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Fresh
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Program
50
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(Ta/Nb)Ox
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"
#
Voltage (V)
Al2O3
P-Si
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Anatase-TiO2
30
20
(Ta/Nb)Ox HfAlO
10
0
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HfO2C)
Target
Al2O3
k- value
Capacitance (PF/cm2)
䝏䝱䞊䝆䝖䝷䝑䝥䝯䝰䝸
HfSiO
HfO2a) HfO2
b)
Al2O3
a) Amorphous, b) Monoclinic, c) Cubic
0
200
400
600
800
1000 1200
Process temperature (ºC)
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㻌 㻌T. Nabatame et al., J. Vac. Sci. Technol. B 32 (2014) 03D121-1.
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E-mail : NABATAME.Toshihide䖃nims.go.jp
URL : http://www.nims.go.jp/nfs/2dnano㻌 㻌 㻌 㻌 㻌 㻌 㻌 㻌
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