6月24日（水） Room C (Room 303) 日本語シンポジウム: ポリイミド及び高温耐熱樹脂-機能化と応用 10:00-11:00 座長：茨城大森川敦司，岡山大内田哲也 B1-01 トリアジン含有芳香族ポリイミドの合成と特性岩手大工，齋藤友，佐々木茂子，芝崎祐二，○大石好行 B1-02 新規フェノール樹脂，ポリベンゾオキサジンを原料とする炭素化フィルムの特性豊橋技科大院環境，高橋吉騎，○大沢翼，柴山裕二，松本明彦，竹市力 B1-03 ゴム変性ポリベンゾオキサジンの合成と特性豊橋技科大院環境，デュイ・ゲスティ・スイタニング，勝田盛三郎，河内岳大，○ 竹市力 11:00-11:40 座長：岩手大大石好行，産総研尹成圓 B1-04 イミド変成ベンゾオキサジンの合成と硬化樹脂の特性豊橋技科大院環境，永田龍也，黒蕨幸作，河内岳大，松本明彦，○竹市力 B1-05 ゾルーゲル法によるポリイミド－シリカハイブリッドを絶縁層にもつエナメル線茨城大工，日立電線*，森川敦司，鈴木和則*，浅野健次* 11:40-12:20 座長：豊橋技科大竹市力，首都大川上浩良 B1-06 UV 表面処理法と無電解めっき技術を用いたポリイミド表面の選択的銅パターニング技術産総研集積マイクロシステム研，尹成圓，鈴木健太，朴相天，高木秀樹，廣島洋，前田龍太郎 B1-07 高空隙率・高耐熱性剛直高分子三次元架橋体フィルムの新規作製法の開発とその物性岡山大院自然，内田哲也，池田稜，鈴木友章，中山遼太郎 12:20-13:20 昼食休憩 13:20-14:20 座長：横浜国大大山俊幸，東レ富川真佐夫基調講演 B1-08 高放熱絶縁材料開発とパワーモジュールへの適用三菱電機先端技術総研，三村研史，中村由利絵，正木元基，西村隆 14:20-15:20 座長：久留米高専津田祐輔，旭化成古賀壽子 B1-09 ポリイミドダイヤフラムマイクロポンプ機構を有するバイオ燃料電池の基礎検討日大理工，石田拓真，福士雄大，西岡泰城 B1-10 スルホン化芳香族高分子／ポリベンズイミダゾールナノファイバーからなる新規高分子形電解質膜の燃料電池特性首都大都市環境，劉冬，田中学，○川上浩良 B1-11 ハイパーブランチポリエーテルケトンとカーボンのハイブリッド材料による固体触媒反応東工大院理工，難波江裕太，史穎，早川晃鏡，柿本雅明 15:20-15:30 休憩 15:30-16:30 座長：東工大難波江裕太，日立化成デュッポンマイクロ大江匡之 B1-12 不飽和長鎖アルキル基を有する紫外線照射濡れ性制御ポリイミド久留米高専，津田祐輔，志岐亮輔 B1-13 高透明感光性耐熱樹脂の屈折率制御旭化成イーマテリアルズ，古賀尋子，松田治美，小泉英夫 B1-14 側鎖にo-ニトロベンジル基を有するポリイミドの光極性変化神奈川大工，石田良仁，川辺優也，亀山敦 16:30-17:10 座長：神奈川大亀山敦，日立化成満倉一行 B1-15 超低弾性率感光性ポリベンゾオキサゾール（７）東邦大理，石井淳一，横塚英征，加藤亜由美，長谷川匡俊 B1-16 Low Stress, High Modulus, Photosensitive Polyimide 日立化成デュポンマイクロ，高橋寛子，鈴木越晴，鈴木ケイ子，大江匤之 17:10-17:50 座長：東邦大石井淳一，JSR 多田羅了嗣 B1-17 ジアゾナフトキノン構造を導入したポリアリレートの反応現像画像形成への利用横浜国大院機能発現，大山俊幸，嶋田望，高橋昭雄 B1-18 感光性ウェハレベルアンダーフィルの開発と実装評価日立化成筑波研1，日立化成先進材料事業部2，IMEC3，満倉一行1，税所亮太1，牧野竜也1，畠山恵一2，峯岸和典1，Teng Wang3, Robert Dairy3, Fabrice Duval3, Kenneth June Rebibis3, Andy Miller3 and Eric Beyne3 17:50-18:10 座長：横浜国大大山俊幸，東レ富川真佐夫 B1-19 新規フレキシブルユニット含有ポリマーを特徴とする高信頼性絶縁膜の開発 