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平成２８年度大分野別出願動向調査
－一般分野－
仕
様
特許庁
書
１．件名
平成２８年度大分野別出願動向調査―一般分野―
２．事業目的
今後の出願・審査請求動向に影響を与え得る注目技術等についての出願動向、研究開発
状況等を調査・分析することで、審査体制の整備強化や、出願・審査請求構造改革支援等
の施策を企画・立案することが重要である。また、ノーベル賞受賞など社会的関心が高い
技術分野について特許庁内外のニーズに即応する形で特許出願動向、市場動向等を調査・
分析することで、特許庁内外の今後の施策の企画・立案を支援することも重要である。
そこで、特許庁では、新聞、雑誌、論文に取り上げられた新しい注目技術・注目デザイ
ンを把握して当該注目技術・注目デザインに関する周辺の特許情報・意匠情報を調査し、
主要出願人の注目すべき出願関連行動情報及びその関連出願を調査するとともに、ノーベ
ル賞受賞（候補）の技術など社会的関心が高い技術分野の特許出願動向や市場動向などを
調査する。これにより、（１）特許庁内外の施策の企画・立案・実施、（２）出願人の多様
な事業戦略に応じた具体的施策の企画・立案・実施に必要な基礎資料の整備を図ることと
する。
全技術分野を４つの分野（「機械」、「化学」、
「電気・電子」及び「一般」）に区分し、本
調査では、一般分野における注目技術に関連する特許、及びその周辺情報等を調査するこ
とにより、各種の施策に必要な基礎資料とする。
また、全技術分野における注目デザイン及びその周辺情報等を調査することにより、各
種の施策に必要な基礎資料とする。
３．調査の進め方
・新聞、雑誌、論文、ホームページをはじめとする公表資料（商用データベースを含む。）
に取り上げられた一般分野（「資料１」を参照）における最新の注目技術を抽出して関
連する特許情報を取りまとめる。
・一般分野における主要出願人の出願関連行動情報について、各種新聞、雑誌、論文、プ
レスリリース、有価証券報告書、アニュアルレポート、ホームページをはじめとする公
表資料の中から情報を抽出し、調査結果をまとめる。
・特許庁担当者が指定する一般分野における８程度のニーズ即応型技術テーマ（ノーベル
賞受賞（候補）の技術など）に関して、商用データベース等を利用して、特許出願・登
録状況、市場動向等を調査し、特許庁担当者の指示した調査開始時期から２ヶ月程度
で取りまとめる。
・注目技術及び注目技術に関連する特許情報、主要出願人の今後の出願関連行動、及びニ
ーズ即応型の出願・登録状況調査についての分析結果から、注目技術をはじめとする一
般分野における今後の特許出願動向について分析を行う。
・新聞、雑誌、論文、ホームページをはじめとする公表資料（商用データベースを含む）
に取り上げられた最新の注目デザイン全般を抽出して取りまとめる。
・主要出願人の意匠出願関連行動情報全般について、登録意匠の件数を取得し、当該出願
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人の出願関連行動についてまとめる。
具体的には、以下の調査・分析を行う。
（１）注目技術及びこれに関連する特許情報調査
（ａ）調査対象
２０１６年４月～２０１７年３月の間に公表された新聞１０紙程度（そのうち技術
に関する新聞３紙程度）、雑誌・論文（計１０誌程度）をはじめとする公表資料（商
用データベースを含む）（以下、３．
（１）内で「公表資料」という場合は、これを指
す）に取り上げられた一般分野における注目技術に関連する特許出願。
なお、以下は、新聞、雑誌・論文の対象例である。
※例
①新聞
朝日新聞、毎日新聞、読売新聞、日本経済新聞、産経新聞、東京新聞、
Fuji Sankei Business i、日刊工業新聞、日経産業新聞、日本印刷新聞
②雑誌・論文
日経エレクトロニクス、ダイヤモンド、東洋経済、毎日エコノミスト、
日経ビジネス、Harvard Business Review、日経サイエンス、
Nature、Science、会社四季報、選択、ニューズウイーク、遊技通信
（ｂ）調査項目（以下、３．（１）内で「調査項目」という場合は、これを指す）
①公表資料の概要
②公表資料に関連する特許出願（以下、３．（１）内で「特許出願」という場合は、
これを指す）の技術概要
③公表資料及び特許出願に対応する技術観点（「資料１」を参照）
④特許出願の書誌的事項（出願番号（出願日）、公開番号（公開日）、登録番号（登録
日）、出願人、発明者、国際特許分類及び FI、発明の名称）
⑤特許出願のパテントファミリー（全世界）
⑥特許出願の審査経過情報
（ｃ）調査手法
①調査項目①について
・新聞、雑誌・論文をはじめとする公表資料に取り上げられた当該一般分野における
注目技術を抽出し、その公表資料の概要を簡潔に要約して作成する。
・注目技術の抽出に当たっては、特許庁担当者と相談の上選定する。
②調査項目②～⑥について
・公表資料から抽出した上記注目技術に関する特許出願を、商用データベース等を
利用して検索し、当該特許出願について、調査項目②～⑥を調査の上、各調査項
目について取りまとめる。
・特許庁担当者から指定された重要な記事（訴訟事件等）については、調査項目①～
⑥の他、事件に関する詳細情報（事件の経緯、当事者に関する情報、関連特許出願
に関する情報等）を簡潔にまとめたレポートを作成し、特許庁担当者へ送付する。
（ｄ）調査取りまとめ
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①調査項目①～⑥については、公表資料の公表日以降、翌日を目処に取りまとめて電
