機能性原子薄膜材料の新展開-成膜技術

2016 年
第 77 回応用物理学会秋季学術講演会
17.ナノカーボン
分科企画シンポジウム
「機能性原子薄膜材料の新展開-成膜技術-」
Trend of Functional Atomic Thin Film Research－Thin Film Growth－
平成 28 年 9 月 14 日（水曜日）13:15～18:15
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会場 A33 (301A)
主旨
次世代ナノエレクトロニクス材料として注目を集めているグラフェンや二硫化モリブデン
等の機能性原子薄膜。
「機能性原子薄膜」シンポとして 3 回目にあたる今回は、実用化に向け
た鍵の一つである高品質大面積化に向けた成膜技術を取り上げます。若手を中心とした招待
講演とパネルディスカッションを軸として、一般講演による研究成果も踏まえて、
「全員参加
型」の議論を進めていきます。皆様のご参加をお待ちしております。
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招待講演（敬称略）
吾郷浩樹（九州大学産学連携センター、JST さきがけ）
「二次元原子薄膜の CVD 成長とそのフロンティア」
宮田耕充（首都大学東京大学院理工学研究科）
「面内原子層ヘテロ接合の成長と評価」
林賢二郎（株式会社富士通研究所）
「CVD 法による遷移金属ダイカルコゲナイド膜成長における基板依存性」
小野満恒二（NTT 物性科学基礎研究所）
「2 インチ GaAs ウエハー上に層数制御したＭＢＥ成長 MoSe2」
石原聖也（明治大学）
「スパッタ MoS2 膜に対する有機硫黄化合物を用いた硫化アニール効果」
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パネルディスカッション：モデレータ島田敏宏（北海道大学工学研究院）
－カルコゲナイド系層状物質薄膜成長の現状と諸問題－
「実現したいグレインサイズ・結晶性・ストイキオメトリは？」
パネラー（敬称略）: 影島愽之（島根大学大学院総合理工学研究科）、實宝秀幸（株式会
社富士通研究所）
、吾郷浩樹（九州大学）
、宮田耕充（首都大学東京）
、林賢二郎（富士通
研）
、小野満恒二（NTT）
、石原聖也（明治大学）
シンポジウム世話人：安藤淳（産総研）
，上野啓司（埼玉大）
，
吹留博一（東北大）
，佐藤信太郎（富士通研）
，島田敏宏（北大）

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