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平成２８年度大分野別出願動向調査
－化学分野－
仕
様
特許庁
書
１．件名
平成２８年度大分野別出願動向調査―化学分野―
２．事業目的
今後の出願・審査請求動向に影響を与え得る注目技術等についての特許出願動向、研究
開発状況等を調査・分析することで、審査体制の整備強化や、出願・審査請求構造改革支
援等の施策を企画・立案することが重要である。また、ノーベル賞受賞など社会的関心が
高い技術分野について特許庁内外のニーズに即応する形で特許出願動向、市場動向等を調
査・分析することで、特許庁内外の今後の施策の企画・立案を支援することも重要である。
そこで、特許庁では、新聞、雑誌、論文に取り上げられた新しい注目技術を把握して当
該注目技術に関する周辺の特許情報を調査し、主要出願人の注目すべき出願関連行動情報
及びその関連特許出願を調査するとともに、ノーベル賞受賞（候補）の技術など社会的関
心が高い技術分野の特許出願動向や市場動向などを調査する。これにより、（１）特許庁
内外の施策の企画・立案・実施、（２）出願人の多様な事業戦略に応じた具体的施策の企
画・立案・実施に必要な基礎資料の整備を図ることとする。
全技術分野を４つの分野（「機械」、「化学」、
「電気・電子」及び「一般」）に区分し、本
調査では化学分野における、注目技術に関連する特許及びその周辺情報等を調査すること
により、各種の施策に必要な基礎資料とする。
３．調査の進め方
・新聞、雑誌、論文、ホームページをはじめとする公表資料（商用データベースを含む）
に取り上げられた化学分野（「資料１」を参照）に属する最新の注目技術を抽出して関
連する特許情報を取りまとめる。
・化学分野における主要出願人の出願関連行動情報について、各種新聞、雑誌、論文、プ
レスリリース、有価証券報告書、アニュアルレポート、ホームページをはじめとする公
表資料の中から情報を抽出し、当該出願人の今後の出願関連行動について分析する。
・特許庁担当者が指定する化学分野における１０程度のニーズ即応型技術テーマ（ノーベ
ル賞受賞（候補）の技術など）に関して、商用データベース等を利用して、特許出願動
向、市場動向等を調査し、特許庁担当者の指示した調査開始時期から２ヶ月程度で取
りまとめる。
・注目技術及び注目技術に関連する特許情報、主要出願人の今後の出願関連行動、及びニ
ーズ即応型の出願・登録状況調査についての分析結果から、注目技術をはじめとする化
学分野における今後の特許出願動向について分析を行う。
具体的には、以下の調査・分析を行う。
（１）注目技術及びこれに関連する特許情報調査
（ａ）調査対象
２０１６年４月～２０１７年３月の間に公表された新聞１０紙程度（そのうち技術
に関する新聞３紙程度）、雑誌・論文（計５誌程度）をはじめとする公表資料（商用
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データベースを含む）
（以下、３．
（１）内で「公表資料」という場合は、これを指す）
に取り上げられた化学分野における注目技術に関連する特許出願。
なお、以下は、新聞、雑誌・論文の対象例である。
※例
①新聞
朝日新聞、毎日新聞、読売新聞、日本経済新聞、産経新聞、東京新聞、Fuji
Business i、日経産業新聞、日刊工業新聞、化学工業日報
②雑誌・論文
日経エレクトロニクス、日経バイオテク、日経エコロジー、Nature、Science
（ｂ）調査項目（以下、３．（１）内で「調査項目」という場合は、これを指す）
①公表資料の概要
②公表資料に関連する特許出願（以下、３．（１）内で「特許出願」という場合は、
これを指す）の技術概要
③公表資料及び特許出願に対応する技術観点（「資料１」を参照）
④特許出願の書誌的事項（出願番号（出願日）、公開番号（公開日）、登録番号（登録
日）、出願人、発明者、国際特許分類及び FI、発明の名称）
⑤特許出願のパテントファミリー（全世界）
⑥特許出願の審査経過情報
⑦特許出願の関連情報（例えば、同発明者の出願、同出願人の関連出願、等の関連情
報）
（ｃ）調査手法
①調査項目①について
・新聞、雑誌・論文をはじめとする公表資料に取り上げられた当該化学分野におけ
る注目技術を抽出し、その公表資料の概要を簡潔に要約して作成する。
・注目技術の抽出に当たっては、特許庁担当者と相談の上選定する。
②調査項目②～⑥について
・公表資料から抽出した上記注目技術に関する特許出願を、商用データベース等を利
用して検索し、当該特許出願について、調査項目②～⑥を調査の上、各調査項目に
ついて取りまとめる。
・特許庁担当者から指定された重要な記事（訴訟事件等）については、調査項目
①～⑥の他、事件に関する詳細情報を簡潔にまとめたレポートを作成し、特許
庁担当者へ送付する。
③調査項目⑦について
・取りまとめた特許出願のうち、特に注目度が高い特許出願については、特許庁担当
者と相談の上、更に関連情報（例えば、同発明者の特許出願（出願番号、公開番号、
登録番号）、同出願人の同技術に関する一連の関連出願（出願番号、公開番号、登
録番号）、等の関連情報）についても調査し、取りまとめる。
・注目度が高い特許出願の選定に係る基準等については、特許庁担当者と相談の上決
定する。
（ｄ）調査取りまとめ
①調査項目①～⑥については、公表資料の公表日の翌日を目処に、取りまとめて
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電子データで特許庁に報告する。取りまとめ方法については、特許庁担当者と相談
の上行う。なお、調査は２０１６年４月分から溯って行うものとし、遡り分の取り
