低周波低温大気圧プラズマジェットによる殺菌作用の歯科応用

Discharge Plasma & Laser Laboratory, College of Science & Technology, Nihon University
フレッシュプラズマにおける
酵母菌の殺菌
Discharge Plasma & Laser Laboratory, College of Science & Technology, Nihon University
1.背景
誘導結合プラズマ・容量結合プラズマなどの
人工的なプラズマ→エッチング・殺菌
医療分野への応用
紫外光殺菌・μ波殺菌 人体に影響あり
人体に無害な
フレッシュプラズマに注目
Discharge Plasma & Laser Laboratory, College of Science & Technology, Nihon University
フレッシュプラズマの発生原理
He gas
Discharge
誘電体バリア放電
Dielectric
barrier
AC H.V
大きな電流が流れない
↓
ガス温度を抑えられる
↓
Electrode
直接触れることが可能
He gas
+
Air
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原理
He gas
Discharge
Dielectric フレッシュプラズマの利点
barrier ガス温度を抑制できる
大気圧中で直接触れることが可能
Heガスが媒体なので人体に無害
装置がシンプルかつ小型
AC H.V
Electrode
He gas
+
Air
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目的
フレッシュプラズマによる口腔内の殺菌
今回の目的
殺菌効果を確認するため
フレッシュプラズマによる酵母菌の殺菌
酵母菌は
熱・乾燥に強い
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2.実験方法
He gas 3 [l/min]
酵母菌 濃度
Heガス 純度
Heガス 流量
照射距離
周波数
印加電圧
1.00[%]
99.995[%]
3[l/min]
30.0[mm]
10[kHz]
4,5,6,7,8,9,10[kV]
照射時間
0,10,20,30,40,50,60,
90,120,180[sec]
30.0[mm]
Fresh
Plasma
Pulse
Trance
10 [kHz]
30.0[mm]
DC 24[V]
Yeast fungus
フレッシュプラズマ照射後
ラマン分光法、メチレンブルー染色法にて殺菌状況を確認
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3.結果
強度[a.u.]
C=C伸縮振動及びタンパク質
C=C伸縮振動及びタンパク質
生細胞の代謝活性
生細胞の代謝活性
CH変角振動
シトクロム類のC=C伸縮振動
シトクロム類のC=C伸縮振動
CH変角振動
1400
1500
-1
1600
強度[a.u.]
ラマンスペクトル
1700 1400
1500
-1
波長[cm ]
波長[cm ]
照射前
照射後
1600
1700
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3.結果
生細胞の代謝活性
強度[a.u.]
強度[a.u.]
―
ラマンスペクトル
1400
1500
1600
-1
波長[cm ]
1700 1400
照射前
1500
1600
-1
波長[cm ]
照射後
生細胞の減少
1700
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メチレンブルー染色法
照射前
白色;生細胞 青色;死細胞
印加電圧[kV]
25[μm]
2.5[μm]
照射後
酵母菌生存率[%]
4
100
5
6
7
8
9
プラズマ照射時間
印加電圧
80
60
40
20
25[μm]
0
0
50
100
プラズマ照射時間[sec]
150
10
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4.まとめ
印加電圧の上昇、プラズマ照射時間の増加によって
殺菌効果は高くなった。
→電流値の上昇、電荷量の増加の影響
酵母菌の殺菌には
豊富なプラズマ量が必要であることが考えられる