会社案内株式会社ケイテックリサーチ

Version 7.50
会社案内
株式会社ケイテックリサーチ
２０１５年５月
“CircuDyn TM（サーキュダイン）”ブランドにて
お客様に「ドライプロセス・ソリューション」を提供いたします
“ドライ表面処理プロセス”のスペシャリストの技術集団です
小型化、高性能化の技術トレンドの中、先端の情報通信技術（IT 技術）技術でのニッチ市場の開
拓を目指します。ケイテックリサーチのキーワードは、「ドライ表面処理プロセス技術」です。適用可能
な技術分野は、半導体製造技術(特に後工程領域)、プリント基板製造技術、表面実装技術、ナ
ノテクノロジーです（「SPS 領域」と名づけています、下図をご参照ください）。
１９９９年１０月の設立以来、半導体製造プロセスからプリント基板製造プロセスに関連する技術開
発を進めており、お客様の（１）プロセス技術開発の支援、（２）新規量産技術導入の支援、を行って
きています。２０１０年からは、作り上げてきたドライ表面処理プロセス技術を、他の分野（医療関連、
鉄鋼製造関連、印刷業関連、など）への提供をはじめています。
Concept of SPS
Semiconductor, PrintedCircuitBoard and SurfaceMountTechnology
SMT-Field
SEMI-Field
PCB-Field
【Flip Ｃhip　実装】
【微細PKG基板】
ドライ表面処理を用いた
高信頼性接合
半導体プロセス（薄膜プロセス）を
用いた配線形成
TAB
多層基板
COF
PKG基板
半導体
低い
コスト
高い
【再配線層の形成】
プリント基板プロセス（厚膜プロセス）を
用いた配線形成
2～3um
1
Technology
30um
Vacuum
10
配線ピッチ[ミクロン]
CircuDyn
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100
【ケイテックリサーチの主な事業】
（１）新規ドライプロセス技術開発（導入）サポート事業
プロセス提案：MT-00 プロセス～MT-10 プロセスを
主とした加工技術（プロセスモジュール開発）
（２）試作支援事業
ドライプロセスのサンプルデモ処理サービスから
小規模量産（試作）向け有償加工サービス
（３）ドライプロセス装置事業 CircuDyn
大気圧プラズマリアクタ AURORA-AP
真空プラズマリアクタ
AURORA-LP
これらプラズマリアクタを搭載した装置の設計・製造・販売
（量産でのプロセス QC 技術を含む）
（４）ドライプロセス技術導入の支援サービス
フィールドサービス（メンテナンス）
技術コンサルティング（量産技術課題の解決など）
CircuDyn
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Roadmap for Technology Development
Etching
2005
New
Technology
PVD CVD
2007
2009
2011
2013
2015
MT-00(濡れ性改善)
MT-01（デスカム)
MT-02(デスミア)
MT-03(物理的)
MT-04(化学的)
MT-05( スパッタリング)
MT-06(金属蒸着)
Under Development
MT-07(CVD?)
MT-08(Coating?)
MT-09(ALD?)
MT-10(Post-Process?)
CircuDyn
【会社概要】
■ 設立；
1999 年 10 月
■ 所在地；
【本社】〒２５２－０１３１
神奈川県相模原市緑区西橋本５－４－３０
さがみはら産業創造センター２号館１０１号
電話; 042-770-9423
URL；http://www.ktrc.co.jp
■ 代表者；
代表取締役社長加藤聖隆
■ 資本金；
２０,５００,０００円
■ 従業員数；３名
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FAX; 042-770-9424
【会社沿革】
1999 年 10 月
有限会社ケイテックリサーチ設立（資本金 300 万円）
2000 年 4 月
株式会社ケイテックリサーチに組織変更（資本金 1,000 万円）
2002 年 12 月
大気圧オゾンアッシング処理装置（型式 CDO-101）を開発・販売開始
2003 年 4 月
低圧プラズマ表面処理プロセス処理装置（型式 CDP-101）を開発
2005 年 9 月
増資（資本金 2,050 万円）
2006 年 10 月
低圧プラズマ表面処理装置（インライン型）M110 および M210W を販売開始
2010 年 4 月
大気圧プラズマ処理技術の開発に着手
2011 年 7 月
大気圧プラズマ処理装置 CIRCUDYN 型式 KT-110 を販売開始
2012 年 4 月
CIRCUDYN 真空プラズマリアクタ AURORA-LP を販売開始
2013 年 1 月
CIRCUDYN 大気圧プラズマリアクタ AURORA-AP を販売開始
現在に至る
CircuDyn
大気圧プラズマ処理装置型式 KT110
代表取締役加藤聖隆の略歴
1993 年 3 月
早稲田大学大学院(理工学研究科電子工学専攻)博士課程を修了。
工学博士号を授与。早稲田大学理工学部助手(1991 年 4 月～1993 年 3 月)
1993 年 8 月
株式会社日立製作所半導体事業部入社。先端プロセス技術開発から量産
拠点サポートまでの業務に従事。(4M DRAM 世代から 64M DRAM 世代)
1998 年 3 月
株式会社 KLA-Tencor 入社（シリコンバレー）。
顧客の歩留まり向上をサポートする“Yield Management Consulting”に従事。
1999 年 10 月
有限会社ケイテックリサーチを設立。
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