まとめ方法及び特許庁への報告時期は、特許庁担当者と相談の上行う。
②調査項目⑦については、各月ごとに当該月の２０日までの１ヶ月間に公表された資
料の中から選定し、原則、公表された月の翌月の実働日初日までに、電子データで
特許庁に報告する。なお、取りまとめについては、特許庁担当者と相談の上行う。
③調査項目①～⑦を揃えたものを中心に、調査対象期間のうち２０１７年３月調査
分までを取りまとめた内容を「平成２８年度大分野別出願動向調査―化学分野―」
報告書（以下、「調査報告書」という。）において報告する。
（２）主要出願人の特許出願関連行動調査
（ａ）調査対象
化学分野における、特許庁が指定する１００程度の主要出願人についての、２
０１６年４月～２０１７年３月の間に公表された新聞１０紙程度（そのうち技
術に関する新聞３紙程度）、雑誌・論文（計５誌程度）、ホームページをはじめ
とする公表資料（以下、３．
（２）内で「公表資料」という場合は、これを指す）
の中から、当該主要出願人の注目すべき出願関連行動情報（a.会社情報、b.知
財情報、c.技術開発状況）及びその関連特許出願。
なお、主要出願人の対象例として、平成２７年度大分野別出願動向調査（化学
分野）における主要出願人を資料２に例示する。
また、以下は、各種新聞、雑誌・論文、ホームページの対象例である。
※例
①新聞
朝日新聞、毎日新聞、読売新聞、日本経済新聞、産経新聞、東京新聞、Fuji Sankei
Business i、日経産業新聞、日刊工業新聞、化学工業日報
②雑誌・論文
日経エレクトロニクス、日経バイオテク、日経エコロジー、Nature、Science
③ホームページ
出願人のホームページ、Yahoo!ファイナンス
（ｂ）調査項目（以下、３．（２）内で「調査項目」という場合は、これを指す）
①会社情報
・会社概況
・企業のトピックス（プレスリリースにおける開発・知財等への記述、有価証券報
告書の事業等のリスクにおける開発・知財等への記述、アニュアルレポートにお
ける開発・知財等への記述、経営上の重要な契約、事業の拡大縮小、国内・海外
での事業展開、主要製品、企業沿革、主要関連会社（親会社、子会社、関連会社
等）、提携・合併情報、売上対研究開発費等をはじめとする公表されている情報）
・同業他社を含む業界の相関図を作成すること。
※特許庁が指定する場合、その業種についての相関図を作成すること。
②知財情報
経営における知財の位置付け、知財体制（グループ会社を含む）、ライセンス契
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約状況、知財訴訟（和解含む）、各種知財指標（従業員１人当たりの特許登録件
数／特許出願件数、特許１件当たりの研究開発費）、をはじめとする公表されて
いる情報
③技術開発状況
④上記①～③に関連する特許出願（例えば、プレスリリースに関連する特許出願、ラ
イセンスに関連する特許出願、知財訴訟に関連する特許出願等の関連する特許出願）
（以下、３．（２）内で「特許出願」という場合は、これを指す）
⑤各国・地域への特許出願動向
特許庁担当者が指定する主要出願人について、WPI 又は INPADOC のいずれかで調査
可能な国・地域の中から特許庁担当者が指定した１６程度の国・地域への特許出願
件数推移、主要な国際特許分類ごとの過去５年程度の特許出願件数推移を調査する。
（ｃ）調査手法
①調査項目①～③について
・上記公表資料の中から当該主要出願人の注目すべき出願関連行動情報（会社情報、
知財情報、技術開発状況）を抽出する。
・調査項目②のライセンス契約、知財訴訟における知財の対象範囲は、特許・実用
新案・意匠・商標とする。
②調査項目④について
上記抽出した情報に基づき、関連する特許出願を調査する。
③調査項目⑤について
特許庁担当者が指定する主要出願人について、２０１４年までの３年以上の期間
の各年の特許出願件数及び当該期間の総出願件数を、出願先国別に調査し、表及
びグラフを作成する。
調査に使用したデータベースやデータの取得条件（取得日、カウント方法等）を
明記すること。
（ｄ）調査取りまとめ
①特許庁担当者から指示があった都度、指示があった日から２週間以内に、調査内容
を電子データで報告する。ただし、特許庁担当者から別途指示があった場合には、
特許庁担当者が指定する期間内に調査内容を電子データで報告する。また、その調
査内容については、報告書作成時点における最新のデータに更新する作業を行った
上で「調査報告書」においても報告する。
②調査項目の詳細については、特許庁担当者と相談すること。
（３）（２）の調査結果全体の取りまとめ
調査対象期間のうち２０１６年３月調査分までを取りまとめた内容を「調査報告書」
において報告する。
（４）ニーズ即応型の技術動向調査
（ａ）調査対象
ⅰ）少なくとも日本、米国、欧州、中国、韓国を含む５～１５の国（地域）における
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特許出願
ⅱ）少なくとも日本、米国、欧州、中国、韓国を含む５～１５の国（地域）における
特許登録
ⅲ）PCT 出願
※ⅰ）～ⅱ）において、日本、米国、欧州、中国、韓国以外の出願先国（地域）
については、特許庁担当者と相談の上で決定する。
（ｂ）時期的範囲
ⅰ）特許出願
：２００５年～２０１４年（優先権主張年ベース）
ⅱ）登録特許
：２００５年～２０１４年（優先権主張年ベース）
ⅲ）PCT 出願
：２００５年～２０１４年（優先権主張年ベース）
※ⅰ）～ⅲ）において、時期的範囲については、特許庁担当者から別途指示があ
った場合はその時期的範囲について調査する。追加する時期的範囲は５年まで
とするが、特許庁担当者及び調査会社の双方の同意の上であれば５年を超えて
