IV 族半導体薄膜の結晶化と欠陥制御 - 第77回応用物理学会秋季学術

第 77 回応用物理学会秋季学術講演会シンポジウム
「IV 族半導体薄膜の結晶化と欠陥制御」
9 月 14 日(水) 13:00 開始（予定）
企画の趣旨
液晶ディスプレイや有機 EL ディスプレイの駆動デバイスとして用いられている半導体
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）において、Si 等の IV 族材料は重要な位置を占めています。Si
系 TFT の研究開発では、非晶質 Si（a-Si:H)と多結晶 Si の対決が繰り広げられてきました。
この歴史を、欠陥制御という観点で振り返るとともに、Si に加えて Ge 系材料など、IV 族
半導体薄膜の新潮流を包括的に討論します。
結晶欠陥は、薄膜の電気的特性を大きく左右するとともに、結晶成長プロセスにおいて
重要な役割を担っています。この分野の第一線で活躍されている研究者の講演をもとに議
論を深め、今後の技術発展への指針を得たいと考えています。
一般講演も募集致します。多数の皆様のご来場をお待ちしております。
招待講演者（敬称略）と講演内容
大島弘之（JDI）
「ディスプレイ産業における LTPS-TFT 技術の展望」
米永一郎(東北大)「IV 族半導体中の構造欠陥とその制御」
植松真司(慶応大)「IV 族半導体における点欠陥と拡散」
芹川正(元 NTT)「スパッタ法による酸化膜とレーザ結晶化 Si 膜」
東清一郎(広島大)「大気圧プラズマによる IV 族半導体薄膜の結晶成長と欠陥制御」
松尾直人(兵庫県立大)「a-Si, a-Ge 薄膜の低温固相結晶化と欠陥形成」
宇佐美徳隆(名古屋大)「アルミニウム層交換成長法による
シリコン薄膜成長のカイネティクスと応用」
鳥海明(東京大)「Ge 基板中の欠陥が FET 特性に及ぼす影響」
志村洋介(静岡大)「Sn 導入による IV 族半導体の新展開」
世話人：野口隆(琉球大)、佐道泰造(九州大)

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