PDF 597KB

【薄膜・めっき】
薄膜FP法による膜厚測定
●はじめに
部品に耐食性・装飾性・機能性を持たせるため、めっきなどの表面処理は広く行われています。
これらの成膜の厚さは製品の特性や品質、生産コストにもかかわるので管理が重要であり、
様々な測定・分析・評価が行われています。
蛍光Ｘ線分析装置は、非破壊で標準試料なしに最大5層まで膜厚測定が可能です。
●各種標準試料の測定例
Auメッキ
サンプル
スペクトル
分析結果
AuLa1
1.0
0.9
0.8
分析結果（μm）
認証値（μm）
2.06
1.99
0.7
0.0
0.00
AuLr3
5.00
10.00
15.00
RhKbCOM
RhKb1
0.1
RhKaCOM
RhLb1
0.2
AuLr1
管電圧：50 kV
コリメータ径：0.9 mmφ
雰囲気：大気
測定時間：60 秒
FeKa
0.3
AuMa
0.4
FeKb1
RhLa1
0.5
RhKa
AuLb1
CPS[x1.E+3]
測定条件
0.6
20.00
エネルギー分散型蛍光Ｘ線分析装置
Key Word: ED-XRF, 薄膜, めっき, 薄膜FP法
XRF
Application
inSpirAtion：XRF-14-008j-01
装置：JSX-1000S
25.00
keV
Niメッキ
サンプル
スペクトル
分析結果
1.6
NiKa
1.4
分析結果（μm）
認証値（μm）
1.10
0.99
1.0
0.8
0.6
NiKb1
測定条件
CPS[x1.E+3]
1.2
0.4
管電圧：50 kV
コリメータ径：0.9 mmφ
雰囲気：大気
測定時間：60 秒
0.2
0.0
0.00
20.00
15.00
10.00
5.00
25.00
keV
Znメッキ
サンプル
スペクトル
分析結果
2.0
1.8
1.2
2.61
1.0
0.8
0.6
管電圧：50 kV
コリメータ径：0.9 mmφ
雰囲気：大気
測定時間：60 秒
2.81
ZnKb1
CPS[x1.E+3]
1.4
0.4
0.2
0.0
0.00
5.00
10.00
15.00
20.00
25.00
keV
Agメッキ
サンプル
スペクトル
分析結果
500.0
450.0
350.0
分析結果（μm）
認証値（μm）
8.89
8.97
AgLa1
400.0
100.0
50.0
0.0
0.00
SKa
管電圧：50 kV
コリメータ径：0.9 mmφ
雰囲気：大気
測定時間：60 秒
5.00
AgKb1
150.0
AgKa
FeKa
200.0
FeKb1
測定条件
250.0
CrKaMnKaCrKb1
CPS
300.0
10.00
15.00
20.00
25.00
30.00
35.00
keV
蛍光X線分析装置の情報は下記QRコードから取得できます．
◆装置特徴 ⇒
◆アプリケーション ⇒
http://www.jeol.co.jp
Breaking technology news
測定条件
認証値（μm）
ZnKa
1.6
分析結果（μm）

Download Report