もよいものとする。
（ｃ）調査項目（以下、「３．（４）」内で「調査項目」という場合は、これを指す）
ⅰ）技術概要（３頁程度）
以下の項目のうち、特許庁担当者が指定するものについて調査すること
・調査対象技術の説明
・市場・政策動向（例えば、市場規模の予測・推移、市場シェア、市場輸出入
推移、科学技術政策、産業政策等）
・訴訟動向
ⅱ）①出願先国（地域）別の特許出願件数推移・比率
②出願先国（地域）別の特許登録件数推移・比率
ⅲ）①出願人国籍（地域）別の特許出願件数推移・比率
②出願人国籍（地域）別の特許登録件数推移・比率
ⅳ）出願人国籍（地域）別の PCT 出願件数推移・比率
ⅴ）①出願先国（地域）別－出願人国籍（地域）別の特許出願件数
②出願先国（地域）別－出願人国籍（地域）別の特許登録件数
ⅵ）①出願先国（地域）別－出願人国籍（地域）別の特許出願件数収支
②出願先国（地域）別－出願人国籍（地域）別の特許登録件数収支
ⅶ）技術区分別－出願人国籍（地域）別の特許出願件数推移・比率
ⅷ）出願人別出願件数
①特許出願上位１０者程度及びその出願件数
②技術区分別の特許出願上位５者程度及びその出願件数
③各国（地域）での特許出願上位５者程度及びその出願件数
ⅸ）①主要出願人別の出願先国別－特許出願件数推移・比率
②主要出願人別の出願先国別－特許登録件数推移・比率
※出願人国籍は、基本的に出願人名または出願人住所に基づいて特定するこ
と。ただし、データベースの都合上、出願人国籍の特定が難しい場合は、出
願人国籍を決定するにあたり特許庁担当者と相談すること。
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※ⅱ）～ⅸ）において、特許出願動向を調査する際は少なくともＩＰＣ、ＦＩ、
ＣＰＣ、テキストで検索が行なえるデータベースを利用すること。
※ⅱ）～ⅶ）において、出願人国籍（地域）別の調査は、日本、米国、欧州、
中国、韓国を含む、特許庁担当者が指定する５～１５の国（地域）につい
て集計する。
※ⅱ）～ⅸ）において、出願件数、登録件数は優先権主張日ベースとする。
※ⅶ）及びⅷ）において、技術区分別の調査は、２～１０の区分について行う。
特許庁担当者が、技術区分に追加して出願人住所等データベースに収録さ
れている項目を１～２程度指定することがあるので対応すること。
※ⅸ）において、主要出願人別の調査は、５程度の出願人について行う。
ⅹ）注目特許の調査
注目特許リスト（例えば、基本特許、事業化や売上に重要な役割を果たして
いる特許、侵害訴訟に関連する特許、標準（デジュール標準、フォーラム標
準、デファクト標準等）に関連する特許、ライセンス契約に関連する特許、
特許庁担当者が指定する注目出願人が出願した特許、特定発明者に関する特
許等）
※注目特許リストには、少なくとも、出願番号、公開番号、登録番号、審査
状況、国際特許分類、発明の名称、出願人、出願人国籍、パテントファミ
リーの出願先国を記載する。リストに記載の項目は、特許庁担当者と相談
の上決定する。
※審査状況（例えば、特許査定済、拒絶査定済、審査中、審査請求前、な
ど）については注目特許に日本のファミリーがある場合などに調査を行う
こと。
xi）論文動向調査（例えば、論文発表件数推移、研究者所属機関国籍別論文発表
件数比率、研究者所属機関別論文発表件数上位５者程度及びその発表件数、
研究者別論文発表件数上位５者程度及びその発表件数、など）
（ｄ）調査手法
ⅰ）調査テーマの指定：ニーズ即応型の技術テーマは、特許庁担当者が、各月１テ
ーマ程度、合計で１０程度の技術テーマを指定する。
ⅱ）調査開始の指示：各技術テーマの調査開始は特許庁担当者が指示する。その際、
特許庁担当者と相談の上、調査開始から２ヶ月程度先を目安に報告期限を設定
する。各月技術テーマの指定があることから、２テーマ程度の技術テーマを並
行して調査する必要がある点に留意すること（特に、主要出願人の調査が集中
する１０月～１月の時期において、調査遅延が生じないように対応すること）。
なお、特許庁担当者が調査開始を指示した後、早急に調査開始すべき新たな技
術テーマが選定された場合は、特許庁担当者と相談の上、３以上の技術テーマ
の並行調査や調査順序の入れ替えに対応すること。
ⅲ）調査スケジュールの作成：特許庁担当者が調査開始を指定してから２実働日以
内に、調査スケジュールを特許庁担当者に送付し、承認を受けること。
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ⅳ）検索式の妥当性確認：各技術テーマの調査においては、調査を行うための検索
式を作成し、作成した検索式が妥当か否かを、「（ｃ）調査項目ⅷ）」の予備
調査結果や、サンプルチェックにより算出したヒット率等の情報から判断す
る。
なお、調査開始に当たっては、検索式及びその妥当性を判断するための情報を
特許庁担当者に提示し、確認を受ける。また、「（ｃ）調査項目ⅶ）」の調査
を行うに当たっては技術テーマをいくつかの要素技術に区分けし、各技術区分
に対応する検索式を作成して、調査を行う。技術区分の設定及び各技術区分に
対応する検索式については、特許庁担当者と相談の上決定する。
ⅴ）文献リストの作成：検索式が決定した後に、技術区分ごとに、検索で抽出される
文献について、出願番号、優先権主張日、公開番号（第１国出願）、公開日（第
１国出願）、出願人、登録番号（登録されている場合のみ）、国際特許分類（Ｉ
ＰＣ）、共通特許分類（ＣＰＣ（付与されている場合のみ））、出願人国籍、出
願先国（第１国）、パテントファミリー出願先国、発明の名称、要約を掲載した
文献リストを作成する。文献リストは、「（ｄ）調査手法 ⅱ ）」で設定した報
