Einladung ZEISS GEMINI User Meeting

Einladung
ZEISS GEMINI User Meeting
Oberkochen | 15. /16. Juni 2016
Sehr geehrte Damen und Herren,
wir laden Sie herzlich zu unserem GEMINI User Meeting am 15./16. Juni 2016
in Oberkochen ein.
Neben Vorträgen werden praktische Demonstrationen an Elektronenmikroskopen
durchgeführt. Wir hoffen, ein für Sie interessantes Programm zusammengestellt
zu haben und freuen uns auf Ihre Teilnahme und einen regen Austausch mit Ihnen.
Bitte registrieren Sie sich bis zum 30. April 2016 hier*.
Ihr ZEISS Microscopy Team
Fe2O3 /ZrO2 particles. Image parameters have been
Veranstaltungsorte:
Vorträge, 15.6.2016
ZEISS Forum
Conference − Event − Museum
Carl-Zeiss-Straße 22
73447 Oberkochen
optimized for resolution of surface details and materials
contrast: achieved with a diode backscatter detector
and a combinationn of low acceleration voltage (1 keV)
and a negative bias voltage (-5 keV) on the sample by
using Tandem decel on ZEISS GeminiSEM 500.
1 µm
* Maximale Teilnahmerzahl: 80 Personen
Hands-on Training, 16.6.2016
Hans-Mahl-Nanosolutions-Center
Rudolf-Eber-Straße 2
73447 Oberkochen
Agenda 15. Juni 2016
Agenda 16. Juni 2016
Vorträge im ZEISS Forum
12:00
Fingerfood
12:45
Begrüßung
13:00 − 16:30
Vorträge, je 30 Minuten*:
Hands-on Training im Hans-Mahl-Nanosolutions-Center
9:00
Andreas Pfeifer, Carl Zeiss Microscopy GmbH
GeminiSEM 500
NanoVP vs klassischem VP, Tandem Beam Decelaration, Low kV Applikationen
Sigma 500 VP
Unterschiedliche Signale von Inlens SE, Inlens EsB, ETSE und 5Q-BSD Detektoren
Merlin
Die einfache Bedienung der Gemini II Optik, Hochstromanwendungen bei gleichzeitiger guter Abbildung
• Das Einsatzgebiet der Elektronenmikroskope bei der Firma UMS
Hüseyin Sahin, United Monolithic Semiconductors GmbH
10:30
Kaffeepause
• Korrelative Mikroskopie an optischen Bauelementen
Christian Thomas, Hochschule Hamm-Lippstadt
11:00
Crossbeam 340/540
• Rasterelektronenmikroskopische Cryo-Anwendungen in der Industrie
Carl Uwe Schmidt, Wella
Korrelative Mikroskopie
• Charakterisierung von Gefügen in metallischen Werkstoffen mit einem FE-REM
Andreas Schuster, Hirschvogel Holding GmbH
Atlas 5
• Besondere Eigenschaften der GeminiSEM-Säulen und ihre praktischen Auswirkungen
Heiko Stegmann, Carl Zeiss Microscopy GmbH
12:30
Mittagessen
• Mikrostrukturelle Charakterisierung des Drahtbondprozesses
unter Einbindung des ZEISS Ultra Plus Gemini Rasterelektronenmikroskops
Florian Eacock,
Lehrstuhl für Werkstoffkunde, Universität Paderborn
13:30
EVO
Software Module: 3DSM, Smart Browse, Smart Stitch, Automated Intelligent Imaging, Drift Correction, etc.
Xradia 510 Versa
Hochauflösende 3D Abbildungen mittels Röntgenmikroskopie
• Der Nano-Hammer – Schmieden mit dem Ionenstrahl
Wolfgang Bolse, Ihfg Universität Stuttgart
Smartzoom 5
Das neue Digitalmikroskop von ZEISS
• Hochaufgelöste korrelative Rasterelektronenmikroskopie an additiv gefertigten Materialien
Tim Schubert, Hochschule Aalen
17:30
Besuch ZEISS Museum / Führung
19:00
Abendveranstaltung
* Die Reihenfolge der Vorträge kann variieren.
15:00
Diskussion & Feedback
15:15
Ende
Die Erweiterung des FE-SEMs um eine FIB
Carl Zeiss Microscopy GmbH
07745 Jena, Deutschland
[email protected]
www.zeiss.com/microscopy

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