Technical-News RAMAN によるシリコンの分析

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RAMAN によるシリコンの分析
RAMAN-02
株式会社イオンテクノセンター
電子材料,無機材料の構造物性の評価には光と分子の散乱現象を分析するレーザーラ
マン分光分析装置(RAMAN)が用いられています。
ここでは RAMAN(ジョバイボン:Ramanor U-1000)によってシリコン材料を分析
した例を示します。結晶構造によってラマンスペクトルの違いが生じるため単結晶,多結
晶,およびアモルファスを区別することができます。単結晶と多結晶を比較すると多結晶
の方が若干低波数側にピークシフトし強度が下がっています。
またイオン注入によって生じた欠陥をスペクトルのピーク位置,半値幅,強度などを解
析することによって結晶子サイズを評価することができます。
結晶構造の異なるシリコンのラマンスペクトル
単結晶
多結晶
400
420
440
460
480
500
520
540
Raman shift(cm^-1)
アモルファス
×10
400
お問合せ窓口
420
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Raman shift(cm^-1)
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