高純度・高密度 MgO スパッタ用ターゲット材 High Purity & High Density MgO Sputtering Target 宇部マテリアルズ宇部マテリアルズ株式会社マテリアルズ株式会社と株式会社と日本タングステン日本タングステン株式会社タングステン株式会社は株式会社は、双方の双方の得意分野を得意分野を活かした協業体制かした協業体制で協業体制で、スピントロニクス応用分野ロニクス応用分野で応用分野で不可欠とされる不可欠とされる高純度とされる高純度・高純度・高密度酸化マグネシウム高密度酸化マグネシウム（ＭｇＯ）マグネシウム（ＭｇＯ）スパッタ（ＭｇＯ）スパッタ用スパッタ用ターゲット材ターゲット材(純度４Ｎ５以上，以上，実質５実質５Ｎ、密度Ｎ、密度９９％９９％以上，以上，実質９９実質９９．９９．４％)の開発に開発に成功しました成功しました。しました。半導体用途の半導体用途のＳｉウエハサイズＳｉウエハサイズは３００ｍｍからターゲットサイズのウエハサイズは、３００ｍｍｍｍから４５０から４５０ｍｍ４５０ｍｍへとｍｍへと大型化へと大型化することが大型化することが予想することが予想され予想され、され、ターゲットサイズの大口径化を大口径化を先取りし先取りし、りし、世界最大級の世界最大級の１８インチサイズ１８インチサイズまでインチサイズまで大口径化まで大口径化することが大口径化することが可能することが可能となりました可能となりました。となりました。今後は今後は、HDD 用途(head 用途(head、 (head、media 関連) 関連)に加え、本格市場の本格市場の形成が形成が期待される期待される MRAM 用途への用途へのユーザーワークへのユーザーワークをユーザーワークを積極的に積極的に進めてまいります。めてまいります。また、また、その他その他の半導体プロセス半導体プロセス用途プロセス用途における用途における応用展開における応用展開を応用展開を目指して目指して、して、種々の形状・形状・サイズにサイズに対応いたします対応いたします。いたします。１８イ１８インチ７インチＭｇＯターゲット材：開発品（１８インチ）ＭｇＯターゲット材：量産サイズ（７インチ，Cu-BP 付）ファインマテリアル事業部営業開発部問い合わせ研究開発本部市場開発部 TEL：0836-31-2174, FAX：0836-21-8034 〒103-0022 山口県宇部市大字小串1985番地 TEL : 0836-31-0161 FAX : 0836-21-5148 〒755-8510 山口県宇部市大字小串 1992 番地 High Purity & High Density MgO Sputtering Target Ube Material Industries, Ltd. and Nippon Tungsten Co., Ltd. have been in collaborative frameworks for development of MgO targets. We have succeeded in the development of high purity (over 99.995% or and up to 99.999%) and high-density (over 99% and up to 99.4%) MgO targets and entered into the MgO target business for HDD and MRAM application. It has been noted that in the future, the size of Si wafers for semiconductor use will increase from 300mm to 450mm. We also think that the required sputtering target size will increase, coupled more with the Si wafer size. We carried out development of the world’s largest class MgO target (18inch / 460mm) against these backgrounds in 2010. We will aim at cooperative evaluation with the MRAM users in developing for the full market from now on. Additionally, we will make active efforts toward applied deployment of new semiconductor processes. We will proceed forward with preparing the samples to work in a variety of shapes and sizes. １８inch ７inch MgO sputtering target : development product (18inch) MgO sputtering target : mass product size (7inch, with Cu-BP) New Product Marketing & Development Contact Information Fine Materials Division Corporate Research & Development 1985, Oaza Kogushi, Ube City, Yamaguchi Pref. 1992, Kogushi Ube City, Yamguchi Pref 755-8510, Japan 755-8510, Japan Phone.+81-836-31-0161 Facsimile.+81-836-21-5148 TEL：+81-836-31-2174, FAX：+81-836-21-8034