J-PARC E16実験のためのGEM Tracker開発 渡辺陽介 for E16 collaboration 東大、理化学研究所 共同研究 KEK測定器開発室のサポート 1 Outline ①GEMTrackerの開発目的 ②GEM chamberのセットアップ ③ビームテスト結果 ④まとめ 2 GEM Trackerの開発目的 1セクター これが26個 原子核中でのφ中間子質量の測 定 φ->e++e- 3層のGEMチェンバーで磁場中 の位置を出し運動量を決める 要求性能 GEM Tracker ビーム平面で見た図 ~100μm の分解能 ハイレートへの耐性(5kHz/mm2) 少ない物質量(1チャンバーにつ き~0.1% ) 3 GEM Chamber 決めるべきパラメータ ①. Beam induced electron 収集部 -長さ -電場 1 2 ②電子増幅部 -GEM geometry 3 XPI ③2次元ストリップ読み出し部 double-side single-side 350μm 700μm D XCu 700μm D X width:表70μm 裏290μm pitch::350μm KEK宇野さんのアイデア XPI XCu D 70 ~90 50 45 75 X D 70 50 70 100 50 - gas: P10 or Ar70% CO230% 4 エッチングGEMの性能 今までレイテックにつくっていただいていたGEMは穴径がCERNなどと比べて 大きかった。 XPI XCu D XPI ① 70 ~90 50 D ② 45 75 50 XCu 最近新しく穴の小さいGEMをつくった NEW etching 4 枚 / 3 枚 φ70 D50 レー ザー OLD etching ゲインが大幅に改善した P10, 55Fe GEM一枚あたりの電圧 5 ビームテスト解析手順 Hit position determined by Silicon Strip Detector(SSD) SSD beam 残差 Events GEM SSD Hit position determined by GEM chamber Center Of Gravity Q3 Q1 Q2 Q X Q i Q4 i Q5 X1 X2 X3 X4 X5 i i i difference mm -Multiple scattering -Tracking Accuracy 位置分解能 6 テストしたセットアップ GEM 読み出し gas dD mm 入射角度 ① (XPI70, XCu90, D50) 3枚 Single-side 700 P10 11mm 0,15 ② (X70,D100)+(X70,D50) 3mm 0,15,30,45 ③ (XPI45, XCu75, D50) 3枚 6mm 0,15,30,45 3mm 0,15,30,45 Double-side 700 ④ ⑤ ArCO2 3.5mm 0,15,30,45 11mm 先 0,15,30,45 週 1mm 0,15,30 ⑧ 3mm 0,15,30 ⑨ 6mm 0,15,30 ⑥ ⑦ Double-side 350 7 セットアップ① P10 11mm 500V/cm 穴の大きいGEM 3枚 (gain ~2000) 結果 0 15 106μm 470μm single-side 700μm Et: 1700V/cm Ei: 1700V/cm 100umは達成可能 ドリフトギャップが広いためななめ入射に対しては弱い 8 セットアップ② P10 3mm 1500V/cm 100μm+50μm (gain ~6000) single-side 700μm 結果 0 15 30 160μm 270μm 470μm Et: 3400V/cm Ei: 3400V/cm ななめ入射の改善 正面入射の悪化 •種の数の見積もり ~3個 (Collection Effiiciency 0.15) ダメ OK •collection efficiency (Egem/Ed,Geometry) •GEM1枚あたりにかける電圧 50μm 100μm 340V 285V(/50 μm) → 50μmGEMのほうが有利 9 以下先週のテスト P10 Et: 3400V/cm Ei: 3400V/cm ArCO2 Et: 3800V/cm Ei: 3800V/cm Raytech 穴の小さい GEM ガス •ArCO2 •P10 Drift gap 読み出し X •Double-side 700μm •Double-side 350μm X •1mm •3mm •6mm •11mm 10 残差(μm) ドリフト電場と分解能 dD=6mm 正面入射 P10 700pitch preliminary ドリフト電場(V/cm) dD=6mm 