X線CCD検出器 ーCCD‐CREST(deep2)ー の性能評価と性能向上 (京阪修論発表会) 京都大学宇宙線 辻本匡弘 内容 • • • • • 実験のセットアップ チップの性能評価 チップの性能向上①~④ CCD-CRESTによる偏光X線の測定 課題(まとめ) セットアップ① CCD-CREST(deep2) 戦略基礎研究 「画素の小さいX線検出用CCDの開発研究」 開発目標 1) スペクトロメータとして性能の高いCCD → CCDの性能評価と性能向上 2) ポラリメータとして実用的なCCD → 偏光測定システム、偏光X線イベント解析法確立 特徴 転送方式 : Full Frame Transfer 駆動方式 : 縦横2相クロック フォーマット : 1024×1024pixels CCD-CREST 有効受光領域 : 25mm×25mm セットアップ② 実験システム クロックジェネレータ ADC 真空チェンバ 性能評価 暗電流 CCDチップの性能 • CTI • 暗電流 CTI 縦転送 2.5×10-6 [/転送] 横転送 1.1×10-6[/転送] 読み出しノイズより 十分小さい 動作温度‐80℃ 以下でOK 性能向上① 最適駆動電圧の決定 縦転送、横転送、リセット の電圧(高・低レベル)を独立に変えて 最適値を求めた *但し、H/Lの差は10[V]に固定 撮像領域 縦転送 リセット •エネルギー分解能で12% •空乏層厚で45% の性能向上 シリアルレジスタ 読み出し口 横転送 リセット電圧>横転送電圧>縦転送電圧の時、最高性能 性能向上② 蓄積、転送電圧の分離 検出効率を上げるため 高くしたい H H H H ノイズを抑えるため 低くしたい L H L 電極 絶縁層 空乏層 電子の ポテンシャル 電子 電子 蓄積中 転送中 H 性能向上② 蓄積、転送電圧の分離 転送中の 蓄積中の 電極電圧 電極電圧 10[V] 0、6、12[V] クロック アナログ スイッチ CCDの電極へ スイッチング回路の模式図 55Feのスペクトル 性能向上② 蓄積、転送電圧の分離 蓄積時電圧 [V] 0 6 12 カウントレート [cnts/s] 13.3 (7.53) 14.8 (8.26) 16.3 (9.10) 空乏層厚 [μm] 23.9 (11.1) 22.8 (10.6) 27.1 (12.0) エネルギー 分解能[eV] 523 (422) 531 (433) 526 (422) 空乏層厚を13%増加 * grade02346 の値(括弧内はgrade0の値)。 * 分解能が悪いのは回路の問題。今回は関係ないので無視 性能向上③ X線源の斜め入射 斜めからX線を入射することで 実効的に空乏層を厚くすることができる 電極(金属) 絶縁層(SiO2) 空乏層(Si) 性能向上③ X線源の斜め入射 入射角 Θ[deg] 0 15 30 45 60 実効空乏層 カウントレート 厚[μm] [cnts/s/cm2] 29.7 17.2 (22.5) (12.4) 30.1 18.0 (21.8) (11.6) 34.7 21.4 (26.2) (14.5) 42.3 29.3 (29.9) (17.4) 58.9 62.3 (41.8) (28.9) エネルギー 分解能[eV] 186 (172) 188 (175) 183 (171) 184 (169) 182 (170) 入射角60°の時に実効的な空乏層厚が62.3μm 入射角が大きいと、電子雲の広がりは小さくエネルギー分解能向上 性能向上④ 多重相関サンプリング サンプリング回数を増やすことで、高周波ノイズを 落とすことができる(相関数=4,8,16で実験) フロートレベル → リセット信号 例;4重相関 サンプリング シグナルレベル 性能向上④ 多重相関サンプリング 相関数 4 8 16 カウントレート [cnts/s] 13.5 (9.60) 13.4 (9.66) 13.4 (9.52) 空乏層厚 [μm] 24.5 (15.2) 24.4 (15.3) 24.4 (15.0) 読み出し ノイズ[e] 16.3 15.3 14.2 読み出しノイズを15%低減 エネルギー分解能@5.9keVを10%向上 CCDによるX線偏光測定 (1)セットアップ X線発生装置 CCD-CREST(deep2) X線 吸収体 • X線発生装置からのX線を直接CCDに入射 • X線管内の加速方向に直線偏光 • 発生装置を回転させる 偏光面 CCDの水平面 CCDによるX線偏光測定 (2)X線発生装置からの偏光 散乱体(ポリエチレン) SSD検出器 X線発生装置 回転台 回転台を回転させて 散乱X線の強度を測定 管電圧に相当するエネルギーの偏光度が約40% CCDによるX線偏光測定 (3)結果 縦/横 1.7 1.6 35-40 40-45 45-50 1.5 1.4 1.3 0 30 60 90 120 150 180 角度 45-50keVの X線で傾向が 見えた CCDの構造解析法 ①β線照射による空乏層厚測定 表面図 入射角5°の時の β線イベントの例 断面図 絶縁層 空乏領域 中性領域 β線 空乏層厚16μm → 量子効率より求めた もの(20μm)にほぼ一致 課題(まとめ) (1) 高性能スペクトロメータの開発 •空乏層を厚くして検出効率を高めた (現在 検出効率約60%@5.9keV) 空乏層の厚いチップ作成、測定 (現在CCD‐CREST(deep3)が使用可能) •電圧、読み出し法の最適化でエネルギー分解能を上げた (現在 約150eV@5.9keV) 測定システムからのノイズを落とす (2) 実用的ポラリメータの開発 •偏光X線測定システムを立ち上げた •偏光X線イベント解析方法を確立した ピクセルサイズの小さいCCDの製作、測定 (現在8μm×8μmのチップの作成)
© Copyright 2024 ExpyDoc