MPPCの性能評価 学術創成会議 2007.4.3 筑波大学 須藤 山崎 •基礎特性の評価 •まとめ 評価項目 •ILC-11-025M 2006年10月のsample ( 1600-pixel ) Gain,光子検出効率,応答曲線 •S10362-11-025U 2006年12月のsample ( 1600-pixel ) Gain,光子検出効率,有感領域 Gain測定 (25℃) •新しいsampleの方がGainのΔV に対する変化率は小さく、Gainも少し低い 傾き( ΔGain / ΔV ) 2006.10 ~1.35×105 2006.12 ~1.1×105 光子検出効率測定 の Setup Φ0.5mm Blue LED 光子検出効率 (PDE) ~ 1光子の入射に対してそれを検出する確率 MPPCの光子検出効率は、光電子増倍管との応答比から求めた. μMPPC PDE MPPC = μPMT PDEPMT MPPC,PMT のPedestal のイベント数からPoisson 分布関数を用いて検出光電子数を求めた。 MPPC μ : Poisson分布の平均値 P0(μ) = e-μ = Npedestal / Nall μ= -ln( Npedestal / Nall ) MPPC WLSF :λ~ 500 nm Blue LED PMT PMT 0.5 mm 径 ピンホール PDE測定 PMTの量子効率分布 WSLFの発光スペクトル ( HPKによる測定 ) •この二つの分布からWLSFに対するPMTの PDEを求めた。 PDE結果 ILC-11-025 2006.10 PMT1 PMT2 PMT3 •Gain = 3×105 で PDE は 11~13% S10362-11025U 2007.01 入射光子数に対する応答曲線 • PMTを基準にMPPCの応答を調べた •逐次積分型ADCを用いた場合 •オシロのpulse height を用いた場合 1600 MPPC output [ pixels ] MPPC output [ pixels ] 1400 1200 MPPC 1000 800 600 PMT 400 200 0 0 •MPPCはpixel数より大きな出力をかえす 200 400 600 800 PMT output [ mV ] 1000 • ~4nsで鋭いピークが現れる •1600ピクセル相当の出力よりも小さい •信号を出した後の回復時間が短い( < 数ns ) ? →応答曲線の形は光信号の時間幅に依存する 1200 LASERを用いた測定 @ KEK-DTP • YAG Laser, = 532 nm • Pulse width ~ 2 nsec • Pulse rate ~ 8 kHz • Spot size ~ 1 m • 光量 ~ 1 p.e. 以下 1600-pixel MPPC 1600-pixel MPPC の顕微鏡写真 ILC-11-025 ( 2006.10) S10362-11-025U ( 2006.12 ) • ピクセルの受光面の形が変化 している 2006.10のsampleは長方形だった 有感領域 (2006.12 sample) 検出光電子数を用いて有感領域の割合を評価 • 検出光電子数が 50%MAX ≦ の領域を有感領域とすると 有感領域の割合は ~28% ( 2005冬のsample ~24% ) まとめ • 2006.10 と 2006.12 に送られたsample の測定を 行った • 新しいsampleはGainの変化率が低くなった • PDEはほぼ変わっていない • 入射光子数に対する応答はピクセルの回復時間 が短いためか、ピクセル数以上の出力が出る →光信号の時間幅によって応答曲線は変化する • 新しいsampleは有感領域が拡大されている 疑問 Gainは C Gain (VBias Vo ) e と表すことができる。 C ∝ 有感領域 と考えられるが、 新しいsampleでは有感領 域は拡大したがGainの傾 きCは小さくなった またPDEは旧sampleと変 わりがない PDE ∝ 有感領域 左のことはなぜ起こるのか 内部光電効果の確率が減少? 電場の最大値の低下? 高電場領域の縮小? p-,n+のドーピング濃度 p,p-,n+の厚み クエンチ抵抗 このあたりがまだ良いあんばい ではないようだ 今後 • • • • 光源の波長を変えてPDEの測定 新しいsampleの基礎特性の評価 応答曲線についての理解を深める LASERによる基礎特性の測定 Back up 光の広がり 広がりは0.55mm径 Multi-Pixel Photon Counter (MPPC) ~ シリコン半導体光検出器 ~ 1 mm 25 m Depletion region ~ 1 mm Substrate Si Resistor Guard ring n+ p n+ Bias voltage (70~80 V) Al conductor p- substrate p+ 浜松ホトニクスによるP.D.Eの測定結果 ※λ=400nm, including the cross-talk and after pulse 2005冬
© Copyright 2024 ExpyDoc