m f 0 2 2 3 32 n N V 5 1022 cm3 とすると f 0 4.9 eV 58000Kの温度に相当 自由に動き回れる電子の もつエネルギーは フェルミエネルギー 半導体の場合 下側の許容帯は電子 が詰まっている 電子・正孔対 正孔ができる フェルミレベルは 禁制帯の中 正孔、電子ともに動き回る ことができる。 ただし有効質量が異なる バンドギャップと色 1240 / h 1.5 eV 2.0 eV 2.5 eV 3.0 eV 3.5 eV コニカミノルタのホームページより ダイヤ 5.6 eV ZnS 3.5 eV CdS 2.6 eV GaP 2.2 eV HgS 2.0 eV GaAs 1.5 eV Si 1.1 eV 半導体の色 • 透過光の色 diamond http://www.sei.co.jp/ Ge http://www.ii-vi.com/ – バンドギャップより低 いエネルギーの光を 全部通す – Eg>3.3eV:無色透明 ZnSe, ZnS – Eg=2.6eV:黄色 Si http://www.ii-vi.com/ http://www.anstro.gov.au/ – Eg=2.3eV:橙色 – Eg=2.0eV:赤色 – Eg<1.7eV:不透明 • 反射光の色 GaAs http://www.ii-vi.com/ HgS www.lotzorox.co m/cinn3b.JPG 真性半導体の電子分布 (不純物を添加していない) 電子 * 3 2 V 2me 12 ge 2 2 c 2 f f () exp ボルツマン分布 kB T 正孔 * 3 2 V 2mh 12 gh 2 2 v 2 f * * 1 f () exp m , m は電子、正孔の有効質量 e h kB T 真性半導体の伝導帯の電子密度 * 3 2 f V 2me 12 n 2 2 c exp d c 2 kB T c f n N c exp k B T m * k T N c 2 e B2 2 32 N c 伝導帯の電子に対する 実効状態密度 真性半導体の 価電子帯のホール密度 * 3 2 f v V 2mh 12 p 2 2 v exp d 2 k B T v f p N v exp k B T m * k T N v 2 h B2 2 32 N v 価電子帯のホールに対する 実行状態密度 真性半導体の伝導帯の電子密度 c f n N c exp k B T v f p N v exp k B T m * k T N c 2 e B2 2 m * k T N v 2 h B2 2 32 32 N c 伝導帯の電子に対する 実効状態密度 N v 価電子帯のホールに対する 実行状態密度 半導体中の伝導体の電子と価電子帯の正孔の密度は 実効状態密度と温度およびフェルミ準位で決まる。 演習 V 2me * n 2 2 2 32 c 12 c f exp d kB T この積分を実行して、 c f n N c exp k B T m * k T N c 2 e B2 2 32 ヒント f x 変数変換 kB T を導きなさい。 12 0 t exp t dt 2 真性キャリア密度 真性半導体ではn=pなので g 12 p n ni N c N v exp 2k T B また np ni 2 真性キャリア密度は 電子、正孔の有効質 量、温度、バンド ギャップで決まる 半導体 禁制帯幅 電子の有効質量 正孔の有効質量 Si 1.11 0.32 0.64 Ge 0.67 0.22 0.29 GaAs 1.43 0.067 0.48 GaP 2.26 0.37 0.60 ni N c N v 12 g exp 2k T B アレニウスの式 E k Aexp k T B E 活性化エネルギー 化学反応など熱活性に 関する多くの現象に 見られる関係 真性フェルミ準位 f i c v 2 kB T N v ln 2 N c me mh のとき N N なので v c フェルミ準位はバンドギャップの中央 外因性半導体 n型 ドナー p型 アクセプタ Si結晶に 5つの価電子を持つPやAs を添加した場合 5つの電子のうち4つは共有 結合に使われ、1つ余る。 この電子は伝導電子となる。 n型半導体 3つの価電子を持つBなどを 添加した場合、共有結合に使 われる電子が一つ足りない。 これが正孔となる。 p型半導体
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