告期限までに、特許庁担当者に電子データで提出する。文献リストに掲載する
文献数は、一の技術テーマにつき１００００件以下を目安とし、文献リストに
掲載する文献の選定方法は、特許庁担当者が指定する（例えば、調査対象とし
た文献全体のうちの一部を指定する場合もある）。
ⅵ）出典の記載・著作権等の確認：調査を行う際に参考とした文献は、各「ニーズ
即応型の技術動向調査の調査報告書」の末尾に出典を明記する。また、写真等
の図表を使用する場合には転載許諾等を取得すること。
ⅶ）説明用資料の作成：調査内容を簡潔に説明するための説明用資料を作成し、特
許庁担当者の承認を受けること。説明用資料は、「（ｄ）調査手法 ⅱ）」で設
定した報告期限までに、特許庁担当者に電子データで提出する。
ⅷ）有識者ヒアリングの実施：各技術テーマにおける有識者に対するヒアリングを
実施し、ヒアリングの結果を特許庁担当者に報告する。なお、ヒアリングは技
術テーマごとに２人・社程度に対して行うものとする。なお、有識者ヒアリン
グの少なくとも１人・社に対しては調査結果が公表されることを説明し、内容
の確認を行うこと。ヒアリング報告書は、特許庁担当者に電子データで提出
する。
ⅸ）調査の取りまとめ：「（ｄ）調査手法ⅱ ）」で設定した報告期限までに調査結果
を取りまとめ、技術テーマ毎に「ニーズ即応型の技術動向調査の中間報告書」及
び「ニーズ即応型の技術動向調査の中間時点における説明用資料」を中間提出物
として特許庁担当者に電子データで報告する。「ヒアリング報告書」、「転載許
諾一覧及びその写し」についても併せて提出すること。
ただし、ヒアリング対象者の都合等により、報告期限までにヒアリングを実施で
きない場合には、特許庁担当者の承諾を得たうえで、「（ｄ）調査手法 ⅱ）」で
設定した報告期限後にヒアリング報告書を提出してもよい。また、ヒアリング報
告書の提出と併せて、必要に応じて「ニーズ即応型の技術動向調査の中間報告書」
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及び「ニーズ即応型の技術動向調査の中間時点における説明用資料」を修正して
再提出すること。
「ニーズ即応型の技術動向調査の中間報告書」については、内容の修正の必要
が生じた場合には修正を行った上で「調査報告書」でも報告すること。「ニーズ
即応型の技術動向調査の中間時点における説明用資料」についても内容の修正の
必要が生じた場合には修正を行った上で納入すること。
※検索式の確認資料の例を、「検索式及びその検索式の妥当性判断に関する資料の具
体例」（資料３）に示す。
※文献リストの書式の例を、「文献リストの書式の具体例」（資料４）に示す。
（５）iPS 細胞関連技術、ヒト ES 細胞関連技術の出願動向等
（ａ）調査対象
①２０１６年１月～２０１６年１２月の間に日本、米国、欧州、中国、韓国、ロシ
ア、インドをはじめとする世界各国（地域）において公開された特許出願
※欧州への出願については、EPC 加盟国への出願及び EPC への出願をはじめとした
出願（EPC 非加盟の周辺諸国への出願を含む）とする。
※出願人国籍は、目視又は目視と同等の手法で特定すること。
②２０１６年１月～２０１６年１２月の間に公開された国際特許出願（PCT 出願）
③２０１６年４月～２０１７年３月の間に発表された論文
④２０１６年４月～２０１７年３月の間に公表された新聞１０紙程度（そのうち技
術に関する新聞２紙程度）、雑誌・論文（計１０紙程度）をはじめとする公表資
料及びインターネット情報等
なお、以下は、各種新聞、雑誌・論文、ホームページの対象例である。
※例
①新聞
朝日新聞、毎日新聞、読売新聞、日本経済新聞、産経新聞、東京新聞、Fuji Sankei
Business i、日経産業新聞、日刊工業新聞、化学工業日報
②雑誌・論文
日経バイオテク、Nature、Science、Cell、Nature Biotechnology、Nature Cell
Biology、Nature Genetics、東洋経済、ダイヤモンド、日経ビジネス
③ホームページ
Cell、Nature、Science、WIPO、USPTO、Espacenet のホームページ
（ｂ）調査・分析項目
①iPS 細胞関連技術、ヒト ES 細胞関連技術の出願動向
・日本、米国、欧州、中国、韓国、ロシア、インドをはじめとする世界各国
（地域）において公開された iPS 細胞関連技術、ヒト ES 細胞関連技術の発明
について、上記特許出願の書誌的事項（出願番号（出願日）、公開番号（公開
日）、登録番号（登録日）、出願人、発明者、国際特許分類及び FI、発明の名
称等）、技術の概要等の情報を取得し、それぞれ優先権主張年（出願年）、出願
人国籍、技術内容ごとに出願件数を集計すること。
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②iPS 細胞関連技術、ヒト ES 細胞関連技術の PCT 出願動向
・PCT 出願された iPS 細胞関連技術、ヒト ES 細胞関連技術の発明について、そ
れぞれ公開日、技術内容毎に出願件数を集計し、技術の概要等について情報を
収集すること。
③iPS 細胞関連技術、ヒト ES 細胞関連技術の論文動向
・公表された iPS 細胞関連技術、ヒト ES 細胞関連技術に関する論文について、
それぞれ公表日、技術内容ごとに公表件数を集計し、技術の概要等について情
報を収集すること。
④iPS 細胞関連技術、ヒト ES 細胞関連技術に関する、新聞、雑誌、論文、インタ
ーネット等における公表情報、及び関連する特許出願
・新聞、雑誌、論文、インターネット等において公表された iPS 細胞関連技術、
ヒト ES 細胞関連技術に関する情報について、それぞれ公表件数を集計するこ
