平成２６年４月１日 設定 「ナノテクノロジープラットフォーム事業」 「ナノテクノロジープラットフォーム事業」 の対象となる場合 の対象外となる場合 装置番号 施設名称 設置場所 装置分類 NPF001 NPF002 NPF003 NPF004 NPF005 NPF006 NPF007 NPF008 NPF009 NPF010 NPF011 NPF012 NPF013 NPF014 NPF015 NPF016 NPF017 NPF018 NPF019 NPF020 NPF021 NPF022 NPF023 NPF024 NPF025 NPF026 NPF027 NPF028 NPF029 NPF030 NPF031 NPF032 NPF033 NPF034 NPF035 NPF036 NPF037 NPF038 NPF039 NPF040 NPF041 NPF042 NPF043 NPF044 NPF045 NPF046 NPF047 NPF048 NPF049 NPF050 NPF051 NPF052 NPF053 NPF054 NPF055 NPF056 NPF057 NPF058 NPF059 NPF060 NPF061 NPF062 NPF063 NPF064 NPF065 NPF066 NPF067 NPF068 NPF069 NPF070 NPF071 NPF072 NPF073 NPF074 NPF075 電子ビーム描画装置 電子線描画装置 イオンコーター 高分解能電界放出電子顕微鏡(FE-SEM) 低真空走査電子顕微鏡 マスクレス露光装置 マスクレス任意パターン転写装置 スピンコーター コンタクトマスクアライナー[MJB4] マスクアライメント露光装置 i線露光装置 ドラフトチャンバー（右） ドラフトチャンバー（左） 有機ドラフトチャンバー 酸アルカリドラフトチャンバー スターラーウォーターバス[SWB-10L-1] スマートウォーターバス[TB-1N] 反応性イオンエッチング装置 (RIE) 多目的エッチング装置 酸化物エッチング装置 プラズマアッシャー UVクリーナー 真空蒸着装置 小型真空蒸着装置 スパッタ装置 RF・DCスパッタ装置 ECRスパッタリング装置 多元同時スパッタ装置 メッキ装置 プラズマCVD装置 原子層堆積装置[FlexAL] 原子層堆積装置ミリング機能 アルゴンミリング装置 集束イオンビーム加工観察装置(FIB) イオンスパッタ(FIB付帯装置) FIB-SEM イオン注入装置[IW-630] 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) オゾンクリーナー 高速昇降温炉(RTA) ウェハー酸化炉 クリーンオーブン右 クリーンオーブン左 マッフル炉 触針式段差計 走査プローブ顕微鏡1(SPM1)[NanoscopeⅣ/Dimension3100] 走査プローブ顕微鏡2(SPM2)[SPM-9600/9700] ナノサーチ顕微鏡(SPM3)[SFT-3500] ナノプローバ[N-6000SS] 四探針プローブ抵抗測定装置 デバイスパラメータ評価装置 デバイス容量評価装置 ワイヤーボンダー ダイシングソー スクライバー 研磨機 ラッピングマシン(CMP) ウェハー圧着機 レーザー顕微鏡 短波長レーザー顕微鏡[VK-9700] 短波長レーザー顕微鏡[OLS-4100] 全焦点顕微鏡 分光エリプソメータ 解析用PC(分光エリプソメータ用) 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN) 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR) 解析用PC(CADおよびSPM， FT-IR， Raman用) 磁気特性測定システム(MPMS) 熱刺激電流（TSC）測定装置 X線回折装置(XRD) 薄膜エックス線回折装置 微小部蛍光X線分析装置 解析用PC(CADおよびX線用) エックス線光電子分光分析(XPS)装置 解析用PC(XPS用） CR2 イエロールーム CR2 イエロールーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR2 イエロールーム CR2 イエロールーム CR2 イエロールーム CR2 イエロールーム CR2 イエロールーム CR3 イエロールーム CR2 イエロールーム CR2 イエロールーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR2 イエロールーム CR1 クリーンルーム CR5 クリーンルーム 2F 一般実験室 CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR5 クリーンルーム CR5 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム 2F 一般実験室 CR5 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR5 クリーンルーム