独立行政法人物質・材料研究機構共用設備等 平成26年7月22日 独立行政法人物質・材料研究機構施設及び設備の共用に関する規程 第3条に定める、 共用設備等(機構が保有する施設及び設備のうち、科学技術に関する研究開発を行う機構 外の方も利用できる施設及び設備)は、以下のとおりです。 (※印は、文部科学省からの委託事業「ナノテクノロジープラットフォーム」として 成果公開を原則に、割安な料金で利用可能な装置です) 材料創製・加工ステーション 1.CCLM溶解設備 2.3kg 真空溶解設備 3.20kg 真空溶解設備 4.加圧 ESR 溶解設備 5.鍛造設備 (油圧プレス) 6.熱間 2 段ロール圧延機 7.溝ロール圧延機 8.冷間 4 段ロール圧延機 9.大型スウェージングマシーン 10.小型スウェージングマシーン 11.鍛圧用加熱炉 12.鍛圧用移動式加熱炉 13.歪み速度制御圧延機 14.溝圧用加熱炉 15.大型熱処理炉 16.焼鈍用熱処理炉 17.炭酸ガスレーザ溶接機 18.電子ビーム溶接機 19.旋盤 (ガラス旋盤 D25-26) 20.高真空排気装置 材料創製・加工ステーション お問い合わせ:NAKAMURA.Terumi=nims.go.jp ([ = ] を [ @ ] にしてください) ウェブサイト:http://www.nims.go.jp/mmes/index.html 1/8 材料分析ステーション 1.マルチガス導入グロー放電質量分析システム (VG90000) 2.微小部蛍光 X 線分析装置 (ORBIS PC) 3.誘導結合プラズマ発光分析装置(シーケンシャル型) (ICPS8100CL) 4.誘導結合プラズマ発光分析装置(マルチ型) (IRIS AP) 5.2波長CCD低温X線回折装置 (VariMax DW with Saturn) 6.電界放射型電子線プローブマイクロアナライザー装置 (JXA-8900R 改) 7.極低加速電圧電界放射型走査電子顕微鏡 (SU8000) 8.電界放射型走査電子顕微鏡 (S-5500) 9.断面試料作製装置 (SM-09020CP) 10.走査型オージェ電子分光分析装置 (JAMP-9500F) 11.走査型オージェ電子分光分析装置 (PHI680) 12.X 線光電子分光分析装置 (Quantera SXM) 13.電界放射型電子線プローブマイクロアナライザー装置(JXA-8500F) 14.電子線プローブマイクロアナライザー装置(JXA-8900RL) 15.電界放射型走査電子顕微鏡(S-5000) 16.電界放射型走査電子顕微鏡(JSM-6500F) 17.走査電子顕微鏡(JSM-6510) 18.酸素窒素分析装置(LECO TC600) 、炭素硫黄分析装置(RH404) 、 水素分析装置(CS444LS) 19.誘導結合プラズマ発光分析装置(マルチ型) (720 ICP-OES) 20.二重収束型 ICP 質量分析装置(ELEMENT XR) 21.フェムト秒レーザー装置(IFRIT) 材料分析ステーション お問い合わせ:analysis=nims.go.jp ([ = ] を [ @ ] にしてください) 電子顕微鏡ステーション 1.実動環境対応物理分析電子顕微鏡 ※ 2.300kV 電界放射型電子顕微鏡(Tecnai G2 F30)※ 3.200kV 電界放射型電子顕微鏡(JEM-2100F1)※ 4.200kV 電界放射型電子顕微鏡(JEM-2100F2)※ 5.200kV 透過型電子顕微鏡 (JEM-2100)※ 2/8 6.FIB 加工装置群 ※ 7.走査型電子顕微鏡 ※ 8.200kV 透過型電子顕微鏡 (JEM-2000FX)※ 9.ウルトラミクロトーム ※ 10.3 次元解析ソフト ※ 11.TEM 試料作製装置群 ※ 12.300kV 電界放射型高分解能電子顕微鏡(JEM-3000F)※ 13.超高圧電子顕微鏡 ※ 14.単原子分析電子顕微鏡 ※ 15.200kV 電界放出型走査透過電子顕微鏡 16.冷陰極電界放出型電子顕微鏡 ※ 17.冷陰極電界放出型ローレンツ電子顕微鏡 ※ 18.