OITDA 一般財団法人光産業技術振興協会 平成 28 年度多元技術融合光プロセス研究会第 2 回研究交流会プログラム 「光応用プロセスの基礎と先端技術」 日 時：平成 28 年（2016 年）8 月 19 日（金） 13:00～17:10 場 所：産業技術総合研究所 臨海副都心センター別館 バイオ・IT 融合研究棟11F 会議室1 交 通：東京臨海新交通ゆりかもめ テレコムセンター駅 下車徒歩4分 http://www.aist.go.jp/waterfront/ja/access/ 担当幹事：伊澤 淳（ＩＨＩ）、杉岡 幸次（理化学研究所）、池上 浩（九州大学） 【代表幹事挨拶】 小原 實（慶應義塾大学） 【企画趣旨説明】 第 2 回研究交流会 担当幹事 13:00-13:05 13:05-13:10 【講演 1】 レーザ熱加工と革新的設計生産技術開発 塚本 雅裕（大阪大学 接合科学研究所） 13:10-13:50 【講演概要】 レーザ溶接やレーザクラッディング（肉盛溶接）等の熱加工は、製造業にとって非常 に重要な技術である。本講演では、レーザ熱加工例とともに 3D プリンタの基盤技術であるレーザク ラッディング技術を高度化するためのプロジェクト、SIP 革新的設計生産技術「高付加価値設計・製 造を実現するレーザーコーティング技術の研究開発」についても紹介する。 【講演 2】 杉岡 超短パルスレーザ加工の基礎と応用 幸次（理化学研究所） 13:50-14:30 【講演概要】 超短パルスレーザは、ピーク強度が極めて高い超短パルス光を発するため、従来のレ ーザでは行えなかった高性能加工を実現し、レーザ加工分野に新たな進展をもたらした。本講演では まず超短パルスレーザ加工のメカニズム・特長を説明する。さらに、精密微細加工、ナノ加工、3 次 元加工、ビーム整形加工等における最近の研究•開発の進展を紹介する。 【講演 3】 1 次元規制液面型 3D プリンタ「RECILS」の紹介 湯本 潤司（東京大学） 14:30-15:10 【講演概要】 3D プリンタは、自由な造形が可能という特徴を生かし、様々な応用が検討されてい るが、高精細、高速性等の特性向上は、未だに大きな課題である。我々は、光硬化樹脂と半導体レー ザを用いた 1 次元規制液面型 3D プリンタ RECILS の開発を進めており、造形分解能 70μm、造形速 度 100cc/h を実現し、完全中空構造の造形も可能である。その技術と共に、3 次元マイクロ流路、軽 量強固な小型構造材、微小ハニカム構造等への応用を紹介する。 ･･･････ 休憩（15 分）･･･････ 【講演 4】 池上 電子デバイス製造技術適用を目指した次世代レーザプロセスの研究開発 浩（九州大学 ギガフォトン Next GLP 共同研究部門） 15:25- 16:05 【講演概要】 本部門では、様々な大学・研究機関や企業との共同研究を行い、主に電子デバイス製 造技術への適用を目指した次世代レーザプロセスの研究開発を行っている。本講演では「SiC パワー デバイスプロセスコスト低減を目指した SiC 中への不純物注入と同時活性化」「プリンテッドデバイ ス製造技術適用を目指した IGZO-TFT 特性改善技術、poly-Si TFT への不純物注入技術」「3D-IC 実 現のための高品質 GeSn 薄膜の低温形成技術」「リソグラフィ工程不要のグラフェン直接描画技術」 など最近の成果を紹介する。 【講演 5】 木村 フラッシュランプアニール装置及びアプリケーションの紹介 貴弘（株式会社 SCREEN ホールディングス） 16:05- 16:45 【講演概要】 ミリ秒単位の瞬間加熱が可能なフラッシュランプアニール（FLA）は、従来の高速熱 処理プロセス（RTP）に対してより浅い半導体イオンドーピングプロセスに必要不可欠な技術となっ ている。弊社ではこの FLA について光照射波形のコントロールを行うことにより、活性化アニール を中心に欠陥回復、ゲートメタル焼成等種々の加熱モードに対応することを可能とした。 本講演では、FLA システム及び適用アプリケーションの概要と、将来への応用展開について紹介す る。 【会員からの話題提供】 3D ガルバノヘッドユニットの高出力対応 清宮 雅明（株式会社ワイ･イー･データ） 16:45-17:05 【講演概要】 高出力レーザを用いた溶接・切断などの用途において、ガルバノスキャナを応用した スキャニングシステムは、レーザトーチなどの固定光学系を用いたシステムに比べ、スキャン速度に おいて圧倒的な優位性を持ち、生産性の向上に寄与している。従来弊社では 6kW のアプリケーショ ンに供するヘッドユニットを提供していたが、市場の更なるハイパワー化の要請に応え、8kW での連 続照射に耐える製品の開発を行ったので、紹介する。 【次回研究交流会の案内、交流会会場の案内等】 17:05-17:10 交流会（ミニパーティ） 17:20-19:00 今回も恒例となりました交流会を開催します。会員相互の交流、講師や幹事との気軽なディスカッション にご活用いただけますので、是非ご参加ください。参加費は 1,000 円です。 【問合せ・参加申し込み方法】 参加を希望される方（会員含む）は、下記問合せフォームへ「第 2 回研究交流会参加希望」と明記し てお申込み願います。詳しくは、下記研究会 HP をご覧下さい。 事務局 一般財団法人光産業技術振興協会 潮田 伊織 東京都文京区関口 1-20-10 住友江戸川橋駅前ビル 7 階 TEL：03-5225-6431／FAX：03-5225-6435 研究会 HP ： http://www.oitda.or.jp/main/study/tp/tp.html 問合せフォーム ： http://www.oitda.or.jp/main/study/tp/tp_postmail.html
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