特集 学生の研究活動報告−国内学会大会・国際会議参加記 13 第 7 回次世代の太陽電池システムシンポジウムに参加して 高 峰 Hou KOU 物質化学専攻修士課程 2年 コニア製ポットに充填した.ポット内を N2 ガスで 1.はじめに 置換し,遊星ボールミルを用いて粉砕・混合を行 私は,2010 年 7 月 8 日・7 月 9 日の 2 日間,北九 い,CZTSe 粉末を合成した.しかし,メカノケミ 州市の北九州国際会議場で開催された第 7 回次世代 カルプロセス(MCP)だけでは CZTSe は合成でき の太陽電池システムシンポジウムに参加した.そし なかった.それで,MCP で得られた粉末を N2 雰囲 て,「Cu 空孔を含む Cu2(1−X)ZnSnSe4 系太陽電池材料 気中 550℃ で 5 h 焼成して CZTSe を得た.CZTSe の合成と評価」という題目でポスター発表を行っ の結晶構造は X 線回折(XRD)データを用いたリ た. ートベルト法で解析した.さらに,スクリーン印刷 /焼結法で薄膜の作製を行った.得られた CZTSe 2.研究概要 2. 1 膜は走査電子顕微鏡(SEM)で観察し,可視・近 序論 赤外吸収スペクトルを測定して,禁制帯幅を決定し 化合物薄膜太陽電池の光吸収層として CuInSe2 や た. Cu(In, Ga)Se2 固溶体が用いられている.しかし, 希少金属である In の需要の増加に伴い,In を含む 2. 3 結果 !! 材料の高コスト化が問題となっている.そこで Cu- 図 1 に Cu2−2XZnSnSe4(0 X 0.0875)粉末の XRD InSe2 中の 2 個の In(Ⅲ)を Zn (Ⅱ)と Sn(Ⅳ)で置 図形を示す.Cu の不足量(X)の増加,つまり Cu/ き換えた Cu2ZnSnSe4 や Cu2ZnSnS4 が注目を集めて (Zn+Sn)比の減少とともに回折ピークは高角側に いる.本研究では,まず Cu2ZnSnSe4 の合成プロセ シフトする.これは,Cu/(Zn+Sn)比の減少とと スを明らかにした.次に,CuInSe2 の場合と同様に もに Cu2−2XZnSnSe4 の格子定数が小さくなるためで Cu の不足組成側に固溶領域が存在していると考え られるので,Cu2−2XZnSnSe4 の単一相が得られる領域 を決定し,次に X 線回折データを用いたリートベ ルト法で Cu2−2XZnSnSe4 の結晶構造の解析を行った. 最後に,スクリーン印刷/焼結法を用いて膜の作 製し,可視・近赤外吸収スペクトルから禁制帯幅を 決定した. 2. 2 実験方法 Cu2−2XZnSnSe4(CZTSe)は元素粉末 Cu, Zn, Sn, Se を所定量秤量し,ジルコニア製の球石とともにジル ― S-71 ― 図1 Cu2−2XZnSnSe4 の XRD 図形 !! 法で求めた Cu2−2XZnSnSe4(0 X 0.0875)の結晶構 造は Cu/(Zn+Sn)比の減少とともに,格子定数 a, c は小さくなり,c/a も小さくなる.さらに,スク リーン印刷/焼結法で CZTSe 膜の作製を行った. 直接遷移半導体を仮定して,hν に対し( α hν )2 を プロットすることで CZTSe の禁制帯幅を求めたと ころ,1.05 eV が得られた.この値は文献値 1.02 eV とほぼ一致している. 3.発表について 図2 Cu2ZnSnSe4 膜の透過率 今回,学会に参加することが初めてだったの全て が新鮮でした.初めての学会でポスター発表の質問 !! ある.この図から,0 X 0.0875 の範囲でほぼ単 に正確に答えることができるのか不安ではあったの 一相の Cu2−2XZnSnSe4 が得られる事がわかる. CIS ですが,いざ始まるとたくさんの方々が質問にこら の場合に Cu の不足量(X)の増加とともに回折ピ れたので,不安であったことも忘れて一生懸命質問 ークが高角度側にシフトし,格子定数が小さくな に答えた.ポスター発表でたくさんの方々が質問に る.リートベルト法で求めた Cu2−2XZnSnSe4 (0 X 来られて,こんなにも私が今行っている研究は注目 ! !0.0875)の結晶構造は Cu/(Zn+Sn)比の減少とと されているということを知り,より今の研究に対す もに,格子定数 a, c は小さくなり,c/a も小さくな る意欲が湧いてきました.しかし,私はまだまだ勉 る.u パラメーターは Cu/(Zn+Sn)比の減少とと 強に研究に励んでいかなければならないと実感させ もに,Ux(Se),Uy(Se)が小さくなり,Uz(Se)は られた.この学会で経験したことを生かして,今後 大きくなる. の研究に努力していきたいと思う. 図 2 に CZTSe 膜の可視・近赤外吸収スペクトル を示す.この図から,CZTSe 膜は 1100 nm 近傍に 4.おわりに 吸収端を持つことがわかる.挿入図のように直接遷 私の所属する和田研究室では,学会へ参加する機 移半導体を仮定して,hν に対し( α hν )をプロッ 会を多くいただけます.今回のような学会への参加 トすることで CZTSe の禁制帯幅を求めたところ, は,私にとって非常に良い経験になった.このよう 1.05 eV が得られた.この値は文献値 1.02 eV とほ に学生時代に次々と新しいことを経験させていただ ぼ一致している. けることは,今後の自分にとって大きなプラスとな 2 ると思う.最後になりましたが,このような貴重な 2. 4 結論 ZnSnSe (0!X !0.0875)固溶体 MCP 法で Cu2−2X 4 機会を与えてくださった和田隆博教授や研究室の皆 様方に深く感謝したいと思う. を合成することに成功した.そして,リートベルト ― S-72 ―
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