セラミクス試料作製装置群 ※ 電子顕微鏡ステーション お問い合わせ:TAKEGUCHI.Masaki=nims.go.jp ([ = ] を [ @ ] にしてください) ウェブサイト:http://www.nims.go.jp/tem/ ※印は、文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業(成果公開)での ご利用も可能です。 (ウェブサイト:www.nims.go.jp/nmcp/ ) 高輝度放射光ステーション 1.試料自動交換システム付放射光硬 X 線光電子分光装置 2.高輝度放射光硬 X 線光電子分光装置 ※ 3.高輝度放射光高分解能粉末 X 線回折装置 ※ 4.高輝度放射光薄膜・ナノ構造用回折計 ※ 高輝度放射光ステーション お問い合わせ:BL15XUoffice=ml.nims.go.jp ([ = ] を [ @ ] に変えてお送りください) ウェブサイト:http://www.nims.go.jp/webram/index.html ※印は、文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業(成果公開)での ご利用も可能です。 (ウェブサイト:www.nims.go.jp/nmcp/ ) 強磁場ステーション 1.ハイブリットマグネット装置 3/8 2.水冷銅マグネット装置 3.18T 汎用超伝導マグネット装置 4.15T 超伝導スプリットマグネット装置 5.冷凍機伝導冷却型 10T 超伝導マグネット装置-Ⅱ 6.試料振動型磁化測定装置(VSM) 7.冷凍機伝導冷却型 12T 超伝導マグネット装置 8.20T マグネット・希釈冷凍機システム 9.20T マグネット・ヘリウム 3 冷凍機システム 10.17T マグネット・ヘリウム 4VTI システム 11.500MHz 固体高分解能 NMR システム ※ 12.500MHz 汎用 NMR システム ※ 13.300MHz 広幅 NMR システム ※ 14.930MHz 固体高分解能 NMR システム 15.強磁場光学測定システム 強磁場ステーション お問い合わせ:SHIMIZU.Tadashi=nims.go.jp ([ = ] を [ @ ] にしてください) ウェブサイト:http://www.nims.go.jp/TML/index.html ※印は、文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業(成果公開)での ご利用も可能です。 (ウェブサイト:www.nims.go.jp/nmcp/ ) 低炭素化材料設計・創製ハブ拠点 1.MBE 量子井戸薄膜創製装置 2.放電プラズマ焼結創製装置 3.炭素系材料気相成長装置 4.高純度窒化物気相成長装置 5.磁性多元合金スパッタ装置 6.ナノマニピュレーション用電界放出形走査電子顕微鏡 7.集束イオンビーム加工観察装置 8.電子線描画装置 9.微細組織三次元マルチスケール解析装置 10.酸化膜ドライエッチング装置 11.無損傷電子顕微鏡試料薄片化装置 12.マイクロフォーカス X 線 CT 装置 13.単結晶 X 線構造解析装置 4/8 14.顕微ラマン測定装置 15.電子スピン共鳴装置 16.温度変調型熱分析装置/熱重量-示差熱-質量同時測定装置 17.極低温比熱・電気抵抗測定装置 18.パワーデバイスアナライザ 19.表面・界面物性解析装置 20.飛行時間型二次イオン質量分析装置(TOF-SIMS)※ 21.実動環境対応ナノ物理分析 TEM 22.蛍光体発光特性評価装置 23.ナノ材料評価用カソードルミネッセンス測定装置 24.蛍光寿命測定装置 25.走査型ヘリウムイオン顕微鏡 ※ 26.3次元測定レーザー顕微鏡 27.高圧ガス/蒸気吸着量測定システム 28.触針式表面形状測定器 低炭素化材料設計・創製ハブ拠点 お問い合わせ:nims-hub=nims.go.jp ([ = ] を [ @ ] にしてください) ウェブサイト:http://www.nims.go.jp/low_carbon/ 微細構造解析プラットフォーム 1.極低温・高磁場走査型トンネル顕微鏡 2.環境制御型周波数変調方式走査型プローブ顕微鏡 3.