15度入射 残差(μm) 穴の小さいGEM 3枚 Tracking resolution : ~50μm preliminary P10 700pitch ArCO2 350pitch ドリフト電場(V/cm) 強すぎるドリフト電場 →収集効率の悪化(電気力線 GEMの上面に行ってしまう) →分解能の悪化 GEMにかけている電圧 -P10:340V -ArCO2: 380V →P10のほうがドリフト電場の影響 うけやすい 11 ドリフトギャップと分解能 残差(μm) 30度 preliminary ドリフトギャップの広さは傾きが 大きいほど顕著に効く 15度 0度 目標値(再) - 入射角0-30について100μm。悪く ても200μmはほしい。 15度まで200μmに収まるセット アップは可能 ドリフトギャップ mm ArCO2, double-side 350μm pitch ADCの情報だけで30度まで100μmを 達成するのは不可能 12 ガスとストリップピッチ① ガスの諸性質 σT(μm/cm^(1/2) ① 横方向の広がり 760Torr MAGBOLTZ simulation P10 ② ゲイン ArCO2: ~20000 P10 ~10000 ArCO2のほうが安定に高いゲイ ンを出せる ArCO2 正面入射結果 ピッチ 700 preliminary 350 電場(V/cm) ガス dD 本数 残差 P10 3 ~4 137 ArCO2 3.5 ~2 105 P10 6 ~7 116 ArCO2 6 ~4 87 •ArCO2のほうが分解能 が良くなっている -電子の広がりの効果? 13 ガスとストリップピッチ② 電子の広がりの大きさ 定義 preliminary Qi/Q Xi 結果 hit位置 preliminary mm 700μm 350μm MAGBOLTZ P10 610μm 630μm ~600μm ArCO2 380μm 350μm ~240μm • P10はMAGBOLTZの結果と大体一致 • ArCO2の結果がSimulationをうまく再現していない - 電子の広がりそのものをみているわけではない? 14 Double-side のシグナル 裏面のシグナルのオーバーシュートが顕著 カーボン + 塗布 復活・・ アクリル系接着剤 解決!? 表裏の電荷の比 KEK大下さん、田中さんありがと うございました X線 • • 表/総電荷 9割近く表に落ちる single-sideの場合は4割が表に落ちる 15 Double side 裏面の結果 正面入射 結果 ピッチ ガス dD Efficiency 残差 700 P10 3 75% 240μm 11 98% 154μm ArCO2 3 89% 154μm ArCO2 3 86% 124μm 11 97% 110μm preliminary 350 裏に落ちる電荷が少ないためEfficiencyが悪くなってしまっている。 十分電荷がありさえすれば裏でもEfficiency,分解能は出る。 •これ以上どうやってゲインを上げるのか・・・ 16 時間情報を用いた解析(一例) ArCO2 double-side 700μm dD=11mm ED=500V/cm 入射角 15度 ①signalが来たタイミングを決める 1ch=4mV preliminary Thalf 1ch=10nsec ②最小2乗フィット x x vd x Thalf x Xtiming ドリフト方向の 位置 x 時間情報によるResidual vd=1.3cm/μsec。Magboltzとconsistentな値。 preliminary ADC情報によるResidual 17 まとめ 電荷の情報だけでも15度まで分解能100μm台は達成 可能 30度になると、電荷情報だけではきつい タイミング情報は位置を求めるのに使える。ちゃ んとした解析はこれから 18 Backups 19 読み出し セットアップ①と② ストリップ チャージ積分型プリアンプ 200mV/pC (KEK psで使っていたらしい。 Belleと同じ?) ポストアンプ 10倍 VME v792 先週のセットアップ ストリップ チャージ積分型プリアンプ 3.2V/pC RPV-160 Flash ADC 20 追加事項 電荷の重心でもとめた分解能はもっと改善する 残差(mm) ストリップの周期で残差をかさね合わせた COGで位置を求めることによる構造が見え てしまっている mm 21 Magboltz Simulation Ar 70% CO2 30% 拡散定数(μm/sqrt(cm)) ドリフト速度 cm/μsec P10 22
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