光システム工学 11. 光マイクロマシンとＤＭＤ pp.134-138 をつくるための層）， 11.1 光マイクロマシン静電駆動のマイクロマシンは，高精度の動きがその上に光学素子可能であるが発生力が小さいという欠点があり（たとえばミラー）ます．このため，小さな力でも十分に駆動できるとなる Poly-1，そように，微小ミラーによる光制御（光ビーム偏向，の上に犠牲層スイッチ，チョッパなど）に利用されています． PSG-2 を作製しま具体例には，ディジタル・マイクロミラー・デす．次に，光学素子バイス（DMD），焦点レンズなどがあります．の押さえ板 Poly-2 また，光インタコネクション用には自由空間微小を作製し，最後に犠光集積素子，マトリックススイッチ，導波路スイ牲層を化学エッチッチ，ニッケルミラースイッチなどがあります．ングで取り除き，微小吸引器で光学素子を吸い付けて立 11.2 擬似立体加工図 11.1 は犠牲層エッチングによる擬似立体加工方法を示しています．まず，Si 基板上に犠牲層ち上がらせて出来上がりです．図 11.2 PSG-1（最終的にはエッチングで取り除いて空間 Poly-2（押え板）押え板光学素子 PSG-2 （犠牲層） Poly-1（光学素子） PSG-1（犠牲層）シリコン基板 11.3 ディジタル・マイクロミラー・デバイス DMD も平面マイクロマシニングを利用し（図 11.2）基板上に機械的に動く構造を作っています．シリコン基板図 11.1 犠牲層エッチングによる擬似立体加工 DMD は，スタティックランダムメモリ(SRAM) 上に配置した多数のマイクロミラー（一辺が数 10μm）システムです．マイクロミラーのそれぞ DMD 作製プロセスれがピクセル（たとえば 768×576 画素）に対応し，ミラーの角度を変えて反射光の明暗を制御します．アルミ製のマイクロミラーが 2 本の支柱につられ，対角線を中心に回転します．支持されてないコーナーのどちらかは，基板上の制止部に接触します．