機能性原子薄膜材料の新展開-成膜技術

2016 年
第 77 回応用物理学会秋季学術講演会
17.ナノカーボン
分科企画シンポジウム
「機能性原子薄膜材料の新展開-成膜技術-」
Trend of Functional Atomic Thin Film Research-Thin Film Growth-
平成 28 年 9 月 14 日(水曜日)13:15~18:15
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会場 A33 (301A)
主旨
次世代ナノエレクトロニクス材料として注目を集めているグラフェンや二硫化
モリブデン等の機能性原子薄膜。「機能性原子薄膜」シンポとして 3 回目にあた
る今回は、実用化に向けた鍵の一つである高品質大面積化に向けた成膜技術を取
り上げます。若手を中心とした招待講演とパネルディスカッションを軸として、
一般講演による研究成果も踏まえて、「全員参加型」の議論を進めていきます。
皆様のご参加をお待ちしております。
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招待講演(敬称略)
吾郷 浩樹(九州大学産学連携センター、JST さきがけ)
「二次元原子薄膜の CVD 成長とそのフロンティア」
宮田 耕充(首都大学東京 大学院 理工学研究科)
「面内原子層ヘテロ接合の成長と評価」
林 賢二郎(株式会社富士通研究所)
「CVD 法による遷移金属ダイカルコゲナイド膜成長における基板依存性」
小野満 恒二(NTT 物性科学基礎研究所)
「2 インチ GaAs ウエハー上に層数制御したMBE成長 MoSe2」
石原 聖也(明治大学)
「スパッタ MoS2 膜に対する有機硫黄化合物を用いた硫化アニール効果」
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パネルディスカッション:モデレータ
島田 敏宏(北海道大学工学研究院)
-カルコゲナイド系層状物質薄膜成長の現状と諸問題-
シンポジウム世話人:安藤 淳(産総研)
,上野 啓司(埼玉大)
,
吹留 博一(東北大)
,佐藤 信太郎(富士通研)
,島田 敏宏(北大)