と。また、技術の概要等及び関連する特許出願についても情報を収集すること。
⑤上記①～④の調査結果に基づいた分析を行うこと。
（ｃ）調査・分析手法
①３．（５）（ｂ）①について、特許庁担当者と相談の上、商用データベース等を
使用して検索を行い、該当した文献が、当該発明自体に関する文献かどうか詳細
解析を行い、（ｂ）①に記載された項目別に集計し、技術の概要等について情報
を収集する。この際、上記技術の概要等についても特許庁担当者と相談する。
②３．（５）（ｂ）②について、特許庁担当者と相談の上、WIPO のホームページ
における公表情報(PATENTSCOPE)を使用して検索を行い、該当した文献が、当該
発明自体に関する文献かどうか詳細解析を行い、（ｂ）②に記載された項目別に
集計し、技術の概要等について情報を収集する。この際、上記技術の概要等につ
いても特許庁担当者と相談する。
③３．（５）（ｂ）③について、特許庁担当者と相談の上、商用データベース等を
使用して検索を行い、該当した論文が、当該技術自体に関する論文かどうか詳細
解析を行い、（ｂ）③に記載された項目別に集計し、技術の概要等について情報
を収集する。この際、上記技術の概要等についても特許庁担当者と相談する。
④３．（５）
（ｂ）④について、特許庁担当者と相談の上、新聞、雑誌、論文、イン
ターネット情報等の公表資料から、上記情報を抽出し、該当した資料が、当該技
術自体に関する資料かどうか詳細解析を行い、その公表資料の概要を簡潔に要約
して作成する。
また、公表資料に関する技術の概要等及び公表資料から抽出した上記情報に関す
る特許出願を、商用データベース等を利用して検索し、該当する特許出願を抽出
する。
⑤３．
（５）
（ｂ）⑤について、重要と思われる論文の推移と上記出願動向（例えば、
出願系統図）について分析を行う。
（ｄ）調査・分析の取りまとめ
①３．（５）（ｂ）①について
・優先権主張年（出願年）、出願人国籍、技術内容ごとに出願件数を集計し、技
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術の概要等に関する情報と併せて取りまとめる。なお、取りまとめについては、
特許庁担当者と相談の上行う。
②３．（５）（ｂ）②について
・公開日ごとに出願件数を集計し、技術の概要等に関する情報と併せて取りまと
める。
・取りまとめた内容は、週に一度、特許庁担当者に電子データで報告する。なお、
取りまとめについては、特許庁担当者と相談の上行う。
③３．（５）（ｂ）③について
・公表日ごとに論文数を集計し、抽出された論文について、技術の概要等に関す
る情報と併せて取りまとめる。
・取りまとめた内容は、週に一度、特許庁担当者に電子データで報告する。なお、
取りまとめについては、特許庁担当者と相談の上行う。
④３．（５）（ｂ）④について
・抽出された公表資料の要約及び公表資料に関する特許出願は、原則、公表資料
の公表日の翌営業日までに取りまとめて、特許庁担当者に電子データで報告す
る。なお、取りまとめについては、特許庁担当者と相談の上行う。
⑤３．（５）（ｂ）①～⑤について
・上記３．（５）（ｂ）①～④について上記取りまとめた内容及び３．（６）（ｂ）
⑤の分析結果を、月に一度、リスト等に取りまとめて電子データで特許庁担当
者に報告する。なお、取りまとめについては、特許庁担当者と相談の上行う。
・上記取りまとめた内容は、別冊「平成２７年度 iPS 細胞関連技術及びヒト ES
細胞関連技術に関する出願動向等調査報告書」（以下、「別冊報告書」という）
において報告する。なお、「別冊報告書」において報告する期間及び内容につ
いては、特許庁担当者と相談の上決定する。また、「別冊報告書」において報
告した内容をまとめた説明用資料も、併せて作成する。集計結果としてまとめ
た電子データ及びその基礎データについては、調査終了時点で特許庁に納入す
る。
（６）（１）～（５）を踏まえた総合分析
（ａ）（１）～（５）を踏まえ、化学分野における今後の特許出願動向を総合的に分析
し１頁程度にまとめる。
（ｂ）その内容は「調査報告書」において報告する。
４．調査に当たっての留意事項
（１）報告書の作成に当たっては、
「平成２８年度大分野別出願動向調査報告書作成要領」
の指示に従うこと。
（２）説明用資料の作成に当たっては「平成２８年度大分野別出願動向調査説明用資料作
成要領」の指示に従うこと。ただし、特許庁担当者から別途指示があった場合は、
その指示に従うこと。
（３）外国特許の情報についても原則として日本語で報告書に記載すること。
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（４）調査の具体的内容については、特許庁担当者と十分な打合せを行うこと。
（５）打合せを行った際は、議事録を作成し、１週間程度以内に特許庁担当者に提出し、
承諾を得ること。
（６）一時期に各調査の業務が集中する場合にも、対応できる業務体制とすること。調査
実施体制及び調査の内容等の変更については、事前に特許庁に申し出、承諾を得る
こと。
（７）調査に関する情報（報告書作成のために用いた情報、調査で得た情報等）は、随時
特許庁に連絡すること。
（８）ニーズ即応型の技術動向調査に関して有識者に対するヒアリングを行う際は、対象
者に対し、ヒアリングの結果が調査結果に反映されることを事前に説明し、承諾を
得ること。また、ヒアリングの際に有識者に対し、調査結果が公表されることを説
明し、公表内容に問題がないかの確認を受けること。
（９）ニーズ即応型の技術動向調査に関して有識者に対するヒアリングを行う際は、対象
者に対し、ヒアリングの結果が調査結果に反映されることを事前に説明し、承諾を
