平成２７年５月１８日 豊田工業大学 学長 榊 裕之 （公印省略） 平成２７年度 フォトリソグラフィ・微細加工 実習・講習会のご案内 拝啓 時下ますますご清栄のこととお喜び申し上げます。平素は格別のご高配を 賜り、厚く御礼申し上げます。 さて、ご高承のとおり、半導体は、スマートフォンやデジタルカメラなど ＩＴ分野の進展にとって不可欠な役割を果しているだけでなく、太陽電池や パワー素子などのエネルギー関連技術の革新、ナノ構造やマイクロマシン （MEMS）を用いた各種センサーの進歩などにも重要な役割を果しており、 今後のイノベーションの推進には、その活用が極めて大切です。このため、 半導体技術、特にそのプロセス技術の基本を習得し、必要に応じて新素子 の創出や活用ができる人材を育成することが重要です。 本学は、開学当初より、一連の半導体の微細加工技術に対応できるクリー ンルームを完備し、教育・研究開発・素子試作に活かす取組を進めてきまし た。また、そうした活動の一つとして、産業界や他大学などの要望に応えて、 半導体技術に関する実習・講習会を開催しています。 今年は、これまで使ってきたクリーンルームの運転を7月末に終え、8・9 月に関連設備を現在建設中の新施設に移設する予定です。このため、今回は、 実習内容を限定した小規模の実習・講習会を、移転前に行うこととしました。 また、本学は文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム（微細加工技術 領域）の枠組みで、企業や他大学の研究者や技術者の要望に応える技術支援 を行ってきましたが、今回の実習・講習会はその一環として開催するもので す。 今年は、半導体の微細加工に必須のフォトリソグラフィに的を絞り、昨年 度から本格稼働したマスクレス露光装置を中心にした実習を行います。フォ トリソグラフィの基本から応用に関する講義と合わせて、デジタルデータの 設計から実際のパターン形成までを実習します。日程や内容の詳細は同封の 別紙をご参照下さい。 貴社（学）に、参加の希望の方がおられましたら、ご推薦を頂くようお願 い申し上げます。なお、今回は受入れ人数を制限しておりますので、お早め にお申し込みいただきますよう、お願い申し上げます。なお、同様の実習を、 別時期に企業研修などとしてご希望の場合は、別途ご相談下さい。 敬具 豊田工業大学 平成27年度 フォトリソグラフィ・微細加工 実習・講習会 本実習・講習会は、文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業活動の一環として開催いたします。 今回は、マスクレス露光装置を中心に、自身でデザインした微細パターンの転写を含め、フォトリソグラフィ 技術を習得していただけます。 開催日時： 7月9日（木） 13:20-17:30、7月10日（金） 9:00-17:30 場 所 ： 豊田工業大学 （名古屋市天白区久方2-12-1） 定 員 ： 10名 受講料 ： 企業 4万円/人 （同一企業の2名以上でパターンを共通にする場合は3万円/人） 大学・公的機関 1万円/人（学生が講義のみ参加する場合は無料。） １．スケジュール 7月9日（木） 13:00-17:30 7月10日（金） 8:40-17:30 受付開始（1号棟3階 本館ホール） 13:00 受付開始（6号棟クリーンルーム） 8:40 挨拶 クリーンルーム施設長 大澤 潤 13:20 挨拶 クリーンルーム施設長 大澤 潤 9:00 講義1： 「マスクレス露光装置の紹介」 13:30 株式会社大日本科研 技師 中川孝司 氏 実習A： パターン設計（続き）、データ変換 9:10 安全講習 講義2： 「フォトリソグラフィによるマイクロ・ ナノ加工」 14:40 豊田工大 教授 佐々木 実 実習B： マスクレス露光装置によるパターン形成 （前処理、レジスト成膜、露光、現像、メタル エッチング、パターン評価を含む） 10:30 実習A： CADによるパターン設計 昼食（食事付き） 12:00 15:50 アンケート記入、技術相談（希望者） 17:20 10:15 実習B：パターン形成（続き） 13:00 アンケート記入、技術相談（希望者） 17:10 クリーンルーム付帯設備の見学（希望者） 17:20 ２．講義・実習の概要 実習・講義の題名 概 要 講義1：「マスクレス露光装置の紹介」 （株）大日本科研 機械技術課 技師 中川孝司 氏 フォトリソグラフィのキープロセスに使用される露光装置に ついて、フォトマスクを使用しないマスクレス露光装置を紹 介する。装置構成や露光方式、パターンの実例を説明する。 （1号棟3階本館ホール） 講義2：「フォトリソグラフィによる マイクロ・ナノ加工」 豊田工大 教授 佐々木 実 フォトリソグラフィの基本と実際的なコツを説明する。工程に 一手間加えると、特徴ある加工ができる。文献も合わせて、 いくつかの事例を紹介する。 （1号棟3階本館ホール） 実習A：CADによるパターン設計 （7/9：号棟3階本館ホール 7/10：6号棟2階6215室） 実習B：マスクレス露光装置による パターン形成 （6号棟1階クリーンルーム） クリーンルーム付帯設備の見学 （屋外） 転写したい図形を汎用の2次元CADを用いて描画する。作 成のポイントを実際の作業の中で説明する。参照パターン を紹介する。設計したパターンを変換する。 マスクレス露光装置を用い、設計パターンをウェハ上に転 写する。ウェハへのレジスト塗布から現像までを行う。待ち 時間に、転写パターンの評価も合わせて行う。 超純水製造設備・廃液処理設備・廃ガス除害装置・空調シ ステムについて、現地説明する。 ３．申込方法、問合せ先 ・こちらからお申込みください。 申込みURL： http://www.toyota-ti.ac.jp/news/2015/kosyukai150709.html ・申込み締切日：6月15日（月） ※定員になり次第、締切らせていただきます。 ・問合せ先：豊田工業大学研究支援部研究協力グループ 担当 安田 TEL:052-809-1723 email:[email protected] 10µm パターン例
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