CMP用パッド (CMP Pad)

NITTA HAAS INCORPORATED | ニッタ・ハース
シリコンウェーハ用研磨パッド
シリコンウェーハ用研磨パッドは、厳しい技術革新の続くシリコンウェーハ業界に向けて製造・販売さ
れる一次研磨・二次研磨、そしてファイナル研磨用のパッドです。一次研磨、二次研磨では高平坦性、
低欠陥、高生産性などの優れた研磨性能を安定して実現でき、ファイナル研磨ではスクラッチフリー、
ヘイズフリーなど無欠陥な仕上げ表面を得ることができます。
MH™シリーズ
MH™ パッドはシリコンウェーハの一次研磨・二次研磨用の
パッドです。200mmウェーハや300mmウェーハにおける高
平坦化研磨に対応します。
特
□
□
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長
高生産性
安定した品質
低欠陥性
構 造
表 面( x50)
断 面( x50)
物 性
製品名
厚み
( mm )
硬度
( Asker C )
密度
(g/cm3)
MH™-S15A
1.3
84
0.52
MH™-S15B
1.3
85
0.52
MH™-S15C
1.3
86
0.52
MH™-S24A
1.3
82
0.42
* 厚みは標準厚みを示しており、お客様のご要望にあわせて作製可能です
※ MH™はニッタ・ハース社の商標です。
※ 記載されている物性値等の数値は代表値を示しており、製品の規格を保証するものではございません。また、本製品の仕様は、改良などにより
予告なく変更することがあります。