子データで特許庁に報告する。取りまとめ方法については、特許庁担当者と相談の上
行う。なお、調査は２０１６年４月分から溯って行うものとし、遡り分の取りまとめ
方法及び特許庁への報告時期は、特許庁担当者と相談の上行う。
②調査項目①～⑥を揃えたものを中心に、調査対象期間のうち２０１７年３月調査分
までを取りまとめた内容を「平成２８年度大分野別出願動向調査―一般分野―」報告
書（以下、「調査報告書」という。）において報告する。
（２）注目デザインの調査
（ａ）調査対象
２０１６年４月～２０１７年３月の間に公表された新聞１０紙程度（そのうち技術
に関する新聞３紙程度）、雑誌・論文（計１０誌程度）をはじめとする公表資料（商
用データベースを含む）（以下、３．
（２）内で「公表資料」という場合は、これを指
す）に取り上げられた注目デザインに関連する登録意匠。
なお、以下は、新聞、雑誌・論文の対象例である。
※例
①新聞
朝日新聞、毎日新聞、読売新聞、日本経済新聞、産経新聞、東京新聞、
Fuji Sankei Business i、日刊工業新聞、日経産業新聞、日本印刷新聞
②雑誌・論文
日経エレクトロニクス、ダイヤモンド、東洋経済、毎日エコノミスト、
日経ビジネス、Harvard Business Review、日経サイエンス、
Nature、Science、会社四季報、選択、ニューズウイーク、遊技通信、
日経デザイン、AXIS
（ｂ）調査項目（以下、３．（２）内で「調査項目」という場合は、これを指す）
①公表資料の概要
（ｃ）調査手法
調査項目について
・新聞、雑誌・論文をはじめとする公表資料に取り上げられた、注目デザイン（訴訟
関連の記事に取り上げられたデザインを含む）を抽出し、その公表資料の概要を簡
潔に要約して作成する。
・注目デザインの抽出に当たっては、以下に例として記載する選定基準を考慮するほ
か、特許庁担当者と相談の上選定する。
① 意匠権に関する訴訟やライセンスにかかわる記事
②賞(グッドデザイン賞等)を受けたデザイン、あるいは、展示会などでインパ
クトをもって発表されたデザイン
③一般紙に取り上げられた新デザイン（多くの新聞に取り上げられたデザイン）
（ｄ）調査取りまとめ
①調査項目については、公表資料の公表日以降、翌日を目処に、取りまとめて電子デ
ータで特許庁に報告する。取りまとめについては、特許庁担当者と相談の上行う。な
お、調査は２０１６年４月分から溯って行うものとし、遡り分の取りまとめ方法及び
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特許庁への報告時期は、特許庁担当者と相談の上行う。
②調査項目を中心に、調査対象期間のうち２０１７年３月調査分までを取りまとめた
内容を「調査報告書」において報告する。
（３）主要出願人の特許出願関連行動調査
（ａ）調査対象
一般分野における、特許庁が指定する１００程度の主要出願人についての、２
０１６年４月～２０１７年３月の間に公表された新聞１０紙程度（そのうち技
術に関する新聞３紙程度）、雑誌・論文（計１０誌程度）、ホームページをはじ
めとする公表資料（以下、３．（３）内で「公表資料」という場合は、これを指
す）の中から、当該主要出願人の注目すべき出願関連行動情報（a.会社情報、
b.知財情報、c.技術開発状況）及びその関連特許出願。
なお、主要出願人の対象例として、平成２７年度大分野別出願動向調査（一般
分野）における主要出願人を資料２に例示する。
また、以下は、各種新聞、雑誌・論文、ホームページの対象例である。
※例
①新聞
朝日新聞、毎日新聞、読売新聞、日本経済新聞、産経新聞、東京新聞、
Fuji Sankei Business i、日刊工業新聞、日経産業新聞、日本印刷新聞
②雑誌・論文
日経エレクトロニクス、ダイヤモンド、東洋経済、毎日エコノミスト、
日経ビジネス、Harvard Business Review、日経サイエンス、
Nature、Science、会社四季報、選択、ニューズウイーク、遊技通信、日経
業界地図、会社四季報業界地図、世界業界マップ
③ホームページ
出願人のホームページ、Yahoo! ファイナンス、日経テレコン
（ｂ）調査項目（以下、３．（３）内で「調査項目」という場合は、これを指す）
①会社情報
・会社概況
・企業のトピックス（プレスリリースにおける開発・知財等への記述、有価証券報
告書の事業等のリスクにおける開発・知財等への記述、アニュアルレポートにお
ける開発・知財等への記述、経営上の重要な契約、事業の拡大縮小、国内・海外
での事業展開、主要製品、企業沿革、主要関連会社（親会社、子会社、関連会社
等）、提携・合併情報、売上対研究開発費等をはじめとする公表されている情報）
・同業他社を含む業界の相関図を作成すること。
②知財情報
経営における知財の位置付け、知財体制（グループ会社を含む）、ライセンス契
約状況、知財訴訟（和解含む）、各種知財指標（従業員１人当たりの特許登録件
数／特許出願件数、特許１件当たりの研究開発費）等をはじめとする公表されて
いる情報
③技術開発状況
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④上記①～③に関連する特許出願（例えば、プレスリリースに関連する特許出願、ラ
イセンスに関連する特許出願、知財訴訟に関連する特許出願、等の関連する特許出
願）（以下、３．（３）内で「特許出願」という場合は、これを指す）
⑤各国・地域への特許出願動向
特許庁担当者が指定する主要出願人について、WPI 又は INPADOC のいずれかで調