CR5 クリーンルーム CR5 クリーンルーム CR5 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム 1F 一般実験室 2F 一般実験室 2F 一般実験室 CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR2 イエロールーム CR2 イエロールーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR4 クリーンルーム CR4 クリーンルーム CR4 クリーンルーム CR4 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム 2F データ解析室 CR1 クリーンルーム CR1 クリーンルーム 2F データ解析室 2F 一般実験室 2F 一般実験室 2F 一般実験室 2F 一般実験室 CR1 クリーンルーム 2F データ解析室 2F 一般実験室 2F データ解析室 リソグラフィー装置 リソグラフィー装置 表面処理装置 観察装置 観察装置 リソグラフィー装置 リソグラフィー装置 リソグラフィー装置 リソグラフィー装置 リソグラフィー装置 リソグラフィー装置 リソグラフィー装置 リソグラフィー装置 ウェット処理装置 ウェット処理装置 ウェット処理装置 リソグラフィー装置 エッチング装置 エッチング装置 エッチング装置 表面処理装置 表面処理装置 成膜装置 成膜装置 成膜装置 成膜装置 成膜装置 成膜装置 成膜装置 成膜装置 成膜装置 ミリング装置 ミリング装置 イオンビーム装置 表面処理装置 イオンビーム装置 イオンビーム装置 イオンビーム装置 表面処理装置 熱処理装置 熱処理装置 熱処理装置 熱処理装置 熱処理装置 プローブ装置 プローブ装置 プローブ装置 プローブ装置 プローブ装置 測定装置 測定装置 測定装置 加工装置 加工装置 加工装置 加工装置 加工装置 加工装置 観察装置 観察装置 観察装置 観察装置 分光装置 分光装置 分光装置 分光装置 分光装置 測定装置 測定装置 エックス線装置 エックス線装置 エックス線装置 エックス線装置 エックス線装置 エックス線装置 装置番号：NPFで装置管理のために使用している番号 設置場所：装置が設置してある部屋 装置分類：装置の利用目的や原理に応じて分類された区分 ※この単価表に記載した金額に消費税等は含まれておりません。 1/1 共用施設等 使用料 運転等 人件費 （円/時間） （円/時間） 2,300 1,300 400 2,200 1,400 4,200 700 400 600 900 7,900 400 400 400 600 400 400 1,300 4,200 4,200 600 400 2,500 1,000 1,200 2,100 3,000 2,100 1,000 2,100 2,200 1,200 1,200 4,300 400 5,300 7,600 3,500 400 1,100 900 400 400 500 400 1,300 1,300 1,700 3,200 400 900 500 600 1,800 400 400 1,200 400 600 800 1,000 600 600 400 2,100 800 400 800 900 1,500 1,500 700 400 1,200 400 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 技術指導等 共用施設等 人件費 使用料 （円/時間） 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 500 （円/時間） 5,400 3,400 1,600 5,200 3,600 9,200 2,200 1,600 2,000 2,600 16,600 1,600 1,600 1,600 2,000 1,600 1,600 3,400 9,200 9,200 2,000 1,600 5,800 2,800 3,200 5,000 6,800 5,000 2,800 5,000 5,200 3,200 3,200 9,400 1,600 11,400 16,000 7,800 1,600 3,000 2,600 1,600 1,600 1,800 1,600 3,400 3,400 4,200 7,200 1,600 2,600 1,800 2,000 4,400 1,600 1,600 3,200 1,600 2,000 2,400 2,800 2,000 2,000 1,600 5,000 2,400 1,600 2,400 2,600 3,800 3,800 2,200 1,600 3,200 1,600 運転等 人件費 技術指導等 人件費 （円/時間） （円/時間） 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200 1,200
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