Pure Gas Technologies 特徴全自動マイクロプロセッサーコントロールは、操作の煩わしさを最小限にし、エラーチェックや温度制御を確かなものにして、システムを監視しています。オペレーターインターフェイスはバルブ開閉表示、温度表示、操作スイッチ、警報表示等が配置されており、運転操作は全てこのパネルから行えますシステムアラームは、装置システムを完全にするため、考えられる危険を感知します。閉ループ温度コントロールはヒーターの能率と寿命を最大限にするために、プレヒーターと吸着筒の温度を正確に制御しています。カスタマーインターフェイス接続: アラームリレー：ノーマルオープン(NO)とノーマルクローズ(NC)のリレーでアラーム状態をリモート検知出来ます。メガトールPS22-MGTシリーズCDA用精製装置は最善の設計により小型化されサブppbレベルの精製能力を実現しました。サエスピュアガスにおける長年のUHP配管設計、最新プロセスガス分析、及び最新制御システムの導入と経験により低価格で高性能、高信頼性の精製装置シリーズを特別に設計しました。 PS22-MGTシリーズの精製装置は室温吸着方式を採用して組合せた2筒並列精製式の超高純度ガス精製装置で半導体製造用のUHPCDAを供給するために特別に設計されたものです。出口不純物レベルは CO2, H2O, TOC’s(C7+), amines, ammonia, sulfurs, siloxanes, refractory compounds, phthalates, carboxylic acids とNOx に付いて1ppb以下になります。ガス中のCO2, H2O,その他不純物は吸着筒（室温）で吸着（精製）されます。吸着筒は吸着（精製）/再生の 2筒交互運転でガス中の不純物を取除きます。再生は精製されたCDAガスを高温で逆流させて行われます。 10 Nm3/hr 60 Nm3/hr 200 Nm3/hr 型式 -CDA 流量寸法 PS22-MGT10- 10 Nm3/hr PS22-MGT25- 用途: マスク・パターンフォト・レシオグラフィーＥUV・オプティクス用に半導体製造行程高純度N2の代替 600 Nm3/hr 出口ガス純度 39'' x 38'' x 20'' H2O < 100 ppt 25 Nm3/hr 152 x 81 x 41 cm CO2 < 100 ppt PS22-MGT50- 50 Nm3/hr 196 x 89 x 86 cm TOC(as C7H8) < 10 ppt PS22-MGT60- 60 Nm3/hr 196 x 89 x 86 cm ACIDS(as SO2) < 10 ppt PS22-MGT100- 100 Nm3/hr 204 x 147x 191 cm BASES(as NH3) < 10 ppt PS22-MGT200- 200 Nm3/hr 204 x 147x 191 cm Trace Impurities* < 10 ppt PS22-MGT600- 600 Nm3/hr 239 x 191 x 236 cm *siloxanes, refractory compound, phthalates, carboxylic acids, NOx PS22-MGT1000 & UP 1000 Nm3/hr & UP 詳細はお問い合わせ下さい。