Susceptibility-Weighted Imaging:SWI 3D FLASH – 高い空間分解能 – 0.8x0.7x1.6 mm – voxel内のdephasingを 最小限 – 大きな位相分散による信号 低下を避け、位相差情報を 検出するため 1. Rauscher A. Magn Reson Med. 2005 Jul;54(1):87-95. SWIの理解に虚数が必要? Nombre imaginaire 虚数 imaginary number • 2乗してマイナスになる数 • 虚数単位:i • 2乗して-1になる数 • i =√ -1 • オイラーの等式 • e ip + 1 = 0 虚成分 Im 横磁化 M sinf M f 実成分 Re M cos f Re: 実成分 Im: 虚成分 M: 横磁化成分の絶対値 f : 位相角 • Xy平面上の横磁化成分もベク トルとして考えることができる。 複素平面(ガウス平面、アルガン平面) 虚数の数直線(虚数軸) 虚成分 Im 5+4i 4i -5 M M f f 5 実数の数直線(実数軸) - 4i 横磁化 M sinf Re: 実成分 Im: 虚成分 M: 複素数の絶対値 f : 虚数の偏角 実成分 Re M cos f Re: 実成分 Im: 虚成分 M: 横磁化成分の絶対値 f : 位相角 • 複素数=複数の要素をもった数 • Xy平面上の横磁化成分もベク トルとして考えることができる。 • ベクトル平面=複素平面 実チャネルと虚チャネル、実成分と虚成分 虚チャネル 虚成分Im 横磁化 M sinf M f 実数成分(cos)→同位相 実チャネル 実成分 Re M cos f Re: 実成分 Im: 虚成分 f : 位相角 虚数成分(sin)→直角位相 • • 信号強度と方向 MR信号は位相差による実成分 (real、同位相成分)と虚成分 (imaginary、直交位相成分) からなる.実成分と虚成分は 直交配列するquadrature型コ イルを考えると理解しやすく, 直交座標系として表現するこ とができる . 実成分と虚成分,強度画像と位相画像 1. 虚成分Im 強度画像 magnitude image M = √Re2 + Im2 横磁化(MR信号) M sinf M f 2. 実成分 Re M cos f Re: 実成分 Im: 虚成分 M: 強度画像 f : 位相角 位相画像 phase image tan f = Im / Re f = arctan [Im / Re] (-p/2<f<p/2) 実成分と虚成分,強度画像と位相画像 実数部分 k-space 虚成分Im 虚数部分 k-space MR信号 FT M sinf M f 実数画像 虚数画像 強度画像 magnitude 位相画像 phase 実成分 Re M cos f Re: 実成分 Im: 虚成分 M: 強度画像 f : 位相角 • SWIは強度画像と位相 画像を用いる Postprocessing of SWI 撮像データからSWIまでの後処理,再 構成までのステップ High-pass filter 磁化率差以外の要因による背 realigned data 景の位相変化を除去 背景に含まれる低周波数成分 の位相の乱れを取り除く。 2. “Phase” mask 位相差を強調するために、信号 2.Phase mask image を落としたい位相の部分が0に Phase image なるようなマスク画像を作成 3.multiplication 位相画像上で位相が進んでいる (あるいは遅れている部分)を0、 位相差のない部分は1にしたよ 4.mIP うな画像 1.High-pass filter Magnitude image 1. 1. SWI Rauscher A.Magn Reson Med. 2005 Jul;54(1):87-95. 位相マスク画像の掛け合わせ 位相画像 -p < f < 0 ⇒ ⇒ マスク 0 < f masked < 1 SWI r = r magnitude*[ fmasked ]n 位相差 - p/2 と - p/4 位相マスク画像を4回掛け合わせるとすると r = r magnitude*[ fmasked ]4 f1 = - p/2 f1 masked = 0.50 r = r1 magnitude*0.0625 f2 = - p/4 f2 masked = 0.25 r = r2 magnitude*0.0039 2:1 16:1 SWIでは複数回掛け合わせ(n)により、磁化率変化による位相差を強調 T2*WIに比較して10倍以上の鋭敏さがある. SWIは磁化率に鋭敏 撮像voxelの1/4程度の大 きさまで磁化率効果が描出 される – 0.50mmのvoxelでは 0.25mm径の静脈が描 出できる 大きさを過大評価 Partial volume effect 静脈 静脈 T2WI SWI Postprocessing of SWI 撮像データからSWIまでの後処理,再 構成までのステップ “Phase” mask multiplication realigned data 位相マスク画像を強度画像 (magnitude image)に複数 回 掛 け 合 わ せ る (multiplication)ことで、画像 のCNRを向上させる 2.Phase mask image 4. Minimum intensity Phase image projection; mIP 3.multiplication 静脈を評価する場合には、あ る程度のスライス厚情報をもっ て画像化すると有用なため,最 小値投影法mIPによる再構成 4.mIP 画像を作成 Magnitude 1.High-pass filter image 1. 3. SWI Rauscher A. Magn Reson Med. 2005 Jul;54(1):87-95.
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