査可能な国・地域の中から特許庁担当者が指定した６程度の国・地域への特許出
願件数推移、主要な国際特許分類ごとの過去７年程度の特許出願件数推移を調査
する。
（ｃ）調査手法
①調査項目①～③について
・上記公表資料の中から当該主要出願人の注目すべき出願関連行動情報（会社情報、
知財情報、技術開発状況）を抽出する。
・調査項目②のライセンス契約、知財訴訟における知財の対象範囲は、特許・実用
新案・意匠・商標とする。また、調査の時期的範囲は特許庁担当者と相談するこ
と。
②調査項目④について
上記抽出した情報に基づき、関連する特許出願を調査する。
③調査項目⑤について
特許庁担当者が指定する主要出願人について、２０１４年までの７年以上の期間
の各年の特許出願件数及び当該期間の総出願件数を、出願先国別に調査し、表及
びグラフを作成する。
調査に使用したデータベースやデータの取得条件（取得日、カウント方法等）を
明記すること。
（ｄ）調査取りまとめ
①特許庁担当者から指示があった都度、指示があった日から２週間以内に、調査内容
を電子データで報告する。ただし、特許庁担当者から別途指示があった場合には、
特許庁担当者が指定する期間内に調査内容を電子データで報告する。また、その調
査内容については、報告書作成時点における最新のデータに更新する作業を行った
上で「調査報告書」においても報告する。
②調査項目の詳細については、特許庁担当者と相談すること。
（４）（３）の調査結果全体の取りまとめ
（a）調査対象期間のうち２０１７年３月調査分までを取りまとめた内容を「調査報告
書」において報告する。
（５）主要出願人の意匠出願関連行動調査
（ａ）調査対象
特許庁が指定する３５程度の主要出願人の登録意匠。
なお、主要出願人の対象例として、平成２７年度大分野別出願動向調査（一般
分野）における主要出願人を資料３に例示する。
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（ｂ）調査項目（以下、３．（５）内で「調査項目」という場合は、これを指す）
①各国・地域での意匠登録動向
特許庁担当者が指定する主要出願人について日本、米国、欧州（ＯＨＩＭ）、中国、
韓国及びその他の国での意匠登録件数を、 Orbit.com 意匠モジュール（ Design
Finder）、SAEGIS 意匠データベース、又は他の商用データベースを用いて調査す
る。また、上記商用データベースの他、特許庁担当者と相談の上、必要であれば、
海外庁のデータベースも調査する。その他の国については、特定の国に件数が集
中している場合等は、そのデータの扱いを特許庁担当者と相談する。
（ｃ）調査手法
①調査項目①について
特許庁担当者が指定する主要出願人について、２０１５年までの３年以上の期間
の各年の意匠登録件数及び当該期間の総登録件数を、登録先国別に調査し、表及
びグラフを作成する。
調査に使用したデータベースやデータの取得条件（取得日、カウント方法等）を
明記すること。
（ｄ）調査取りまとめ
①特許庁担当者から指示があった都度、指示があった日から２週間以内に、調査内容
を電子データで報告する。ただし、特許庁担当者から別途指示があった場合には、
特許庁担当者が指定する期間内に調査内容を電子データで報告する。また、その調
査内容については、報告書作成時点における最新のデータに更新する作業を行った
上で「調査報告書」においても報告する。
②調査項目の詳細については、特許庁担当者と相談すること。
（６）（５）の調査結果全体の取りまとめ
（ａ）調査対象期間のうち２０１７年３月調査分までを取りまとめた内容を「調査報告
書」において報告する。
（７）ニーズ即応型の技術動向調査
（ａ）調査対象
ⅰ）少なくとも日本、米国、欧州、中国、韓国を含む５～１５の国（地域）における
特許出願
ⅱ）少なくとも日本、米国、欧州、中国、韓国を含む５～１５の国（地域）における
特許登録
ⅲ）PCT 出願
※ⅰ）～ⅱ）において、日本、米国、欧州、中国、韓国以外の出願先国（地域）
については、特許庁担当者と相談の上で決定する。
（ｂ）時期的範囲
ⅰ）特許出願
：２００５年～２０１４年（優先権主張年ベース）
ⅱ）登録特許
：２００５年～２０１４年（優先権主張年ベース）
ⅲ）PCT 出願
：２００５年～２０１４年（優先権主張年ベース）
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※ⅰ）～ⅲ）において、時期的範囲については、特許庁担当者から別途指示があ
った場合はその時期的範囲について調査する。追加する時期的範囲は５年まで
とするが、特許庁担当者及び調査会社の双方の同意の上であれば５年を超えて
もよいものとする。
（ｃ）調査項目（以下、「３．（７）」内で「調査項目」という場合は、これを指す）
ⅰ）技術概要
・調査対象技術の説明（１ページ程度）
・検索式と技術区分（特許庁担当者との相談の上で、技術以外の区分も含む場
合がある）の対応表
・各技術区分の説明（技術区分毎に代表的な特許を１件選定し、書誌的事項、
要約、図面等を特許庁担当者の指示に応じて掲載する。選定方法は特許庁担
当者と相談すること）
以上の調査項目をはじめとする技術概要の調査
ⅱ）市場・政策動向（例えば、市場規模、及び、その推移（予測）、市場シェア、
市場輸出入推移、主要な企業（日本企業以外も含む）の情報、業界相関図、科
学技術政策、産業政策等の各種政策、等）
ⅲ）①出願先国（地域）別の特許出願件数推移・比率
②出願先国（地域）別の特許登録件数推移・比率
ⅳ）①出願人国籍（地域）別の特許出願件数推移・比率
②出願人国籍（地域）別の特許登録件数推移・比率
