ナノテクノロジーを支える基礎技術と 開設講習名 講 師 山本節夫・浅田裕法・栗巣普揮 デバイスへの応用 講習会場 山口大学常盤キャンパス 開 設 日 平成 27 年 8 月 22 日 受講者募集期間 履修認定対象職種 平成 27 年 5 月 26 日∼平成 27 年 6 月 3 日 受講料等総額 教諭 6,000 円 主な受講対象者 会場所在地 時間数 履修認定時期 山口県宇部市 6 時間 受講予定人数 40 人 平成 27 年 9 月 30 日まで 中学校理科，高等学校理科・工業担当教諭 (うち受講料以外の経費） 【到達目標】 ナノテクノロジーを支える基礎技術として、真空技術およびナノサイズで構造やサイズを制御した材料製造技術やナノサイズの微細加 工技術について基礎的事項を理解するとともに、それらの技術を駆使して製造される、ナノテクノロジーが詰められた身近な代表的電子 デバイスをより上げて、動作原理、構造、ハードディスクの製造プロセス、ハードディスクの性能について学び、ナノテクノロジーの重要性 とそれがもたらす電子デバイスの可能性について考えます。 【講習の概要】 本講習は、以下に述べる３つのテーマの講義で構成されています。 まず第一のテーマは「真空の世界」です。最初に、実際の真空は、非常に多数の原子・分子が猛スピードで飛び交っているダイナミズ ムに溢れた世界であることを説明します。続いて、真空を作る方法とそこで使用する装置や部材についての説明、真空を測る方法、真空 ならではの特徴とそれを巧みに利用する方法についての説明を行います。最後に、ナノテクノロジーと真空との関わりを、電子デバイス 製造装置を実例にあげて紹介します。 第二のテーマは「ナノサイズで制御した材料の製造技術とナノサイズの微細加工技術の基礎」です。ここでは最初に、薄膜を製造する 技術（物理的気相成長法：PVD 法と化学的気相成長法：CVD 法）について説明した後、薄膜を評価する技術、具体的には薄膜の厚み 測定、結晶学的特性の分析、組成分析・構造分析、機械的特性・電磁気的特性の測定を行う技術を説明します。最後に、材料を微細に 加工してデバイスを製作するための、微細な加工原図（フォトマスク）の作成技術および光や電子ビームを活用して微細加工を行う技 術：フォトリソグラフィーと電子線リソグラフィ技術について説明します。 第三のテーマは「ナノテクノロジー満載の電子デバイス」です。最初に、ナノテクノロジーが利用された身近なデバイスの実例としてハ ードディスク装置を取り上げて、その動作原理、構造、ハードディスクの製造プロセス、最新のハードディスクの性能について紹介しま す。続いて、ナノテクノロジーの重要性とナノテクノロジーがもたらす新たなデバイス実現の可能性について説明します。 【評価の方法･評価基準】 評価の方法： 筆記試験 評価基準： 合 格： 講義の内容の基礎的な部分を理解し、説明できる。 不合格： 上記以外 【テキスト・参考文献】 事前にテキスト（資料）を配布予定。 【受講者への伝達事項】 特になし。
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