実動環境対応型電子線ホログラフィー電子顕微鏡 お問い合わせ:nmcp[at]nims.go.jp ([at]を@に置き換えてください) ウェブサイト:http://www.nims.go.jp/nmcp/ 微細加工プラットフォーム 1.100kV 電子ビーム描画装置 2.レーザー露光装置 3.マスクアライナー 4.ナノインプリント装置 5.全自動スパッタ装置 5/8 6.超高真空スパッタ装置 7.12 連電子銃型蒸着装置 8.超高真空電子銃型蒸着装置 9.原子層堆積装置 10.プラズマ CVD 装置 11.多目的ドライエッチング装置 12.化合物ドライエッチング装置 13.シリコン深堀エッチング装置 14.酸化膜ドライエッチング装置 15.FIB-SEM ダブルビーム装置 16.急速赤外線アニール炉 17.シリコン酸化・熱処理炉 18.走査型電子顕微鏡 19.原子間力顕微鏡 20.3 次元測定レーザー顕微鏡 21.ダイシングソー 22.自動スクライバー 23.ダイヤモンドワイヤーソー 24.CMP 装置 25.ワイヤーボンダー 26.室温プローバーシステム 27.極低温プローバーシステム 28.125kV 電子ビーム描画装置 29.高速マスクレス露光装置 微細加工プラットフォーム お問い合わせ:NIF-office[at]nims.go.jp ([at]を@に置き換えてください) ウェブサイト:http://www.nims.go.jp/nfp/ 分子・物質合成プラットフォーム 1.LC/MS/MS 2.共焦点顕微鏡 SP5 3.NMR 4.ライブセル高速イメージング・全反射蛍光顕微鏡 5.ナノサーチ顕微鏡 6/8 6.レーザーラマン顕微鏡 7.リアルタイム PCR 8.DNA シーケンサ 9.表面プラズモン解析装置 10.FT-ラマン IR 分光器 11.円二色性分光器 12.リサイクル分取 GPC 13.卓上電子顕微鏡 14.クライオスタット 15.プレートリーダー 16.グローブボックス 17.LC/MS/MS(Q-exactive) 18.マイクロアレイスキャナー 19.レーザーマイクロダイセクションシステム 20.細胞分離分析システム 21.蛍光顕微鏡群 22.生体分子分離装置群 23.材料調整装置群 24.材料分析装置群 25.分子材料分光分析装置群 26.ナノ材料分析装置群 27.分子材料分離分析装置群 分子・物質合成プラットフォーム お問い合わせ:SML-office[at]nims.go.jp ([at]を@に置き換えてください) ウェブサイト:http://www.nims.go.jp/mmsp/ 蓄電池基盤プラットフォーム 1.スーパードライルーム 2.小型電池試作装置群 3.FTIR(フーリエ変換赤外分光装置) 4.レーザーラマン顕微鏡 5.高速分光エリプソメータ 6.ガス透過率測定装置 7.TG/MS(熱重量測定質量分析装置) 7/8 8.コンパクト SEM 9.レーザー顕微鏡 10.粘度計 11.充放電試験機 12.高精度電気化学測定システム 13.単粒子測定システム 14.ICP/MS(誘導結合プラズマ質量分析計) 15.LC/MS (液体クロマトグラフ質量分析計) 16.イオンクロマトグラフ 17.酸素・窒素・水素定量分析装置 18.グロー放電発光分析装置(GD-OES) 19.GC/MS(ガスクロマトグラフ質量分析計) 20.電池発生ガス分析装置 21.XRF(蛍光 X 線分析装置) 22.XPS(X 線光電子分析装置) 23.HAXPES 24.XRD(X 線回折装置) 25.比表面積測定装置 26.粒子径分布測定装置 27.環境制御型 SPM 28.TOF-SIMS 29.TEM/STEM 30.FIB 31.FIB-SEM 32.SEM 33.走査型オージェ電子分光装置 34.クロスセクションポリッシャ(CP) 蓄電池基盤プラットフォーム お問い合わせ:Battery-PF[at]nims.go.jp ([at]を@に置き換えてください) ウェブサイト:http://www.nims.go.jp/brp/nims/ 8/8
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