ⅴ）出願人国籍（地域）別の PCT 出願件数推移・比率
ⅵ）①出願先国（地域）別－出願人国籍（地域）別の特許出願件数
②出願先国（地域）別－出願人国籍（地域）別の特許登録件数
ⅶ）①出願先国（地域）別－出願人国籍（地域）別の特許出願件数収支
②出願先国（地域）別－出願人国籍（地域）別の特許登録件数収支
ⅷ）①技術区分別－出願人国籍（地域）別の特許出願件数推移・比率
②技術区分別－技術区分別出願件数
※ⅷ）②は調査を行うか否かを調査テーマごとに特許庁担当者と相談する。
ⅸ）出願人別出願件数
①特許出願上位１０者程度及びその出願件数
②技術区分別の特許出願上位５者程度及びその出願件数
③各国（地域）での特許出願上位５者程度及びその出願件数
ⅹ）①主要出願人別の出願先国別－特許出願件数推移・比率
②主要出願人別－技術区分別の特許出願件数
③主要出願人別－技術区分別の特許出願件数推移
※出願人国籍は、基本的に出願人名または出願人住所に基づいて特定するこ
と。ただし、データベースの都合上、出願人国籍の特定が難しい場合は、
出願人国籍を決定するにあたり特許庁担当者と相談すること。
※ⅲ）～ⅷ）において、出願人国籍（地域）別の調査は、日本、米国、欧州、
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中国、韓国について行い、日本、米国、欧州、中国、韓国以外の国は、特
許庁担当者と相談の上で集計する。
※ⅲ）～ⅹ）において、出願件数、登録件数は優先権主張日ベースとする。
※ⅷ）及びⅸ）において、技術区分別の調査は、５～２０の区分について行う。
特許庁担当者が、技術区分に追加してデータベースに収録されている項目
を１～２程度指定することがあるので対応すること。
※ⅹ）において、主要出願人別の調査は、５程度の出願人について行う。
xi）注目特許の調査
① 注目特許リスト（例えば、基本特許、事業化や売上に重要な役割を果たし
ている特許、侵害訴訟に関連する特許、標準（デジュール標準、フォーラム
標準、デファクト標準等）に関連する特許、ライセンス契約に関連する特許、
特許庁担当者が指定する注目出願人が出願した特許、特定発明者に関する特
許等）
※注目特許リストには、少なくとも、出願番号、公開番号、国際特許分類、
発明の名称、出願人、出願人国籍、パテントファミリーの出願先国を記載
する。リストに記載の項目は、特許庁担当者と相談の上決定する。
② 注目特許の公開番号・登録番号・審査状況・国際特許分類・発明の名称・
要約・特許請求の範囲（１技術テーマにつき１０件程度）
※公開番号・登録番号・審査状況・国際特許分類・発明の名称・要約・特
許請求の範囲を取りまとめる注目特許は、特許庁担当者と相談の上、①の
リストに掲載したものの中から選定する。
※審査状況（例えば、特許査定済、拒絶査定済、審査中、審査請求前、な
ど）については注目特許に日本のファミリーがある場合などに調査を行う
こと。
※特許請求の範囲は、一部でもよいものとする。
xii）論文動向調査（例えば、論文発表件数推移、研究者所属機関国籍別論文発表
件数比率、研究者所属機関別論文発表件数上位５者程度及びその発表件数、研
究者別論文発表件数上位５者程度及びその発表件数、など）
xiii）訴訟動向調査
技術テーマに関連する近年の訴訟情報（例えば、原告・被告、訴訟に用いられ
た特許文献の書誌的事項及び概要、訴訟国、訴訟経過、判決概要、等）
（ｄ）調査手法
ⅰ）調査テーマの指定：ニーズ即応型の技術テーマは、特許庁担当者が、各月１テ
ーマ程度、合計で８程度の技術テーマを指定する。
ⅱ）調査開始の指示：各技術テーマの調査開始は特許庁担当者が指示する。その際、
特許庁担当者と相談の上、調査開始から２ヶ月程度先を目安に報告期限を設定
する。各月技術テーマの指定があることから、２テーマ程度の技術テーマを並
行して調査する必要がある点に留意すること（特に、主要出願人の調査が集中
する時期（９～１２月頃）において、調査遅延が生じないように対応すること）。
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なお、特許庁担当者が調査開始を指示した後、早急に調査開始すべき新たな技
術テーマが選定された場合は、特許庁担当者と相談の上、３以上の技術テーマ
の並行調査や調査順序の入れ替えに対応すること。
ⅲ）調査スケジュールの作成：特許庁担当者が調査開始を指定してから２実働日以
内に、調査スケジュールを特許庁担当者に送付し、承認を受けること。
ⅳ）検索式の妥当性確認：各技術テーマの調査においては、調査を行うための検索
式を作成し、作成した検索式が妥当か否かを、「（ｃ）調査項目ⅸ）」の予備
調査結果や、サンプルチェックにより算出したヒット率等の情報から判断す
る。
なお、調査開始に当たっては、検索式及びその妥当性を判断するための情報を
特許庁担当者に提示し、確認を受ける。また、「（ｃ）調査項目ⅷ）」の調査
を行うに当たっては技術テーマをいくつかの要素技術に区分けし、各技術区分
に対応する検索式を作成して、調査を行う。技術区分の設定及び各技術区分に
対応する検索式については、特許庁担当者と相談の上決定する。各技術区分に
対応する検索式についても、それぞれ検索式の妥当性の確認を行う。
ⅴ）文献リストの作成：検索式が決定した後に、技術区分ごとに、検索で抽出される
文献について、出願番号、優先権主張日、公開番号（第１国出願）、公開日（第
１国出願）、出願人、登録番号（登録されている場合のみ）、国際特許分類（Ｉ
ＰＣ）、共通特許分類（ＣＰＣ（付与されている場合のみ））、出願人国籍、出
