従来技術（フォトリソ法）とインクジェット法の比較
従来技術
フォトマスク作成
絶縁膜形成
インクジェット法
基板
絶縁膜
表面処理
フォトレジスト形成
レジスト
インクジェット・ヘッド
紫外線
露光
絶縁層を
直接描画
チッソ
絶縁性インク
マスク
熱処理
現像
エッチング
レジスト剥離
パターニング絶縁層形成
脱フォトリソ化、脱真空化 → 設備投資が１／１０以下に！