日時 場所 2015年4月25日～4月27日 東北大学未来情報産業研究館５F大会議室 プログラム 日時 4月25日 13:00～15:00 4月25日 15:15～17:15 ＊内容・講師は都合により変更する場合があります。ご了承ください。 時間 講師 120 東北大学名誉教授 大見忠弘 120 東北大学名誉教授 大見忠弘 タイトル 半導体産業の現状と将来 －学問に基づいた本物の産業技術の時代の始まり－ 固体表面電子科学・表面洗浄技術 電子の授受をベースにしたSiウェーハ表面での反応メカニズム、ウェーハ洗 浄の基本から最新の大気遮断型洗浄装置まで 4月26日 9:30～12:00 4月26日 13:00～15:00 4月26日 15:15～17:15 4月27日 9:30～12:30 150 東北大学教授 寺本章伸 120 東北大学教授 寺本章伸 120 東北大学教授 寺本章伸 180 東北大学准教授 平山昌樹 半導体デバイスの基礎 -半導体デバイスの基礎、トランジスタの動作など－ 半導体製造プロセス① －熱酸化、熱拡散、イオン注入、リソグラフィー ― 半導体製造プロセス② －ウェットプロセス、薄膜形成、エッチングプロセス等－ プラズマの物理･プラズマ装置 半導体製造に欠かすことの出来ないプラズマプロセスについてプラズマの 基礎から計測技術、各種プラズマ装置の原理等について 4月27日 13:15～15:15 4月27日 15:30～17:30 120 東北大学准教授 後藤哲也 スパッタリング技術・製造装置の関連要素技術 －スパッタリング技術の基本とその応用例－ －プラズマ装置の基板電極、チャンバ内ガス分子挙動等ー 120 東北大学特任教授 半導体製造用金属表面処理・ガス供給・排気・回収技術 白井泰雪 半導体製造に用いられるステンレスやAl合金等の不動態膜形成技術、高清 浄減圧プロセスのための排気システム、ガス回収･精製･供給システム
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