願先国（第１国）、パテントファミリー出願先国、発明の名称、要約、代表図面、
該当する技術区分を掲載した文献リストを作成する。文献リストは、「（ｄ）調
査手法ⅱ）」で設定した報告期限までに、特許庁担当者に電子データで提出す
る。文献リストに掲載する文献数は、一の技術テーマにつき１００００件程度
以下を目安とし、文献リストに掲載する文献の選定方法は、特許庁担当者が指
定する（例えば、調査対象とした文献全体のうちの一部を指定する場合もあ
る）。
ⅵ）出典の記載・著作権等の確認：調査を行う際に参考とした文献は、各「ニーズ
即応型の技術動向調査の調査報告書」の末尾に出典を明記する。また、写真等
の図表を使用する場合には転載許諾等を取得すること。
ⅶ）説明用資料の作成：調査内容を簡潔に説明するための説明用資料を作成し、特
許庁担当者の承認を受けること。説明用資料は、「（ｄ）調査手法 ⅱ）」で設
定した報告期限までに、特許庁担当者に電子データで提出する。
ⅷ）有識者ヒアリングの実施：各技術テーマにおける有識者に対するヒアリングを
実施し、ヒアリングの結果を特許庁担当者に報告する。なお、ヒアリングは技
術テーマごとに２人・社程度に対して行うものとする。なお、有識者ヒアリン
グの少なくとも１人・社に対しては調査結果が公表されることを説明し、内容
の確認を行うこと。ヒアリング報告書は、「（ｄ）調査手法 ⅱ）」で設定した
報告期限までに、特許庁担当者に電子データで提出する。
ⅸ）調査の取りまとめ：「（ｄ）調査手法ⅱ ）」で設定した報告期限までに調査結
果を取りまとめ、技術テーマ毎に「ニーズ即応型の技術動向調査の中間報告書」
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及び「ニーズ即応型の技術動向調査の中間時点における説明用資料」を中間提
出物として特許庁担当者に電子データで報告する。「ヒアリング報告書」、「転
載許諾一覧及びその写し」についても併せて提出すること。
ただし、ヒアリング対象者の都合等により、報告期限までにヒアリングを実施
できない場合には、特許庁担当者の承諾を得たうえで、「（ｄ）調査手法ⅱ）」
で設定した報告期限後にヒアリング報告書を提出してもよい。また、ヒアリン
グ報告書の提出と併せて、必要に応じて「ニーズ即応型の技術動向調査の中間
報告書」及び「ニーズ即応型の技術動向調査の中間時点における説明用資料」
を修正して再提出すること。
「ニーズ即応型の技術動向調査の中間報告書」については、内容の修正の必要
が生じた場合には修正を行った上で「調査報告書」でも報告すること。「ニー
ズ即応型の技術動向調査の中間時点における説明用資料」についても内容の修
正の必要が生じた場合には修正を行った上で納入すること。
※特許庁担当者と相談の上、調査項目が追加（１～２項目程度）される場合は対応
すること。
※検索式の確認資料の例を、「検索式及びその検索式の妥当性判断に関する資料の具
体例」（資料４）に示す。
※文献リストの書式の例を、「文献リストの書式の具体例」（資料５）に示す。
（８）（１）～（７）を踏まえた総合分析
（ａ）（１）～（７）を踏まえ一般分野における今後の特許出願動向を総合的に分析し
１頁程度にまとめる。
（ｂ）その内容は「調査報告書」において報告する。
４．調査に当たっての留意事項
（１）報告書の作成に当たっては、
「平成２８年度大分野別出願動向調査報告書作成要領」
の指示に従うこと。
（２）説明用資料の作成に当たっては「平成２８年度大分野別出願動向調査説明用資料作
成要領」の指示に従うこと。
（３）外国特許の情報についても原則として日本語で報告書に記載すること。
（４）調査の具体的内容については、特許庁担当者と相談しつつ十分な打合せを行うこと。
（５）打合せを行った際は、議事録を作成し、１週間程度以内に特許庁担当者に提出し、
承諾を得ること。
（６）一時期に各調査の業務が集中する場合にも、対応できる業務体制とすること。調査
実施体制及び調査の内容等の変更については、事前に特許庁に申し出、承諾を得る
こと。
（７）調査に関する情報（報告書作成のために用いた情報、調査で得た情報等）は、随時
特許庁に連絡すること。
（８）ニーズ即応型の技術動向調査に関して有識者に対するヒアリングを行う際は、対象
者に対し、ヒアリングの結果が調査結果に反映されることを事前に説明し、承諾を
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得ること。また、ヒアリングの際に有識者に対し、調査結果が公表されることを説
明し、公表内容に問題がないかの確認を受けること。また、ヒアリング対象者に対
して、謝金の支払いを行うこと。
（９）ヒアリングを実施する前に、その内容と対象者について、特許庁担当者と必ず打合
わせをすること。また、ヒアリングを実施した場合は、その内容について、「ヒア
リング報告書」にて特許庁に報告すること。
（１０）報告書に掲載する図面、写真、文章等を他の文献、ホームページ等から転載する
場合には、著作権者から逐次転載許諾を得た上で、出典を明記すること。また転載
した図面、写真、文章等を使用できる範囲（例えば、転載した図面、写真、文章等
を含む納入物、
「ニーズ即応型」についての中間提出物、及び、その他の提出物（調
査期間中に提出された電子データを含む）を特許庁内外で利用できるか等）につい
ても逐次確認・整理し、特許庁担当者に伝えること。転載許諾を得た図面、写真等
の情報を一覧にまとめ、転載許諾書の写しとともに、特許庁に提出すること。ニー
ズ即応型の技術動向調査については各技術テーマの調査結果の提出と同時に当該一
覧表を提出すること。
