公募集職種資格等条件条件採用試験内平成２７年４月１７日技術員・１名スパッタ法、真空蒸着法などによる薄膜作製、および薄膜デバイスの作製評価に関する実務経験等を有する事。詳細は別紙参照業務内容 *詳細は，下記担当までお問い合わせください。氏名：横山壽治 E-mail: [email protected] TEL ：045-924-5170 FAX ：045-924-5170 勤務予定地横浜市緑区長津田町4259 元素戦略研究センター ①履歴書（写真貼付）＊応募書類は返却しません。応募書類＊本学での勤務経験がある場合は、所属していた部署名や従事していた研究室名まで詳しくご記入をお願いします。封筒に｢元素戦略研究センター技術員応募書類在中｣と朱書し下記提出先宛に簡応募方法易書留で郵送応募締切平成２７年５月２８日（木）但し、応募順に選考を行う第１次：書類選考選考方法第２次：面接試験試験日内定通知雇用期間待遇及び労働条件案別紙参照応募募給与勤務時間等宿舎社会保険等提出先随時＊第１次試験合格者のみ，前日までに時間・場所等を通知します最終選考の後，３日以内に通知平成２７年７月１日～平成２８年３月３１日 ※更新の可能性有り（ただし，最長で平成３０年６月３０日まで）年俸制（各種手当含む）・週4日～5日（1日7時間）勤務の場合月額 133,000円～201,000円・週5日（1日7時間45分）勤務の場合月額 225,000円～303,000円＊勤務形態、実務経験等により決定します ① １週間の通常勤務時間（勤務日・勤務時間応相談）月～金（1日7時間以上、週4～5日） ②超過勤務：無 ③休日：土曜，日曜，祝日，年末年始(12/29～1/3) ④有給休暇及びその他の休暇制度ありなし健康保険・厚生年金，雇用保険，労働者災害補償保険〒226-8501 横浜市緑区長津田町4259番地 S2-13 国立大学法人東京工業大学元素戦略研究センター細野秀雄 Tel:045-924-5009 ，E-mail:[email protected] 戦略的創造研究推進事業・ＡＣＣＥＬ技術員の募集 1. 公募人員：技術員（1 名） 2. 研究内容：科学技術振興機構（ＪＳＴ）の戦略的創造研究推進事業の新制度ＡＣＣＥＬ（URL: http://www.jst.go.jp/pr/info/info989/besshi1.html）で実施することになった「エレクトライドの物質科学と応用展開」プロジェクト(代表研究者：東京工業大学・細野秀雄教授)において、エレクトライド(電子化物)の薄膜作製と電子材料などへの応用に関する基礎研究を実施します。 3. 応募資格： (1) スパッタ法、真空蒸着法などによる薄膜作製、および薄膜デバイスの作製評価に関する実務経験等を有すること。特に、メーカーにおいて、有機 EL パネル作製などの経験のある方が望ましい。 4. 研究場所：東京工業大学（すずかけ台キャンパス） 5. 雇用開始時期：2015 年 7 月 1 日 6. 任期：最長 3 年 7. 待遇：・給与：年俸制（各種手当含む）・週 4 日～5 日（1 日 7 時間）勤務の場合月額 133,000 円～201,000 円・週 5 日（1 日 7 時間 45 分）勤務の場合月額 225,000 円～303,000 円＊勤務形態、実務経験等により決定します・勤務時間： 1 日 7 時間～7 時間 45 分、週 4～5 日（応相談）・休日：完全週休 2 日制（土・日）、祝日、年末年始・待遇：有給休暇有り、各種保険完備 8. 提出書類：履歴書（写真貼付）、これまでの業務内容を簡単に記述した業務略歴書（形式自由） 9. 応募締切：2015 年 5 月 28 日（木）（応募次第、随時選考を行います） 10. 書類提出先：封筒に「元素戦略研究センター技術員応募書類」と朱書きのうえ、簡易書留で下記宛てご送付下さい。なお、応募書類は返却しません。また、応募書類に含まれる個人情報は国立大学法人東京工業大学の定めに従い、本人事選考にのみ使用し、他の目的には一切使用しません。 11. 書類提出・問い合わせ先：〒226-8501 神奈川県横浜市緑区長津田町4259 S2-13 東京工業大学・フロンティア研究機構細野秀雄 TEL: 045-924-5009, E-mail: [email protected]