Klarity Defect自動解析ソフトウェアがTSMCの300mmウェーハ量産

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KLA-Tencor の Klarity Defect 自動解析ソフトウェアが
TSMC の 300 mm ウェーハ量産ファブ 12 で採用される
信頼性、拡張性、およびサポートが採用の決め手となる
カリフォルニア州サンノゼ(2002年4月23日)発。KLA-Tencor Corp. (NASDAQ: KLAC)は本
日、Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) (NYSE: TSM)が同社の
ファブ12で、他の欠陥管理ソフトウェア製品を包括的に評価した結果、KLA-Tencorの
Klarity Defect自動解析および欠陥データ管理システムの導入を決定したと発表しました。
TSMCのファブ12は最先端のICの量産に使用されている最新の300 mmウェーハ量産ファブ
です。
TSMCのファブ12の欠陥管理課長であるI-Lu Wu氏によると、Klarity Defectの採用には、そ
の信頼性、サポート、拡張性、およびインテグレーションの容易性が決め手となりました。「当
社は300 mm量産環境で欠陥解析を行うために、Klarity Defectを購入してTSMCのファブ12
に導入しました。」と、Wu氏は述べています。
Klarity Defectは、KLA-Tencorのウェーハ検査装置、レビューシステム、および欠陥分類
ツールによって生成された欠陥データの自動解析を行うことによって、ファブのエンジニアが
歩留まり改善サイクルを促進できるように設計されています。その結果、半導体メーカは迅速
に対策を実施し、短期間で歩留まりを改善することができます。自動インライン欠陥解析およ
び管理システムであるKlarity Defectは、ユーザ指定のイベントが発生したときに自動的にト
リガされる解析レシピに専門的な意思決定プロセスを採用できる最初のツールです。このシ
ステムのユーザインタフェースでは、直感的なグラフィカルな方法で解析レシピを作成するこ
とができ、自動レポート生成機能がさらに使いやすくなっています。欠陥による異常がリアル
タイムで特定され、ユーザのコンピュータ画面、プリンタ、またはWebページに直接レポートさ
れます。Klarity Defectはユニークな位置付けにあり、KLA-Tencorのウェーハ検査装置とレ
ビューシステムを利用して、Previous layer欠陥を比較する自動欠陥ソース解析や、実際の
ツールを使用した社内インテグレーションテストのような機能を提供します。このテスト機能に
より、ソフトウェアの導入時に接続とインテグレーションに関する問題が減ります。
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「歩留まりの問題を迅速に解決することは、生産性の向上と製造コストの削減という点でファ
ブの利益に直接つながり、お客様にとって損にはなりません。1999年にKlarity Defectを発売
して以来、90台以上の完成されたシステムが世界中の大手半導体企業で設置されてきまし
た。TSMCにおける今回の成功は、Klarity Defectがお客様に提供する利益をはっきりと示す
ものです。」と、KLA-Tencorの欠陥および歩留まりソリューション部長兼副社長Gene
Lamoreauxは述べています。
Klarity Defectの意思決定フロー解析(DFA)を使用すると、ファブのエンジニアがシステムに
登録して、エンジニアによるデータ解析およびレポート作成と同様のプロセスを実行できるの
で、ファブのエンジニアやツールオペレータは出力された解析データに対してより迅速に簡単
に対策を実施することができます。以前は専門家の介入が必要であった複雑な解析や意思
決定フローを、あらかじめ定義されたルーチンに従って自動的に実行できるます。その一方で、
カスタマイズしたレポートをあらかじめ指定されたスケジュールに従って、または特定のイベン
トの発生時に自動的に生成することもできます。
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