著作権に関する問題について責任を負うこと。
（１１）納入物、「ニーズ即応型」についての中間提出物、及び、その他の提出物（調査
期間中に提出された電子データを含む）については、特許庁において必要な加工等
を行い、特許庁内外において利用されることがある。当該利用に関し、調査請負機
関は、著作者人格権を行使しないこととする。
（１２）原則、提案書に提案した事項については、遵守すること。
（１３）実際の納入日については、納入期限の数日（７日程度）前に設定することもある
ため留意すること。具体的な納入日時は、特許庁担当者と相談の上決定するものと
する。
（１４）納入物等の作成に当たっては、「環境物品等の調達の推進に関する基本方針（平
成２８年２月２日閣議決定）」に配慮すること。
５．納入物及び納入期限
納入物
数量
納入期限
調査報告書の電子データ
一式（Word、PDF）
調査報告書の紙出力物
２部
各技術テーマにおけるニーズ即応
一
型の技術動向調査の説明用資料の
Point®）
式
（
Power
電子データ
注目技術及びこれに関する特許情
一式（Excel）
報調査に係る電子データ
注目デザインの調査に係る電子デ
一式（Excel）
ータ
主要出願人の特許出願関連行動調
一式（Word）
- 11 -
平成２９年３月３１日
査に係る電子データ
主要出願人の意匠出願関連行動調
一式（Word）
査に係る電子データ
※各電子データについては、各項目で指定された期限までに提出することとし、
各報告日を明記の上、CD-R 又は DVD-R に保存し、各２セット納入すること。
※納入場所については、特許庁担当者と調整すること。
６．提出物及び提出期限
提出物
数量
転載許諾一覧及び転載許諾の写し
一式（Word、PDF）
の電子データ
転載許諾一覧及び転載許諾の写し
提出期限
平成２９年３月３１日
ニーズ即応型の各技術テーマに
１部
ついては、特許庁担当者が指定
する日及び平成２９年３月３１
の紙出力物
報告書中の図表の電子データ
一式（Excel®）
日の両日を期限として、２回の
打ち合わせ議事録の電子データ
一式（Word）
提出を行うこととする。
各技術テーマにおけるニーズ即応
一式（Word）
型の技術動向調査の中間報告書の
電子データ
各技術テーマにおけるニーズ即応
一式(Power Point®)
型の技術動向調査の中間時点にお
ける説明用資料の電子データ
各技術テーマにおけるニーズ即応
一式（Word）
型の技術動向調査のヒアリング報
告書の電子データ
各技術テーマにおけるニーズ即応
一式（Excel®）
型の技術動向調査の文献リストの
電子データ
各技術テーマにおけるニーズ即応
一式（Word、PDF）
型の技術動向調査の調査結果に関
する著作権許諾一覧及び転載許諾
の写しの電子データ
各技術テーマにおけるニーズ即応
１部
型の技術動向調査の調査結果に関
する著作権許諾一覧及び転載許諾
の写しの紙出力物
調査報告書の紙出力物（白黒片面印
１部
刷）
- 12 -
※電子データについては一括して CD-R 又は DVD-R に保存し、２セット提出すること。
※提出場所については、特許庁担当者と調整すること。
※提出物について所有権の移転の時期は、庁担当者へ報告（提供）した時とする。
７．その他
過去の調査実績を踏まえた大分野別出願動向調査の見込み工数を資料６に例示する。
- 13 -
資料１
一般分野の対象分野
一般分野の対象分野は、以下に示す審査第一部の担当技術の範囲を指すものと定義する。
※ただし、技術単位移管や担当技術移管等があった場合は、それらに合わせて対象分野も変更
されるものとする。
審査第一部が担当する技術の観点
技術単位（技術単位
主な技術分野
コード）
計測（２Ｆ）
担当技術（分類表記載順）
時計・計測一般
G01DFGKLP
流れ・力
G04BCDFG
G06M
G08C
G12B
距離・電気測定（２測長・測量
Ｓ）
G01BC(1/-15/, 19/)SR
距離測定
電気の測定
ナノ物理（２Ｇ）
電子管
G09G
計測用電子管
H01JK
表示制御
エネルギー線応用投影
（２Ｉ）
G01T
可変情報用表示装置
G03B(21/-25/, 33/)
原子力
G09F9/
G21BCDFGHJK
H05H
ナノ光学（２Ｍ）半導体露光
B82B
写真製版
G03B(27/)
焼付・現像
G03D
ナノ構造物
G03F(1/-5/, 7/20-7/24, 9/)
H01L(21/30, 21/46)
材料分析（２Ｊ）
機械分析
C40B(20/-30/00, 30/04-30/10, 60/04,
化学分析
60/10-60/12)
G01HM(1/-10/, 13/-19/)N(1/-19/,
25/, 27/12, 27/26-27/58, 30/-37/)QVW
医学診断（２Ｑ）診断機器
A61B(1/-10/)
画像診断
H05G
- 14 -
物理分析（２Ｗ）物理的分析
応用光学（２Ｈ）
G01JM(11/)N(21/00-24/14,
光学的分析
27/00-27/10, 27/14-27/24, 27/60-29/)
マーキング
B41M(5/, 99/)
写真
B44C(1/16-1/175)
フォトレジスト
G03C(1/, 3/00,301, 5/-11/)G(5/-11/)
電子写真材料
G03F(7/00-7/18, 7/26-7/42)
光学要素・ＥＬ素ＥＬ素子
G02B(1/-5/)C,G03H
子（２Ｏ）
H05B(33/)
光学要素
光学装置（２Ｖ）レンズ・光学系
G02B(7/-25/)
カメラ
G03B(1/-19/, 29/-31/, 35/-43/)
