1 NITE-SiC/SiC複合材料およびW

2015年7月30~31日
平成27年度第1回ダイバータ物理・工学合同研究会
つくばサイエンス・インフォメーションセンター
NITE-SiC/SiC複合材料および
W-SiC/SiC接合材料の開発
室蘭工業大学 環境・エネルギーシステム材料研究機構
朝倉 勇貴、岸本 弘立、中里 直史、朴 峻秀、香山 晃
研究背景 核融合発電:将来の石油代替エネルギーとして期待されている
プラズマの高熱負荷や中性子から
ブランケット、真空容器などを保護する
プラズマ対向機器の作製が求められる
ITER(国際熱核融合実験炉)
ダイバータ
プラズマ中のHe灰や不純物を炉外に
排出してプラズマの純度を保つ機器で、
最も過酷な環境に晒される
⇒ITERではフルタングステンの採用が決定しているが、
DEMO炉以降に向けた材料研究が必要
室工大OASISでは将来の核融合炉構造
材料としてNITE-SiC/SiCの工業化および
W-セラミックスの接合技術等を研究
ダイバータ部拡大図
DEMO-NITE法の概要
・DEMO-NITE法は乾式の中間素材(グリーンシート、プリプレグシート、
プリコンポジットリボン)の使用が特徴
・湿式であるOriginal-NITE法と比較して、柔軟な材料設計が可能であり、
中間素材のハンドリング性や製品の均質性向上、プリフォーム作製時間が短縮
・連続製造ラインを構築するための設備導入が進行中
NITE-SiC/SiC複合材料の製造設備群
CVIおよびCVD装置(H25年度導入)
C被覆層(500nm)
SiC繊維
(φ7~10µm)
開放型CVI連続炉
セラミックス繊維(炭素繊維、炭化
ケイ素繊維等)表面に炭素膜を
CVI法により連続で形成可能
その他、セラミックス繊維の
製造にも使用可
C繊維
(φ5~7µm)
バッチタイプCVD炉
材料表面にセラミックス薄膜
をCVD法により形成可能
SiC被覆層
(1~2µm)
PyC界面の厚さ制御やDEMO-NITE法で作製した試料表面にCVD層が形成可能
Wとセラミック材料のハイブリッド化
タングステン
高Z材料
(放射損失大、スパッタリング損耗少)
水素の蓄積量が少ない
高融点
SiC/SiC複合材料
低Z材料
(放射損失小、スパッタリング損耗多)
低比重(3.2g/cm3)
熱衝撃特性、熱疲労特性が良好
比較的高い破壊靱性
タングステンをプラズマ
対向材料、SiC/SiCを
ヒートシンク材料として
両材料を接合した
ハイブリッド材の作製
セラミック同士および
セラミック-金属のバルク接合方法
㈳日本溶接協会HPより抜粋
有機接着剤
中間材法
接着
ろう付
圧着
固相接合
直接的接合法
接
合
法
融接
機械的接合法
無機接着剤
無機ろう付
金属ろう付
メタライズろう付
直接ろう付
拡散接合
その場焼結接合法
電圧印加接合法
爆発接合法
その他
電子ビーム溶接
レーザー溶接
焼ばめ
ボルト・クランプ締め
その他・・・ネジ
OASISでは種々のセラミック-金属接合方法の検討を実施
⇒Wとの接合では熱伝導等の観点から固相接合を選択
接合材の作製方法
焼結接合
拡散接合
W
(鏡面仕上げ)
SiC
グリーンシート
Graphite or CFC
or SiC/SiC
Graphite or CFC
Hot Press
ホットプレス条件:
温度 1600-1900℃, 圧力 20MPa, 雰囲気 Ar, 保持時間 1h
作製後、断面の組織観察を実施
接合材の作製結果
拡散接合
W-SiC/SiC W-C W-CFC
1h
〇
×
×
W-SiC-CFCの焼結接合後
焼結接合
W-SiC-C W-SiC-CFC W-SiCx2-CFC
1h
○
○
○
W-SiC/SiCは拡散接合で作製可能
W-SiC-CおよびW-SiC-CFCは焼結接合で接合可能
W-SiC/SiCの微細組織
約6µm幅の拡散層が確認できる
拡散層には濃淡の異なる相が存在
⇒EPMAによる組成分析
W-SiC/SiC EPMA像
・明コントラスト⇒W-C相
・暗コントラスト⇒W-Si相
また、界面近傍に焼結助剤で
ある酸化物相の偏析を確認
W-SiC-C EPMA像
C
BEI
20㎛
O
W
Y
20㎛
20㎛
20㎛
Si
20㎛
20㎛
W側の界面から10-20µm程度の領域にW-Si複合酸化物が存在
グラファイト中にSi(もしくはSiC)相が点在する
W-Si相がW-Cの拡散を抑制し接合を維持?
プラズマ曝露試験
大型ヘリカル装置(LHD)
Moホルダーに固定し実施
供試材への冷却材は無し
10.5L Port
接合材外観観察
→マイクロスコープ
内部構造評価
→超音波探傷試験
プラズマ曝露試験後 外観
W: 1mmt
b/SiC: 1mmt
・W表面:ストライクポイントで溶融 ・SiC/SiC表面:明確な損傷無し
・接合面:ストライクポイント上で空隙が形成するも剥離は生じず
超音波探傷試験結果
・接合界面ではW表面で溶融している範囲よりも
広い範囲で溶融が発生
・損傷範囲内の黄色部は溶融物が凝固
していると考えられる
プラズマ曝露試験②
W-SiC/SiC
W-SiC-C
W-SiC-C
W-SiC/SiC
W-SiC-C
Moホルダー
純Al
溶融モニターとして開孔した
SiC/SiCに純Alと純Cuを設置
W-SiC/SiC
純Cu
プラズマ曝露試験後
W: 1.5mmt
SiC/SiC: 0.5mmt
C: 0.5mmt
W-SiC-C
W-SiC/SiC
Al溶出?
W-SiC/SiC
Moの融解
W-SiC-C
プラズマ入射部分のMoホルダーが溶融し、W表面で固着
裏面に設置したCu, Alの一部溶融を確認
プラズマ曝露試験後 Cu,Alの溶融状態
W-SiC/SiCに比べW-Cの溶融域は広い
⇒Cの熱伝導率の高さに起因すると考えられる
少なくとも裏面で400℃以上の温度差が発生
詳細な熱影響の解析を実施中
その他評価試験
W-SiCの真空中耐熱性試験
ナノインデンターによる界面評価
W-SiC-Cの真空中耐熱性試験
3点曲げ試験による強度特性評価
微細組織やプラズマ曝露試験だけでなく、
高温真空中における界面の性能評価も進行中
まとめ
・OASISではSiC/SiCの実用化に向けた
製造技術開発を推進しており、 連続製造設備の
構築を進めている
・固相接合により、W-SiC/SiC、W-SiC-C、
W-SiC-CFC接合材料の作製に成功した
・LHDにおいて無冷却の状態でプラズマ曝露試験を
実施した結果、一部界面やWの溶融が確認されたが
剥離やSiC/SiC、C側の損傷は確認されなかった
・OASISの装置群を用いて界面の強度や組織の
状態を評価中である
謝辞
本研究の実施にあたり、御協力頂きました
OASIS職員一同に感謝の意を表します。
また、LHDでのプラズマ曝露試験の実施に当たり
共同研究協力者として御協力頂きました
自然科学研究機構 核融合科学研究所
増﨑 貴 教授および時谷 政行 助教に感謝の意を表します。