得ること。また、ヒアリングの際に有識者に対し、調査結果が公表されることを説
明し、公表内容に問題がないかの確認を受けること。また、ヒアリング対象者に対
して謝金を支払うこと。
（１０）ヒアリングを実施する前に、その内容と対象者について、特許庁担当者と相談す
ること。また、ヒアリングを実施した場合は、その内容について、「ヒアリング報
告書」にて特許庁に報告すること。
（１１）報告書に掲載する図面、写真等を他の文献等から転載する場合には、著作権者か
ら転載許諾を得た上で、出典を明記すること。また、転載許諾を得た図面、写真等
の情報を一覧にまとめ、転載許諾書の写しとともに、特許庁に提出すること。ニー
ズ即応型の技術動向調査については各技術テーマの調査結果の提出と同時に当該一
覧表を提出すること。
（１２）納入物、「ニーズ即応型」についての中間提出物、及び、その他の提出物（調査
期間中に提出された電子データを含む）については、特許庁において必要な加工等
を行い、特許庁内外において利用されることがある。当該利用に関し、調査請負機
関は、著作者人格権を行使しないこととする。
（１３）原則、提案書に提案した事項については、遵守すること。
（１４）実際の納入日については、納入期限の数日（７日程度）前に設定することもある
ため留意すること。具体的な納入日時は、特許庁担当者と相談のうえ決定するもの
とする。
（１５）納入物等の作成に当たっては、「環境物品等の調達の推進に関する基本方針（平
成２８年２月２日閣議決定）」に配慮すること。
（１６）特許庁図書館又は国立国会図書館に配架されている昨年度の同調査報告書につい
て、必要に応じて参考とすること。
５．納入物及び納入期限
- 11 -
納入物
数量
納入期限
調査報告書の電子データ
一式（Word、PDF）
調査報告書の紙出力
２部
別冊報告書の電子データ
一式（Word、PDF）
別冊報告書の紙出力物
２部
各技術テーマにおけるニーズ即応型の技
一式（Power Point®）
平成２９年３月３１日
術動向調査の説明用資料の電子データ
別冊報告書の内容をまとめた説明用資料
一式（ Word 、 Power
の電子データ
Point®）
注目技術及びこれに関する特許情報調査
一式（Excel）
に係る電子データ
主要出願人の出願関連行動調査に係る電
一式（Word）
子データ
iPS 細胞関連技術、ヒト ES 細胞関連技術
一式（Excel）
に係る電子データ
※各電子データについては、各項目で指定された期限までに提出することとし、
各報告日を明記の上、CD-R 又は DVD-R に保存し、各２セット納入すること。
※納入場所については、特許庁担当者と調整すること。
６．提出物及び提出期限
提出物
著作権転載許諾一覧及び転載許諾
数量
提出期限
一式（Word、PDF）平成２９年３月３１日
ニーズ即応型の各技術テーマに
の写しの電子データ
著作権転載許諾一覧及び転載許諾
ついては、特許庁担当者が指定
１部
する日と平成２９年３月３１日
の写しの紙出力物
報告書中の図表の電子データ
一式（Excel®）
の両日を期限として、２回の提
打ち合わせ議事録の電子データ
一式（Word）
出を行うこととする。
各技術テーマにおけるニーズ即応
一式（Word）
型の技術動向調査の中間報告書の
電子データ
各技術テーマにおけるニーズ即応
一
式
（
型の技術動向調査の中間時点にお
Point®）
Power
ける説明用資料の電子データ
各技術テーマにおけるヒアリング
一式（Word）
- 12 -
報告書の電子データ
各技術テーマにおけるニーズ即応
一式（Excel®）
型の技術動向調査の文献リストの
電子データ
各技術テーマにおけるニーズ即応
一式（Word、PDF）
型の技術動向調査の調査結果に関
する著作権許諾一覧及び転載許諾
の写しの電子データ
各技術テーマにおけるニーズ即応
１部
型の技術動向調査の調査結果に関
する著作権許諾一覧及び転載許諾
の写しの紙出力物
調査報告書の紙出力（白黒片面印
１部
刷）
※電子データについては一括して CD-R 又は DVD-R に保存し、２セット提出すること。
※提出場所については、特許庁担当者と調整すること。
※提出物について所有権の移転の時期は、庁担当者へ報告（提供）した時とする。
７．その他
過去の調査実績を踏まえた大分野別出願動向調査の見込み工数を資料５に例示する。
- 13 -
資料１
化学分野の対象分野
化学分野の対象分野は、以下に示す審査第三部の担当技術の範囲を指すものと定義する。
※ただし、技術単位移管や担当技術移管等があった場合は、それらに合わせて対象分野も
変更されるものとする。
特許審査第三部が担当する技術の観点
技術単位（技術単位
主な技術分野
コード）
無機化学（４Ｇ）
触媒
B01J(21/-38/)
非金属元素その化合物
C01BCDFG
金属化合物
C40B(40/18)
セラミックスセメント、粘土の加工
（４Ｔ）
B28BC
ガラスの製造・組成・表面処理 C03BC
コンクリート・セラミックス
蒸着・単結晶成蒸着
長（４Ｇ）
素材加工（４Ｅ）
担当技術
C04B
C23C(14/-16/)
単結晶成長
C30B
圧延
B21BC(45/-49/)
鋳造
B22CD
精錬
C21BC,C22B
金属の表面処理
C23C(2/-12/,18/-)DFG
電解処理
C25BCDF
樹脂加工（４樹脂成形
B29B(7/-11/14,13/-15/06)C(31/-71/02,7
Ｒ）
3/)D(1/-7/,11/-99/)
但し、B29C67/20-67/24,B29D30/を除く
金属電気化学（４粉末冶金
B22F
Ｋ）
溶接材料・はんだ材料
B23K(35/)
合金・合金製造・熱処理
C21D,C22CF
