Ｒ２Ｒバリア膜成膜装置 Roll to Roll Deposition Equipment for High Barrier We use the original deposition process , and realize high barrier and flexible by low deposition cost! CVD法により、ハイバリアフィルムに適した封止膜が得られます。 A passivation layer suitable for high barrier film is obtained by using Toray’s CVD method. 【量産装置性能（例）】 Performance for Mass Production  水蒸気透過率(WVTR)： 10-4g/m2/day台  Water Vapor Transmission Rate ： 10-4g/m2/day level ＊層数を増すことで 10-6台も可能  無機膜による積層  生産量  成膜コスト： Total 6層： 40万m2/年： 400円/m2 【用途】  Layering with Inorganic Layers ： Total 6-layes  Productivity ： 400,000m2/year  Cost for Deposition ： JPY 400/m2 【Applications】 High barrier film , Super high barrier film ハイバリアフィルム、超ハイバリアフィルムフレキシブルデバイスへの直接封止による長寿命化 Longer life due to direct encapsulation of flexible devices Highly-functional film 高機能フィルム【装置仕様（例）】 Specifications of Equipment 量産装置 (for Mass-Production) 試験装置 (for R&D) フィルム種類 Film；PET、PEN、PC他ロールサイズ基材フィルム幅（W）；1.3m、ロール径；φ 500mm 基材フィルム幅（W）； 300mm、ロール径；φ 200mm 装置構成ロール用チャンバ２（巻取、巻出別）成膜用チャンバ(*) ；１、プラズマ電極；３ *：成膜用チャンバ増設により生産量増可能 Film；PET、PEN、PC etc. 一体チャンバ；１、プラズマ電極；１オプション；他の成膜ソース（スパッタ、蒸着等）の併用も可能基材フィルム幅；1.3m以上はご相談ください。積層膜（3/3層約0.2μ m） Substrate 電極東レエンジニアリング(株) 産機営業部営業2課奥/村田（Oku/Murata） TEL：077-533-7388 FAX：077-533-7352 断面写真 Cross Section Photo. 201504-4版