Annual Report No.29 2015 第13回ナノインプリント・ナノプリント技術国際会議 The 13th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology H26海自21 開催日 平成26年10月22日～平成26年10月24日（3日間） 開催地 ANAクラウンプラザホテル京都 申請者 第13回ナノインプリント・ナノプリント技術国際会議 運営委員会 委員長 松 井 真 二 はナノインプリント技術の誕生20周年を記念 会議の概要と成果 して、発案者であるStephen Y Chou教授（米国 2014年10月22日から24日までの3日間、第 プリンストン大）により、ナノインプリント法 13回ナノインプリント・ナノプリント技術国際 の歴史と研究の経緯についての基調講演及び、 会議（NNT 2014）がANAクラウンプラザホテル 国内の製造業の状況について佐脇 紀代志博士 （経済産業省）による基調講演が行われ注目を 京都で開催されました。 主催は公益社団法人応用物理学会、運営は 集めました。 公益社団法人応用物理学会ナノインプリント技 基調講演後は、各研究グループで進められ 術研究会、組織委員長をナノインプリント技術 ている最新の内容が20件発表され、活発な討 研究会運営委員長である、兵庫県立大学の松 論が行われました。また、ポスター発表は89 井真二教授が務められました。 件掲出され、数多くの参加者が質問や議論に ナノインプリント及びナノプリントとは、サ 訪れ賑わいを見せました。 ブミクロン以下の微細なパターンを低コストか つ短時間で作製できる次世代の技術として注 今回発表された論文数は、基調講演及び招 目されるものであり、熱ナノインプリント、室 待講演11名を含む120名（日本46名、海外74 温ナノインプリント、光ナノインプリントといっ 名） 、参加者数は216名（日本138名、海外78名） た手法に関するものから、その材料および装置 でした。開催国である日本以外からも数多くの 開発まで、幅広い研究が行われています。 参加・発表があり、この研究分野の関心の高 今回も、ナノインプリントリソグラフィを初 さをうかがわせました。 めて提案したStephen Y Chou教授（米国プリン この会議は今年で13回目を迎え、プロセス、 ストン大）など、世界各国から様々なメンバー 装置、材料のそれぞれの技術開発からデバイ が集まり、盛大な会議となりました。 ス応用まで、世界各国から活発な報告及び討 議がなされる場へと発展し、今後のさらなる 10月22日（初日）のウェルカムパーティーで 展開が期待されます。なお、次回のNNT 2015 は、海外からの参加者も交えて和やかな雰囲 は2015年10月22日から24日までの、Silverado 気に包まれました。10月23日（翌日）の午前中 Resort and Spa, Napa California（米国）で開催 ─ 374 ─ The Murata Science Foundation Emitting Diode（LED） （Invited） されることが発表されました。 Yung-Chun Lee（National Cheng Kung Univ., 今回の招待講演者は下記の通りです。 Taiwan）Ultrafast Nanoimprint Lithography on Size effects in nanoimprinted structures and Full Wafers（Invited） Massimo Tormen（Thunder NIL, Italy）Jet and manufacturing flows（Invited） Graham L.W. Cross（Trinity College Dublin, Flash Imprint Lithography for the High Volume Ireland）The Prospects of Design for Roll to Roll Manufacturing of Semiconductor Devices（Invit- Lithography: Layout Refinement Utilizing Pro- ed） Doug Resnick（Canon Nanotechnologies Inc., cess Simulation（Invited） Sachiko Kobayashi（Toshiba, Japan）Material characterization issue for NIL simulation（Invited） USA）A Direct Imprinting for Fine Metal Oxide Patterns and Devices（Invited） Stéfan Landis（LETI, France）Enhanced Perfor- Tatsuya Shimoda（ JST-ERATO and JAIST, mance of Organic Devices by Optical-functional Japan）Nanoimprint Fabrication and Applica- Pattern（Invited） tion of Subnano-Scale Surface-Patterned Glassy Heon Lee（Korea Univ., Korea）Soft PhotoMask Lithography and Its Industrial Application Substrates（Invited） Geng Tan（Tokyo Inst. of Technol., Japan） on Patterned Sapphire Substrate（PSS）of Light- ─ 375 ─
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