G03C(3/00(,301 除く), 3/00,351-3/02)
光デバイス（２Ｋ）発光素子
H01L(31/-33/)S
受光素子
一般レーザ
太陽電池
液晶素子（２Ｌ）液晶
光制御（２Ｘ）
G02B(6/35,26/-27/)
可変吸収
G02F(1/13-1/19,501)
光ビームの制御
G02B(6/00-6/34,6/36-6/54)
光ファイバー
G02F(1/00-1/125, 1/21-7/)
H01S(20/除く)
事務機器（２Ｃ）
電子写真・工程
G03G(13/-15/00,303, 15/00,550-21/)
電子写真・制御
印刷・プリンター印刷
（２Ｐ）
B41BCDFGJ(1/-9/, 17/-35/)
プリンター・ヘッド
B41KLM(1/-3/, 7/-9/)N
プリンター・全体
自然資源（２Ｂ）
耕耘
A01BCDFGLM
移植
A01K(1/-67/00,501, 67/033(,501 除く),
収穫
67/033,502-99/)
脱穀
A23K
畜産・養殖
A63BCD
水産
A63GJK
木材加工・栽培
A63F(7/00,7/04-7/40,9/-13/)H
栽培、捕獲・駆除
B02B
バイオ・その他
B27DHJKLMN
ゲーム・玩具
B42BCDF
事務用品
B43KLM
教習具
B68BC
時刻表・ラベル・広告等
G09BDF(1/-7/, 11/-27/)
- 15 -
運動
遊具
都市・地域基盤（２水工
Ｄ）
E01BCDFH
基礎工
E02BCDF
掘削
E03BF
陸路
E21BCDF
トンネル
アミューズメントスロット
A63F(1/-5/)
（２Ｎ）
アミューズメントパチンコ
A63F7/02-7/02,355
マシン（２Ｔ）
住環境（２Ｅ）
建築構造・部材
A45F
特定目的建築物
E04BCDFGH
施工
E06C
仕上げ
F16S
H02S(20/)
住宅設備（２Ｒ）錠
A47BHK
建具
E03CD
家具
E05BCDFG
サニタリー
E06B
- 16 -
資料２
（参考）平成２７年度大分野別出願動向調査（一般分野）における主要出願人
出願人
シスメックス株式会社
富士ゼロックス株式会社
株式会社ｇｌｏｏｐｓ
株式会社ディー・エヌ・エー
グリー株式会社
株式会社ニコン
京セラドキュメントソリューションズ株式会社
株式会社三共
松山株式会社
オリンパス株式会社
株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス
小橋工業株式会社
みのる産業株式会社
サミー株式会社
株式会社ウッドワン
大成建設株式会社
株式会社フジクラ
株式会社モリタ製作所
コナミホールディングス株式会社
古河電気工業株式会社
住友大阪セメント株式会社
株式会社大一商会
セイコーエプソン株式会社
ＴＯＴＯ株式会社
株式会社リコー
大日本印刷株式会社
凸版印刷株式会社
株式会社日立ハイテクノロジーズ
株式会社ジャパンディスプレイ
キヤノン株式会社
株式会社ユニバーサルエンターテインメント
日立建機株式会社
株式会社ＪＯＬＥＤ
サトーホールディングス株式会社
- 17 -
ＪＳＲ株式会社
日立アロカメディカル株式会社
株式会社日立メディコ
日東電工株式会社
理想科学工業株式会社
美津濃株式会社
任天堂株式会社
日立ＧＥニュークリア・エナジー株式会社
日本メジフィジックス株式会社
日置電機株式会社
日亜化学工業株式会社
独立行政法人日本原子力研究開発機構
東芝メディカルシステムズ株式会社
東海光学株式会社
鹿島建設株式会社
山佐株式会社
三鷹光器株式会社
公益財団法人鉄道総合技術研究所
古野電気株式会社
京楽産業．株式会社
株式会社北電子
株式会社平和
株式会社巴川製紙所
株式会社島津製作所
株式会社大都技研
株式会社小松製作所
株式会社三洋物産
株式会社沖データ
株式会社リガク
株式会社メニコン
株式会社ミツトヨ
株式会社ブイ・テクノロジー
株式会社ニューフレアテクノロジー
株式会社ニューギン
株式会社ニデック
株式会社タムロン
株式会社クボタ
株式会社キーエンス
- 18 -
株式会社オリンピア
株式会社アスカネット
株式会社ＬＩＸＩＬ
リコーインダストリアルソリューションズ株式会社(旧リコー光学株式
会社）
ミサワホーム株式会社
ブラザー工業株式会社
ネット株式会社
シチズンホールディングス株式会社
コニカミノルタ株式会社
オムロンヘルスケア株式会社
アズビル株式会社
アークレイ株式会社
ＹＫＫ
ＡＰ株式会社
ＮＥＣディスプレイソリューションズ株式会社
朝日レントゲン工業株式会社
東京応化工業株式会社
ダンロップスポーツ株式会社
株式会社カプコン
ヤンマー株式会社
エルシード株式会社
京セラ株式会社
株式会社堀場製作所
株式会社アンセイ
株式会社藤商事
株式会社日本パーツセンター
オーナンバ株式会社
東芝メディカルシステムズ株式会社
三鷹光器株式会社
株式会社セガホールディングス
Ｊ建設システム株式会社
- 19 -
資料３
（参考）平成２６年度大分野別出願動向調査（一般分野）における主要出願人（意匠）
出願人名
新東工業株式会社
株式会社ＪＶＣケンウッド
アキレス株式会社
日産自動車株式会社
株式会社不二工機
株式会社タケダレース
フクビ化学工業株式会社
株式会社岡村製作所
タカラトミー株式会社
大建工業株式会社
永大産業株式会社
ユニ・チャーム株式会社
株式会社ホンダアクセス
株式会社鷺宮製作所
株式会社エンジニア
ＴＯＮＥ株式会社
中央化学株式会社
- 20 -
資料４
（参考）検索式及びその検索式の妥当性判断に関する資料の具体例
１．放射線治療装置
（１）検索件数（ヒット率）
No.
