公 募 案 内 平成27年4月16日 募集職種 技術員・ 1名 理系大学卒業以上、もしくはそれと同程度の知識や経験を有している方。 資格等条件 *化学、材料、真空実験に関する知識、実験経験を有している方が望ましい。 *物質・材料合成の経験のある方を優先します。 応 業務内容 募 条 件 勤務予定地 応募書類 応募方法 応募締切 採 用 試 験 選考方法 試 験 日 内定通知 雇用期間 待 遇 及 び 労 働 条 件 給 与 勤務時間等 平成27年度~29年度科学研究費助成事業(代表 伊藤満)実施のため、本研 究に従事する技術員を募集します。 本研究課題では、酸化物バルクおよび薄膜の構造と磁気的、誘電的特性の評 価を実施します。 技術員の方には研究室教員との協力の下、下記業務を行っていただきます。 (A) 酸化物材料合成 (B) 薄膜作製 (C) 構造評価 (D) 磁気・電気特性評価 *業務内容・業務場所については、今後、組織の変更・業務分担の変更に伴い、 経理処理関係業務を中心とする業務に従事することとなる、又は、スケジュール 管理・文書整理・英文レター作成等の業務を中心とする業務に従事することにな るなど、従事する業務分担の変更の可能性があります。また、これに伴い業務場 所が研究室内ではなく事務室内になる場合もあります。 *詳細は,下記担当までお問い合わせください。 氏名:伊藤 満 E-mail: [email protected] TEL :045-924-5354 FAX :045-924-5354 横浜市緑区長津田町4259 東京工業大学応用セラミックス研究所 伊藤・谷山研究室 ①履歴書(写真貼付・氏名は自署のこと) ※応募書類は返却しません。 ※本学での勤務経験がある場合は、所属していた部署名や従事していた研究 室名まで詳しくご記入をお願いします。 封筒に「応用セラミックス研究所 伊藤・谷山研究室応募書類在中」と朱書し下 記提出先宛に郵送,または持参 平成 27年 5月 18日(月)必着 書類および面接選考 応募書類が到着次第、随時面接選考を実施します。書類選考を通過した方につ いては、面接選考を行います。(面接選考の案内をもって、書類選考の結果通 知とさせていただきます) 随時 最終選考の後、1週間程度で合否にかかわらず本人宛に通知。 平成27年6月1日~平成28年3月31日 ※着任後、業務内容評価、業務進捗状況などにより、最長3年間を限度とし て契約更新の可能性があります。 年俸制(各種手当て含む) 週3日・18時間勤務の場合:月額94000円~146000円(各種手当 含む) ※資格、経験、実績等を考慮のうえ、当大学の規定に従い決定します。 1.1週間の通常勤務時間(週3日・18時間程度) 月:9:15~16:15 (6時間) 水:9:15~16:15 (6時間) 金:9:15~16:15 (6時間) 2.超過勤務:無 3.休日:土曜,日曜,祝日,年末年始(12/29~1/3) 4.有給休暇及びその他の休暇制度あり ※勤務条件(出勤日、就労時間など)は面接時に相談の上決定 宿 舎 なし 社会保険等 労災保険・雇用保険(勤務時間により加入) 〒226-8503 提 出 先 横浜市緑区長津田町4259番地 mail box R3-28 国立大学法人東京工業大学応用セラミックス研究所 事務室 Tel:045-924-5967,E-mail: [email protected]
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