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TruMicro:
TruMicro :
小物部品の
加工に
最適
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TruMicro 3040
TruMicro 3140
TruMicro 5050
TruMicro 7050
レーザ発振器
波長
平均出力
ビーム品質
1,047 nm
40 W
M2 < 1.3
1,064 nm
40 W
M2 < 1.3
1,030 nm
50 W
M2 < 1.3
1,030 nm
> 500 W
M2 < 13 (LLK 01)1
偏光
パルス幅
パルスエネルギー
繰り返し周波数
消費量
最大電力消費
18 °C での最大冷却水消費量
冷却水温度範囲
直線: > 100:1
25 – 120 ns
< 4 mJ
8 – 70 kHz
1.9 kW
0.3 m3/h
6 – 18 °C
直線: > 100:1
15 – 80 ns
< 1.5 mJ
20 – 200 kHz
1.9 kW
0.3 m3/h
6 – 18 °C
寸法
レーザヘッド
幅
240 mm
240 mm
高さ
350 mm
350 mm
奥行き
604 mm
604 mm
供給装置
幅
高さ
奥行き
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650 mm
1,150 mm
1,210 mm
650 mm
1,150 mm
1,210 mm
直線: > 100:1
< 10 ps
< 0.25 mJ
200 kHz
2 kW
0.3 m3/h
6 – 18 °C
~ 1 µs
< 40 mJ
5 – 20 kHz
5 kW
0.9 m3/h
5 – 20 °C
ご要望に応じて
650 mm
1,150 mm
1,210 mm
1,460 2 mm
1,350 2 mm
730 2 mm
1
2
光ファイバ径：100 μm
供給装置とレーザ発振器をひとつ
のキャビネットに格納。
縮尺： 300 µm
セラミック材料に開けたドリル穴。
穴に差し込まれているのは人の頭髪です。
レーザによるソーラセルのエッジアイソレーション
TruMicro 3000 シリーズ：
小さなものを精密に加工
TruMicro 3000 シリーズの代表的な用途は、金属、半導体、セラミッ
れます。励起出力が一定なので、外部モジュレータ式レーザではい
クのスクライビングと穴あけ、薄膜除去、エングレービングと切断で
わゆる「初期パルスの問題」がありません。このため、スキャナまた
す。光電分野では、このレーザを使用してエッジの絶縁加工や、結晶
は固定加工ヘッドを使用しているかどうかに関係なく、高品質で高精
ソーラセルの穴あけを行うことができます。
度、再現性の高い加工結果が得られます。
TruMicro 3000 シリーズレーザの基本コンセプトは、一定の励起出
力でのQ スイッチレーザ発振です。これにより、最大のパルスエネル
ギーとビーム安定パラメータが保証されます。外部モジュレータによ
り共振器の外でパルスエネルギーを精密にスイッチングしたり、パル
ス出力を低下させたりします。それにより、選択したシステム出力レ
ベルに関係なく、大きな安定性と同心状の一定のビーム形状が得ら
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縮尺： 300 µm
非鉄金属の表面除去。二次加工は必要ありません。
パルス幅がピコ秒オーダーのパルスによりコールド加工でマッチ棒の頭に書き
込んだ文字
TruMicro 5000 シリーズ：
短い上にも短く
TruMicro 7000 シリーズ：
短く、生産性は高い
TruMicro 5000 シリーズレーザは加工時の機械的、熱的な変化が許
TruMicro 7000 シリーズレーザはQ スイッチディスクレーザに基づい
容されない材料、たとえば、微小クラックやバリ、付着物などの形成
ています。パルス幅はミリ秒オーダー、レーザ出力は500 W を超え、
が許されず、二次加工が行えない材料の加工に適しています。
材料の表面除去にこのレーザを使用すると非常に高い生産性が実現
されます。ショートパルスレーザとしては異例の高出力により、大きな
TruMicro 5050 はパルス幅がピコ秒オーダーのダイオード励起式
レイヤでも短時間で除去することができます。
ディスクレーザを採用しています。平均出力が 50 W、パルス繰り返
し周波数が 200 kHz、パルス幅が 10 ピコ秒未満で、材料を効率的
Tr u M i c r o 7 0 0 0 シリーズは製造設備への組み込みに最適で
に加工します。レーザ光は回折限界に近く、真円度は95%を超えま
す。TruMicro 7000 のレーザ発振器と電源装置はコンパクトに一体
す。TruMicro 3000 シリーズ同様、外部モジュレータによりパルス幅
化され、レーザ光はフレキシブルな光ファイバケーブルにより加工ヘッ
がピコ秒オーダーのパルスを精密にスイッチングしたり、出力を低下
ドに伝搬されます。
させたりします。
焦点前のビーム形状
焦点位置のビーム形状
焦点後のビーム形状
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