1
テーマ名
放射線治療装置
日米欧中韓への出願（2005 年～2010 年）
2,366
ヒット率（サンプル数）
88% (182/208)
（２）検索式
検索式の説明
① 放射線療法、放射線手術、小線源
治療、ラジオ波焼灼療法
② X 線、 γ線、リニアック
③ サイバーナイフ、ガンマナイフ
④陽子線
⑤ 重粒子線、炭素線、ネオン線、ア
ルゴン線
件数
No
12,053
L1
158,259
78
504
358
L2
L3
L4
L5
⑥ 中性子線、 BNCT
947
L6
⑦ ○ ○ ○療法
112
L7
170,297
5,571
6,377
8,065
8,001
2,943
988
1,517
1,108
L8
L9
L10
L11
L12
L13
L14
L15
L16
592
163
1,063
2,366
L17
L18
L19
L20
IPC
IPC
除外： IPC/入浴療法、入浴装置
優先権主張年 2005-2010
出願先国：日本
出願先国：米国
出願先国：欧州
出願先国：中国
出願先国：韓国
出願先国： PCT
日米欧中韓
検索式
FILE WPINDEX
S RADIOTHERAP? OR RADIATION(W)THERAP? OR RADIOSURGER?
OR BRACHYTHERAP? OR RADIOFREQUENCY(W) ABLATION
S X(W)RAY OR GAMMA(W)RAY OR LINAC OR LINEAC
S CYBERKNIFE OR GAMMA(W)KNIFE
S PROTON(W)LINE OR PROTON(W)RAY OR PROTON(W)BEAM
S HEAVY(W)PARTICLE(W)BEAM OR HEAVY(W)ION(W)BEAM OR
HEAVY(W)CHARGED(W)PARTICLE(W)BEAM OR
CARBON(W)ION(W)BEAM OR NEON(W)ION(W)BEAM OR
ARGON(W)ION(W)BEAM OR CARBON(W)BEAM OR NEON(W)BEAM OR
ARGON(W)BEAM
S (NEUTRON(W)LINE OR NEUTRON(W)RAY OR NEUTRON(W)BEAM OR
BNCT OR BORON(W)NEUTRON(W)CAPTURE(W)THERAPY)
S RADIOISOTOPE(W)THERAP? OR
HEAVY(W)PARTICLE(1W)THERAP? OR
CARBON(W)ION(1W)THERAP? OR
CHARGED(W)PARTICLE(1W)THERAP? OR NEUTRON(W)THERAP?
S L1-L7
S L8 AND A61N/IPC
S A61N0005-10/IPC
S L9 OR L10
S L11 NOT A61H0033/IPC
S L12 AND 2005-2010/PRYF
S L13 AND (JPA? OR JPB? OR JPW? OR JPX?)/PK
S L13 AND US/PC
S L13 AND (EP OR AT OR BE OR CH OR CZ OR DE OR DK OR ES
OR FI OR FR OR GB OR HU OR IE OR IT OR LU OR NL OR NO
OR PT OR RO OR SE OR SK)/PC
S L13 AND (CNA? OR CNB? OR CNC?)/PK
S L13 AND (KRA? OR KRB?)/PK
S L13 AND WO/PC
S L14-L18
（３）出願上位者
順位
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
出願人 (国 )
SIEMENS AG(ドイツ )
三菱電機(日本 )
日立製作所 (日本 )
ACCURAY INC(米国 )
東芝 (日本 )
VARIAN MEDICAL SYSTEMS INC(米国 )
KONINK PHILIPS ELECTRONICS NV(オラン
ダ)
東芝メディカルシステムズ (日本 )
三菱重工業 (日本 )
ELEKTA PUBL AB(スウェーデン)
件数
277
120
116
77
76
69
50
40
出 30
願
件
数 20
64
54
51
47
10
0
2005
2006
2007 2008
優先権主張
2009
2010
（４）妥当性の判断
1 位のシーメンス社はドイツの多国籍企業で、90 年近く放射線治療に携わり、コバルト
装置やリニアックの提供から始めて、今では・・・。以上より、検索式は妥当と考える。
※
調査においては、技術分野に応じた、検索式の作成や出願上位者の予備調査等を行う
こと。
- 21 -
資料５
（参考）文献リストの書式の具体例
- 22 -
資料６
（参考）過去の調査実績を踏まえた大分野別出願動向調査の見込み工数
作業項目
(１)注目技術及びこれに関連する特許情報調査（１ヶ月あたり）
（２）注目デザインの調査（１ヶ月あたり）
(３)主要出願人の出願関連行動調査（主要出願人１者あたり）
(４)（３）の調査結果全体の取りまとめ
（５）主要出願人の意匠出願関連行動調査（主要出願人１者あた
り）
（６）（５）の調査結果全体の取りまとめ
(７)ニーズ即応型の技術動向調査（技術テーマ１件あたり）
(８)（１）～（７）を踏まえた総合分析
- 23 -
見込み工数
80 時間程度
8 時間程度
14 時間程度
5 時間程度
2 時間程度
5 時間程度
190 時間程度
5 時間程度

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