炉
F27BD
電気化学（４電線
H01B
電池（４Ｘ）
H01M2/-8/02,8/08-10/39
Ｘ）
電池
- 14 -
医療（４Ｃ）
化合物含有医薬、生体物質含有医 A61K(31/,33/)P
薬
医薬品製剤（４製剤・医療材料
A61K(6/,9/,47/),A61L(15/-33/)
バイオ医薬（４バイオ医薬・再生医療
A61K(35/-45/,48/-49/)
Ｃ）
Ｕ）
生命工学（４Ｂ）
遺伝子
C12N(15/),
C40B(10/,40/02,40/06-40/10,50/06)
蛋白質工学（４ペプチド・蛋白質
C07GK
食品・微生物微生物・酵素
C12MN(1/-13/)PQS
Ｂ）
（４Ｎ）
環境化学（４Ｄ）
植物・動物
A01HK(67/02-67/033)
食品・飲料
A01J,A21D,A23BCDFGJL,C12CFGHJL,C13BK
破砕・粉砕
B02C
水処理・生物学的水処理
B01D(21/,53/22,61/-)J(39/-),C02F
固体廃棄物
B09BC,B29B(17/),C08J(11/)
食料品以外の消毒・殺菌
A61L(2/,11/)
化粧料
A61K(8/)Q
分離処理（４混合
Ｑ）
B01F(1/-15/)
分離
B03B,B03C,B04C,B07B
消火剤
A62D
ガス分離・廃ガス処理
A61L(9/)
固体分離・液分離・同位体分離・ B01BD(1/-19/,23/-53/18,53/24-53/36,
濾過・処理操作一般
57/-59/)F(17/)J(2/-20/)L,B03D,B04B,
F25J
有機化学（４Ｈ）
有機化合物
C07BCF
コンビナトリアルケミストリー C40B(40/00,40/04,40/16,50/00,50/04,
50/08-60/02,60/06-60/08,60/14-99/)
複素環化合物
（４Ｐ）
Ｎ含有単環・非縮合複素環・
縮合複素環
糖類・多糖類・ステロイド
農薬・染料（４農薬・殺生物剤
Ｈ）
C07D
C07HJ,C08B,C40B(40/12)
A01NP
染料・染色
C09B,D06P
- 15 -
化学応用（４Ｖ）
石炭・石油・燃料
C10BCFGHJKL
火薬
C06BCDF
艶出剤、潤滑剤
C09FG,C10MN
洗剤・油脂・香料
C11BCD
肥料
C05BCDFG
化合物のその他の用途
C09K
塗料・接着剤塗料・除去剤
（４Ｚ）
C09D(1/-9/,101/-201/)
接着方法・特殊接着剤・
C09J
接着テープ
高分子（４Ｊ）
顔料、ＣＢ、木材ステイン
C09C,C09D(11/-17/)
付加系高分子・ゴム
C08CF
縮合系高分子
C08G
天然高分子
C08H,C09H
コンビナトリアルケミストリー C40B(40/14)
高分子組成物高分子組成物
C08KL
（４Ｗ）
プラスチック工学高分子処理
B29B(11/16,15/08-15/14)C(71/04),
（４Ｆ）
C08J(3/-9/,99/)
繊維・積層（４噴霧・塗布
Ｓ）
B05B,B05C
塗装方法
B05D
積層体
B29D(9/),B32B
布帛・皮革
B68F,C14BC,D03D(1/-27/),
D04B(1/,21/)CDGH,D06N
繊維
D01DF,D02GJ,D06BCGHJLMQ,D07B
紙
D21BCDFGHJ
- 16 -
資料２
（参考）平成２７年度大分野別出願動向調査（化学分野）における主要出願人
出願人名
アース製薬株式会社
AvanStrate 株式会社
アイシン軽金属株式会社
旭化成株式会社
旭硝子株式会社
江崎グリコ株式会社
奥野製薬工業株式会社
株式会社オハラ
紀伊産業株式会社
協和化学工業株式会社
キョーリン製薬ホールディングス株式会社
クミアイ化学工業株式会社
株式会社クレハ
興人ライフサイエンス株式会社
株式会社神戸製鋼所
国立研究開発法人国立がん研究センター
寿産業株式会社
小松精練株式会社
三栄源エフ・エフ・アイ株式会社
株式会社 JSP
JFE スチール株式会社
四国化成工業株式会社
株式会社島精機製作所
株式会社神鋼環境ソリューション
新東工業株式会社
住友大阪セメント株式会社
住友重機械エンバイロメント株式会社
住友ベークライト株式会社
スリーエムジャパン株式会社
スリーボンドファインケミカル株式会社
精電舎電子工業株式会社
綜研化学株式会社
第一工業製薬株式会社
大日本塗料株式会社
- 17 -
太陽化学株式会社
太陽ホールディングス株式会社
田岡化学工業株式会社
竹本油脂株式会社
株式会社田中化学研究所
千代田化工建設株式会社
月島機械株式会社
テックワン株式会社
東ソー株式会社
東洋機械金属株式会社
DOWA ホールディングス株式会社
特種東海製紙株式会社
戸田工業株式会社
ナガセケムテックス株式会社
株式会社ナリス化粧品
日光ケミカルズ株式会社
株式会社日清製粉グループ本社
ニッタ株式会社
日本化学工業株式会社
日本製紙株式会社
日本ゼオン株式会社
日本電気硝子株式会社
日本農薬株式会社
日本パーカライジング株式会社
日本ペイントホールディングス株式会社
株式会社パウレック
日立化成株式会社
日立金属株式会社
三井化学株式会社
株式会社 Mizkan
三菱化学株式会社
三菱ガス化学株式会社
三菱樹脂株式会社
三菱マテリアル株式会社
株式会社ミルボン
村田発條株式会社
持田製薬株式会社
株式会社ＵＡＣＪ
- 18 -
株式会社ユーグレナ
ラクオリア創薬株式会社
リケンテクノス株式会社
理研ビタミン株式会社
株式会社リボミック
ロンシール工業株式会社
早稲田大学
アキュセラ・インク
サノフィ
- 19 -
資料３
（参考）検索式及びその検索式の妥当性判断に関する資料の具体例
１．放射線治療装置
（１）検索件数（ヒット率）
No.
