スティック・スリップ現象を活かした新規ナノ周期加工法の開発

スティック・スリップ現象を活かした新規ナノ周期加工法の開発
(岐阜大・工)
○学
堤貴文,正
1.緒論 近年,光学分野を中心に微細(ナノ-マイクロ)
周期構造の必要性が高まっている.この微細周期構造の
形成には,精密レーザー加工等が一般的であるが,工程が
簡易でなく高コストなことが難点である.機械加工によ
る微細周期構造形成の例もあるが,サイズ面で難しい.ま
た,機械加工ではスティック・スリップ *1(SS)と呼ばれ
る摩擦振動が起こり,プロセス制御の邪魔をすることが
多々ある.そのため通常,摩擦とは抑制されるべき現象で
ある.これに対し,我々は SS の振動周期がナノ-マイク
ロ周期にもなりえる点に注目した.本研究では SS を活用
した微細周期構造形成法の開発に挑戦し,最終的には,可
視光波長程度の周期(約 380~750 nm)を持つナノ周期構
造の形成を目指す.
2.実験方法 ポリエチレンテレフタレート(PET)フィル
ム(フタムラ化学製:FE-2000)に剃刀(フェザー製,FAS10)を押し当てながら,フィルムを移動させ,接触部で SS
を発生させることによりフィルム表面への波状周期構造
の形成を試みた.Fig.1 に本加工法の模式図を示す.本加
工では,加工荷重 T(フィルムへの負荷荷重),加工角度
θ(フィルム曲げ角度),加工速度 V(フィルム巻き取り速
度),刃の自由端長さ L を変更することができる.加工後の
フィルム表面を,走査型電子顕微鏡(SEM)および走査型
プローブ顕微鏡(SPM)を用いて観察し,周期構造が確認
できた場合には,その周期(間隔)と深さから,周期構造
を評価した.
3.実験結果 Fig.2 中の SPM 像は,加工後の PET フィルム
表面であり,図の左右方向が加工方向である.これより,
SS によるナノ周期構造の形成に成功していることが分か
る(図の上下方向の白色縞線部が波状周期構造の山部).
そこで次に,加工条件が周期構造に及ぼす影響を調べた.
Fig.2 は SS 構造周期に対する加工角度 θ の影響について
調べたものでる.これより,θ を鋭角にするに従い,周期
が大きくなることが分かる.また,本予稿には未記載だが,
θ を鋭角にするに従い,周期構造の谷部の深さが深くなる
ことも分かっている.同様に加工荷重 T の関しても,T が
大きくなるに従い,SS 構造周期が大きくなり,周期構造
の谷部の深さが深くなった.なお,本実験で形成された構
造の周期は,数百 nm から数百 µ m の広範に渡った.
4. 考察 中野ら 1) によると,SS 現象は以下の式により表
される.
λ=
(µ s − µ k )W
内藤圭史,正
屋代如月
て λ の上昇に従い,(2)式より ASS が大きくなることが分
かる.Fig.2 の結果は,上述のことから予測される通り,
θ が小さくなるに従い構造周期が大きくなる傾向を示し
た.また,T(W は T の関数)に関しても同様であり,T
の増加に従い ASS が大きくなる傾向が得たれた.このこと
より,フィルムの接触力 W は ASS と強い相関関係がある
と分かる.但し,実際の系は弾性体であり, SS 加工時に
は表面を削る摩耗現象が起こっている.式(1)および(2)に
は,これらの寄与が含まれていないため,現状では入力
(加工条件)から出力(SS 構造周期)を直接的に求めら
れていない.今後 SS 構造周期を予測するためには,W の
関数である刺込量や摩耗量の寄与を考慮し,式(2)を修正
する必要がある.
5. 結言 本研究の成果を以下に記す.
(1)SS 現象を活用することにより,簡易にナノ周期構造
を形成する加工法の開発に成功した.
(2)接触力の調整により,形成されるナノ周期構造の形
態制御が可能であることが明らかとなった.
謝辞 本研究は越山科学技術研究助成金を受けて実施し
た.また,PET フィルムはフタムラ化学㈱より提供頂いた.
ここに感謝の意を表する.
参考文献
(1)中野健・田所千治・前川覚,日本ゴム協会誌,85‐
10(2012),313.
Fig.1 Schematic diagram of SS processing.
・・・(1)
V mk
ASS = V ⋅
m(1 + λ2 )
k
・・・(2)
上式は剛性体およびクーロン摩擦則を前提としており,λ
はスティックスリップパラメータと呼ばれ,質量 m,剛性
k,垂直荷重 W,駆動速度 V,静摩擦係数 µs,動摩擦係数
µk を集約した無次元量であり,ASS は振幅である.ここで,
本研究における SS 構造周期は 2ASS と同質である.また,
垂直荷重 W は剃刀とフィルムの接触力であり,
W=2Tgcos(θ/2)である.つまり,θ が小さくなるに従い W
が大きくなり,このとき(1)式より λ が大きくなる.そし
Fig.2 Processing angle dependency of SS period for SS
processed film. Processing conditions: T=400g, V=10 mm/min,
L=1 mm. (The SPM image is the surface of the SS processed
film)
*1・・・SS 現象:摩擦面間に生ずる微視的な摩擦面の付
着,滑りの繰り返しによって引き起こされる自励振動.