機器利用講習会「超微細光学素子を作る」（1日目）電子ビーム描画装置による回折格子のレジストパターン作製実習大阪府立産業技術総合研究所フォトニクス開発支援センター本日の予定 1. 簡単な電子ビーム描画装置及び本日行う作業の説明 2. 石英基板にレジスト塗布およびEB装置に導入 3. お昼休み（真空引き待ち） 4. EB装置の光学系調整および描画の開始 5. ファイルの変換作業の説明（EB描画中、省略する場合あり） 6. 現像作業 7. 作製した素子のSEM観察＊青字はクリーンルーム内で作業電子ビーム描画装置 JBX-5000SI 電子線源 LaB6 加速電圧 25KV or 50KV 試料サイズホルダーによる最小ビーム径 8nm つなぎ精度 60nm/40nm 重ね合わせ精度 60nm/40nm 描画方式ベクトルスキャン日本電子株式会社製本日作製する素子基板：1インチ角（25mm×25mm）石英レジスト：NEB－22A2 パターン：200nm&200nm line&space 200nm L&S 200周期 5mm 20μm 5μC/cm2 → 9μC/cm2 80μm レジストの種類と選択デジタル型レジスト名称 P/N 特徴 ZEP520 ポジ高解像度、低感度、安定 ZEP7000 ポジ低解像度、高感度、安定 NEB22 ネガ高解像度、高感度、不安定アナログ型レジスト名称 OEBR P/N 特徴ポジ低感度、安定、実績豊富 ZEP2000 ポジやや高感度、安定、厚塗り可能ポジ型レジストとネガ型レジストポジ露光現像 EB ネガ露光現像 EB 実際のプロセス（基板洗浄済み） OAPおよびレジスト塗布プリベークエスペーサ水洗 PEB エスペーサ塗布および乾燥現像電子線描画完成微細加工フローチャートパターンの準備基板の洗浄レジストの選択描画時間計算レジスト塗布必要ならばエスペーサー塗布 EB装置の調整必要ならばエッチング EB描画性能評価現像パターンファイル（j01ファイル）について目的のパターンを所定のフォーマットで作成する必要があります。フォーマットにはいくつか種類がありますが、今回はテキスト形式でパターンを作成できるj01フォーマットを用います。作成したファイルは、EB装置が理解できる形に変換する必要があります。今回用いるj01ファイルパターンファイルの変換とは作成したパターンファイルをEBが理解できる形式に変換する必要があります。時間があれば作業を行います。 j01、x01、GDSⅡパターンファイル convプログラム j51ファイル pchk6プログラムパターンチェック preadプログラムスキャナーデータジョブデックファイル、スケジュールファイルとはパターンを基板上のどの位置に描画するか等の情報を記述するものがjdf、sdfです。これらのファイルをコンパイルすることにより、最終的にマガジンファイル（実行）ファイルを作成します。ジョブデックファイル cmplプログラムレイヤーファイル＋スケジュールファイル schdプログラムマガジンファイルステージ座標について (-30500, 30500) (30500, 30500) (0, 0) (-30500, -30500) (30500, -30500)