1
テーマ名
放射線治療装置
日米欧中韓への出願（2005 年～2010 年）
2,366
ヒット率（サンプル数）
88% (182/208)
（２）検索式
検索式の説明
件数
① 放射線療法、放射線手術、小線源
治療、ラジオ波焼灼療法
② X 線、 γ線、リニアック
③ サイバーナイフ、ガンマナイフ
④陽子線
⑤ 重粒子線、炭素線、ネオン線、ア
ルゴン線
No
12,053
L1
158,259
78
504
358
L2
L3
L4
L5
⑥ 中性子線、 BNCT
947
L6
⑦ ○ ○ ○療法
112
L7
170,297
5,571
6,377
8,065
8,001
2,943
988
1,517
1,108
L8
L9
L10
L11
L12
L13
L14
L15
L16
592
163
1,063
2,366
L17
L18
L19
L20
IPC
IPC
除外： IPC/入浴療法、入浴装置
優先権主張年 2005-2010
出願先国：日本
出願先国：米国
出願先国：欧州
出願先国：中国
出願先国：韓国
出願先国： PCT
日米欧中韓
検索式
FILE WPINDEX
S RADIOTHERAP? OR RADIATION(W)THERAP? OR RADIOSURGER?
OR BRACHYTHERAP? OR RADIOFREQUENCY(W) ABLATION
S X(W)RAY OR GAMMA(W)RAY OR LINAC OR LINEAC
S CYBERKNIFE OR GAMMA(W)KNIFE
S PROTON(W)LINE OR PROTON(W)RAY OR PROTON(W)BEAM
S HEAVY(W)PARTICLE(W)BEAM OR HEAVY(W)ION(W)BEAM OR
HEAVY(W)CHARGED(W)PARTICLE(W)BEAM OR
CARBON(W)ION(W)BEAM OR NEON(W)ION(W)BEAM OR
ARGON(W)ION(W)BEAM OR CARBON(W)BEAM OR NEON(W)BEAM OR
ARGON(W)BEAM
S (NEUTRON(W)LINE OR NEUTRON(W)RAY OR NEUTRON(W)BEAM
OR BNCT OR BORON(W)NEUTRON(W)CAPTURE(W)THERAPY)
S RADIOISOTOPE(W)THERAP? OR
HEAVY(W)PARTICLE(1W)THERAP? OR
CARBON(W)ION(1W)THERAP? OR
CHARGED(W)PARTICLE(1W)THERAP? OR NEUTRON(W)THERAP?
S L1-L7
S L8 AND A61N/IPC
S A61N0005-10/IPC
S L9 OR L10
S L11 NOT A61H0033/IPC
S L12 AND 2005-2010/PRYF
S L13 AND (JPA? OR JPB? OR JPW? OR JPX?)/PK
S L13 AND US/PC
S L13 AND (EP OR AT OR BE OR CH OR CZ OR DE OR DK OR
ES OR FI OR FR OR GB OR HU OR IE OR IT OR LU OR NL OR
NO OR PT OR RO OR SE OR SK)/PC
S L13 AND (CNA? OR CNB? OR CNC?)/PK
S L13 AND (KRA? OR KRB?)/PK
S L13 AND WO/PC
S L14-L18
（３）出願上位者
順位
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
出願人 (国 )
SIEMENS AG(ドイツ )
三菱電機(日本 )
日立製作所 (日本 )
ACCURAY INC(米国 )
東芝 (日本 )
VARIAN MEDICAL SYSTEMS INC(米国 )
KONINK PHILIPS ELECTRONICS NV(オラン
ダ)
東芝メディカルシステムズ (日本 )
三菱重工業 (日本 )
ELEKTA PUBL AB(スウェーデン)
件
数
277
120
116
77
76
69
64
54
51
47
50
40
出 30
願
件
数 20
10
0
2005
2006
2007
2008
2009
2010
優先権主張
（４）妥当性の判断
1 位のシーメンス社はドイツの多国籍企業で、90 年近く放射線治療に携わり、コバルト
装置やリニアックの提供から始めて、今では・・・。以上より、検索式は妥当と考える。
※
調査においては、技術分野に応じた、検索式の作成や出願上位者の予備調査等を行う
こと。
- 20 -
資料４
（参考）文献リストの書式の具体例
- 21 -
資料５
（参考）過去の調査実績を踏まえた大分野別出願動向調査の見込み工数
作業項目
見込み工数
（１）注目技術及びこれに関連する特許情報調査（１ヶ月あたり）
80 時間程度
（２）主要出願人の出願関連行動調査（主要出願人１者あたり）
14 時間程度
（３）（２）の調査結果全体の取りまとめ
5 時間程度
（４）ニーズ即応型の技術動向調査（技術テーマ１件あたり）
190 時間程度
（５）iPS 細胞関連技術、ヒト ES 細胞関連技術の出願動向等
160 時間程度
（６）（１）～（５）を踏まえた総合分析
- 22 -
5 時間程度

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