半導体製造用特殊ガス

半導体製造用特殊ガス
半導体、液晶パネル、LED、太陽電池などを製造する工程で使用される高純度の特殊ガスを
提供しています。業界のフロンティアとして、No.1の品揃えと安定供給を実現しています。
特殊ガスの量産技術（多品種・高品質・安定供給・低コスト）
●NH 3：低消費電力GaN系
青色LED製造用
●最先端Si半導体（LSI/メモリ）製造用
●腐食性ガス充填容器（内面特殊コーティング）
HBr：poyl-Siの高精度エッチング
（高アスペクト比・高選択性）
C4F6：SiO2のエッチング
高品質を長期間保持し、お客様に安心して安全
にお使い頂けるよう、当社独自技術を詰め込ん
でいます
水分濃度を極限（＜0.1volppm）
まで低減
⇒超高輝度&高効率＆高歩留まり
の実現に貢献しています
●H2Se：高効率CIGS系太陽電池製造用
当社半導体製造用特殊ガス製品群
半導体プロセス
C2F6
CH3F
C4F6
C3F8
CH2F2
HBr
太陽電池プロセス
H2Se
SiF4
F2
SF6
N2O
C4F8
BCl3
HF
NF3
Cl2
CHF3
●N2O：高精細ディスプレイ
（IGZO/LTPS）製造用
CF4
NH3
液晶プロセス
HCl
LEDプロセス
プラズマCVDプロセスに
より酸化膜を形成します
光ファイバー
プロセス
成膜装置のクリーニング
（ガスによるドライ洗浄・高選択性）技術
アジア全域をカバーする
物流網・現地生産・直販体制
東長原
（福島）
川崎
（神奈川）
特殊ガス製造
（日本国内主要拠点）
徳山
（山口）
ソウル
（韓国）
高純度Cl2,N2O製造
上海
（中国）
高純度C4F8製造
70μm
SiCコート
装置内材料表面
250μm
SiCデポ
70μm
SiCコート
装置内材料表面
70μm
SiCコート
装置内材料表面
70μm
SiCコート
装置内材料表面
装置内材料表面
反応性ガスによるドライクリーニング
⇒設備・配管の開放&マニュアル洗浄不要
（セルフクリーニング）
となり生産効率向上
杭州
（中国）
高純度NH3製造
台北
（台湾）
台南
（台湾）
高純度NH3, Cl2製造
シンガポール
特殊ガス量産プラント
新規特殊ガスの試作･量産、新規プロセス開発に
関するご要望は、昭和電工にご相談下さい。

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