エレクトロニクス産業におけるレーザ微細加工技術

OITDA
一般財団法人光産業技術振興協会
平成 28 年度多元技術融合光プロセス研究会第 3 回研究交流会プログラム
「エレクトロニクス産業におけるレーザ微細加工技術」
日時：平成 28 年（2016 年）11 月 8 日（火） 13:00～17:10
場所：産業技術総合研究所臨海副都心センター別館バイオ・IT 融合研究棟11F 会議室1
交通：東京臨海新交通ゆりかもめテレコムセンター駅下車徒歩4分
http://www.aist.go.jp/waterfront/ja/access/
担当幹事：坂井哲男（東芝）、鎌田将尚（ソニーグローバルマニュファクチュアリング＆オペレー
ションズ）、中井出（パナソニック）
【代表幹事挨拶】小原實（慶應義塾大学）
【企画趣旨説明】第 3 回研究交流会担当幹事
13:00-13:05
13:05-13:10
【講演 1】高速高精細マイクロ光造形法を用いた、民生品コアパーツの量産
藤田修二（ソニー株式会社）
【講演概要】（内容調整中）
13:10-13:50
【講演 2】赤外フェムト秒レーザによるシリコンの非線形 3D 微細加工
伊藤義郎（長岡技術科学大学）
13:50-14:30
【講演概要】シリコン（Si）が吸収しない波長の 1552nm、900fs のフェムト秒レーザ光を用いて、
Si の非線形吸収による微細加工を試みた。Si 基板表面にレーザ光を集光、走査し、表面に微細な溝を
形成できた。Si パッケージ中の水晶振動子に対してレーザーパルスを集光照射し、周波数の増方向調
整を実現できた。ところが、基板裏面へ集光した場合には、アブレーション加工は生じなかった。高
い屈折率のため収差が大きくなったと考え、補正環による収差補正を試みたが、成功していない。裏
面の加工は、KOH 水溶液を用いた湿式エッチングにより実現できた。
【講演 3】陽電子放射断層撮像（PET）装置用シンチレータ結晶へのレーザ加工応用
森谷隆広（浜松ホトニクス株式会社）
14:30-15:10
【講演概要】 PET（陽電子放射断層撮像法）は、陽電子放出核種で標識した薬剤を利用して生体機
能をイメージングする手法であり、がん検診や脳機能検査などに応用されている。一般的に、PET 装
置の放射線検出部にはシンチレータ結晶を 2 次元もしくは 3 次元状に配列したアレイが用いられてお
り、高位置精度のシンチレータアレイを効率良く製作する技術が求められる。本講演では、PET 用シ
ンチレータアレイの製作工程に、レーザによる内部集光加工技術を適用した事例を紹介し、本技術の
利点と課題について説明する。
･･･････休憩（15 分）･･･････
【講演 4】 LCOS 型空間光位相変調器を用いたワンショット 3D レーザ加工の検討（仮）
堀田雄二（サンテック株式会社）
【講演概要】（内容調整中）
15:25- 16:05
【講演 5】レーザによる小径深孔加工
比田井洋史（千葉大学）
16:05- 16:45
【講演概要】著者らが行っている UV レーザを用いた小径（直径 10μm 以下）かつ高アスペクト
比穴（100 以上）穴あけ法について紹介する。まず高アスペクト比が可能となるための条件などを紹
介する。その後、異なった材料を重ねてレーザにより穴あけすることで、穴あけと同時に、上面の材
料内面に下面の材料を堆積させ、穴あけと同時に内面への異種材料の成膜を行う手法について紹介す
る
【会員からの話題提供】スペクトラ・フィジックスのレーザを用いたレーザ微細加工技術
大野剛（スペクトラ・フィジックス株式会社）
16:45-17:05
【講演概要】近年、各種産業用レーザ微細加工の裾野はますます拡がりつつある。特に、モバイル
デバイスなどに用いられる電子部品やその周辺機器、次世代クリーンエネルギーへの応用デバイスな
どは、今後さらにレーザ微細加工が多用されることが期待される。スペクトラ・フィジックスが供給
するフェムト秒からナノ秒までの各種、産業用微細加工用レーザを、それらを用いた代表的なレーザ
微細加工アプリケーション例と合わせて紹介する。
【次回研究交流会の案内、交流会会場の案内等】
17:05-17:10
交流会（ミニパーティ）
17:20-19:00
今回も恒例となりました交流会を開催します。会員相互の交流、講師や幹事との気軽なディスカッション
にご活用いただけますので、是非ご参加ください。参加費は 1,000 円です。
会場：青海フロンティアビルグリーンズシェフ
http://www.tokyo-teleport.co.jp/b/tel/restaurant/?page_id=184
【問合せ・参加申し込み方法】
参加を希望される方（会員含む）は、下記問合せフォームへ「第 3 回研究交流会参加希望」と明記し
てお申込み願います。詳しくは、下記研究会 HP をご覧下さい。
事務局一般財団法人光産業技術振興協会
潮田伊織
東京都文京区関口 1-20-10 住友江戸川橋駅前ビル 7 階
TEL：03-5225-6431／FAX：03-5225-6435
研究会 HP ： http://www.oitda.or.jp/main/study/tp/tp.html
問合せフォーム： http://www.oitda.or.jp/main/study/tp/tp_postmail.html

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