平成 26 年度ソフトマター中性子散乱研究会主催：中性子産業利用推進協議会茨城県中性子利用促進研究会 (一財)総合科学研究機構（CROSS 東海） J-PARC/MLF 利用者懇談会フロンティアソフトマター開発産学連合ビームライン開催日：平成 27 年 3 月 12 日(木) 10:00-16:45 場所：研究社英語センター大会議室〒162-0825 新宿区神楽坂 1-2 TEL 03-3269-4331 http://www.kenkyusha.co.jp/modules/11_meetingroom/index.php?content_id=1 参加費：参加費は無料ですが，資料代として 5,000 円いただきます．なお，中性子産業利用推進協議会の会員の皆様と大学，研究機関の方は無料です．それ以外の方は事務局までご相談ください．資料代は当日徴収させていただきます． ※ 協議会の会員企業・団体については下記 URL をご参照ください． http://www.j-neutron.com/participation/ テーマ：GISAXS と GISANS および SANS の産業利用に向けたプラットホームの構築趣旨：斜入射小角Ｘ線散乱(GISAXS)を使ったソフトマター薄膜の研究は，SPring-8 などを利用して非常に多く行われている．例えば，SPring-8 の BL03XU では，フロンティアソフトマター開発産学連合体(FSBL)による産学連携を通して，新しい研究基盤が形成されつつある．そこで，本研究会では，この FSBL による GISAXS の研究を中性子利用へと拡げることで GISAXS/GISANS を用いたソフトマター薄膜研究への産業利用基盤の構築を目的とする．プログラム 10:00 開会挨拶主査金谷利治(京都大学) 10:05-10:20 J-PARC/MLF の概要と中性子の産業利用林眞琴(茨城県) ＜チュートリアル＞ 10:20-10:50 SPring-8 BL03XU における GISAXS の現状と GISANS への期待小川紘樹 (京都大学) 10:50-11:30 高分子表面・界面・薄膜のキャラクタリゼーションと視斜角入射 X 線・中性子散乱への期待田中敬二 (九州大学) 11:30-12:00 GISAXS/GISAN によるソフトマターの構造解析竹中幹人 (京都大学) 12:00-13:00 昼食＜実験装置＞ 13:00-13:30 BL20「iMATERIA」における小角散乱機能小泉智(茨城大学) 13:30-14:00 J-PARC/MLF BL17 偏極中性子反射率計「写楽」の現状山崎大 (J-PARC ｾﾝﾀｰ) ＜産業応用＞ 14:00-14:30 GISAXS による高分子フィルムのその場評価技術宮崎司 (日東電工) 14:30-15:00 両親媒性高分子の膨潤過程での秩序構造形成評価鎌田洋平(クラレ) 15:00-15:10 休憩 15:15-15:45 15:45-16:15 （調整中）小池淳一郎(DIC) SANS/SAXS によるフェノール樹脂の構造解析和泉篤士(住友ベークライト) 16:15-16:45 有機半導体薄膜の GI-SAXS によるナノ構造解析（仮題）」小島優子(MCHC) 16:45-16:50 終了挨拶交流会：17:10～19:10 近くの地ビールダイニング「ラ・カシェット」で交流会を開催します．参加費は 3,000 円です．施設側とユーザーのざっくばらんな意見の交換の場になります．是非ご参加ください．参加希望者は事前に登録してください．当日も受け付けます．会費は当日受け付けます．なお，事前に登録されて当日キャンセルされた場合には会費を申し受けます．参加申込み> 申込み先：中性子産業利用推進協議会事務局桐原由美子 E-mail: [email protected] (1)名前，(2)所属，(3)連絡先(電話番号，E-mail address），(4)交流会への参加の有無をご記入の上、メールにてお申込みください。＜会場へのアクセス＞研究社英語センター所在地：〒162-0825 東京都新宿区神楽坂 1-2 TEL：03-3269-4331 JR総武線飯田橋駅西口徒歩約3分東京メトロ南北線・有楽町線飯田橋駅 B2a，B3 出口徒歩約 7 分＜交流会場のご案内＞会費：3,000 円時間：17:30～19:30 会場：神楽坂ラ・カシェット http://la-cachette.co.jp/ 美味しい地ビールを楽しめるところです．〒162-0825 東京都新宿区神楽坂 1-10 三経第 22 ビル 3F TEL: 03-3513-0823