プレスリリース 報道関係各位 2014 年 12 月 2 日 EV Group EV Group、フォトニック・アプリケーション向けの ナノインプリント・リソグラフィー・コンピテンスセンターを設立 専用ナノインプリント・リソグラフィー（NIL）ソリューションにより NILPhotonics™ アプリケーションの開発を促進、 市場投入を加速するため、検証実験と少量生産サービスを提供 MEMS、ナノテクノロジーおよび半導体分野向けウェーハ接合装置およびリソグラフィー装置のリーディングサプラ イヤーである EV Group（EVG）は、NILPhotonics™ コンピテンスセンターの設立を発表しました。同センターは、 一連の EVG ナノインプリント・リソグラフィー（NIL）ソリューションを活用できるように設計されており、お客様がフ ォトニクスの分野において、新しい高機能の製品とアプリケーションを実現できるようにサポートいたします。これ らは、NIL で形成されたフォトニック構造により光の取り出し効率を改善できる LED や、光の取り込み効率を改善 できる太陽電池、またはレーザーダイオード等を含み、フォトニック構造によりデバイス特性の調整を可能にして、 性能を向上させます。NILPhotonics コンピテンスセンターでは、オーストリアの EVG 本社だけでなく、北米および 日本の子会社の最先端クリーンルームにて、専属プロセスチームによるグローバルサポート、パイロットラインの 生産設備とサービスを利用できます。 EVG の知的財産・技術開発本部のディレクターを務めるマーカス・ウィンプリンガーは次のように述べています。 “ナノインプリント・リソグラフィーは、あらゆる種類のフォトニック構造の設計と製造を実現する技術で、従来の電子 線描画やフォトリソグラフィー用ステッパー露光装置などの従来技術に比べて、製品化期間の大幅な短縮と生産コ ストの削減を可能にします。例えば、従来のリソグラフィーに比べて、我々のウェーハ全面一括ナノインプリンティン グ技術は、サブミクロンから最小 20nm までのナノスケールの 3 次元構造のパターニングが可能となり、新しいフォ トニックアプリケーションに応用することができます。NILPhotonics コンピテンスセンターは、お客様に最新の NIL 装 置を提供するだけでなく、製品開発の期間中お客様と密接に協力して、NIL がもたらす高解像度と優れた所有コス トのメリットを享受し、製品設計とプロセスを最適化する最善の方法を決めていくためのお手伝いを致します。 NILPhotonics コンピテンスセンターは、世界中で NIL 装置の最大のインストール実績を誇る EVG の、15 年以上 の NIL の経験に基づき設立されています。EVG の NIL 装置のポートフォリオには、EVG の量産向け大面積ソフト NIL プロセスをサポートする次世代 SmartNIL™に対応した、EVG7200 UV-NIL 装置が最近ランナップされました。 EVG7200 と SmartNIL により、他の NIL 技術とは比較にならない優れたスループットと所有コストを実現できます。 詳しくは以下リンクをご確認ください。 http://www.evgroup.com/ja/about/news/2014_10_EVG7200/ -more- EV GROUP ESTABLISHES NILPHOTNOICS COMPETENCE CENTER…………………...…Page 2 of 2 <EV Group（EVG）について> EV Group（EVG）は半導体、MEMS、化合物半導体、パワーデバイスおよびナノテクノロジーデバイスの製造 装置およびプロセスソリューションのリーディングサプライヤーです。主要製品は、ウェーハ接合、薄ウェーハ プロセス、リソグラフィー/ナノインプリントリソグラフィー（NIL）や計測機器だけでなく、フォトレジストコーター、 クリーナー、検査システムなどがあります。1980 年設立の EVG はお客様および世界中のパートナー様に、弊 社のグローバルネットワークを通じて各種サービス、サポートを提供します。 EVG に関する詳しい情報は、以 下のホームページをご覧下さい。 www.EVGroup.com ###
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