JSR精密電子研，多田羅了嗣，石川英史，根本哲也，岡本健司，楠本士朗 18:00-20:00 ＊パネルシンポジウム（英語）＊ “Advanced Patterning Materials and Processes: Opportunities in Sub-10nm Half Pitch Patterning and beyond” 6月25日（木） Room D (Room 304) 日本語シンポジウム：プラズマ光化学と高分子表面機能化 9:30-12:00 座長：埼玉工大矢嶋龍彦，岡山理大中谷達行 B2-01 プラズマケミカルインジケータの変色におけるイオンと電子の作用近畿大院工1，サクラクレパス2，○佐多平恒成1，井原辰彦1，大城盛作2，中村慶子2，伊藤征司郎2 B2-02 プラズマグラフト重合法を用いた水蒸気透過膜の開発東工大1，神奈川科技2，○大橋秀伯1，奥田龍太朗1，黒木秀記2,1，山口猛央1,2 B2-03 In-situ UV Absorption Spectroscopy for Detecting of Atmospheric-Pressure Plasma Generated Reactive Species Permeated Agarose Film 高知工科大1，Univ. South Australia2，Wound Management Innovation Cooperative Res. Center3，Jun-Seok Oh1, Endre J. Szili2,3, Sung-Ha Hong2,3, Robert D. Short2,3, and Akimitsu Hatta1 B2-04 プラズマおよび紫外光照射による植物の成長促進効果とそのメカニズム九大院総理工1，九大院農2，(株)セルイノベーター3，○林信哉1，小野大帝1，田代康介2，久原哲2，萩原央子3，安田香央里3 B2-13 プラズマ前処理したポリテトラフルオロエチレン板へのメタクリル酸の光グラフト重合と接着性の向上日大生産工，城真里枝，木村悠二，山田和典 12:00-13:00 昼食休憩 13:00-15:00 座長：静岡大院工永津雅章，岐阜薬大近藤伸一 B2-05 大気圧マイクロ波プラズマにより酸窒化されたチタン基板上で疑似体液から生成するアパタイトのＸ線電子分光埼玉工大，○白金成，矢嶋龍彦 B2-06 大気圧プラズマジェットによるメタクリル酸メチルの重合反応日本大学生産工学部応用分子化学科，○岡田昌樹，松田滉平，佐藤敏幸，山田和典，松田清美，日秋俊彦 B2-07 大気圧B2H6/Heプラズマによるテフロンの脱フッ素処理上智大学1，エア・ウォーター総研2，○古瀬貴一1，澤田康志2，高橋和夫1，小駒益弘1，田中邦翁1 B2-08 カソーディックアークプラズマを用いた歯科インプラント用ta-C:H薄膜の開発岡山理大工1，岡山工技セ2，○中谷達行1，白石航太郎1，國次真輔2 15:00-15:15 休憩 15:15-17:15 座長：近畿大工井原辰彦，東工大大橋秀伯 B2-09 プラズマ遺伝子導入における細胞帯電効果のリポソームを用いた検証愛媛大1，パール工業2，大阪電通大3，(株)Y's4，○本村英樹1，池田善久1，木戸祐吾1,2，橘邦英2，佐藤晋1,4，神野雅文1 B2-10 Dynamic Behavior of Capillary Atmospheric Pressure Plasma Jet during Surface Modification of Polymer Surface 静大創造科技院1，インドネシア大2，静大院工3 ○Tomy Abuzairi 1,2，岡田充3， Sudeep Bhattacharjee4，Retno W. Purnamaningsih2，Nji R. Pospawati2，永津雅章1,3 B2-11 プラズマにより構築したリン脂質膜上での固定化分子間の相互作用岐阜薬大1，松山大薬2，中部学院大3，○近藤伸一1，鈴木雅子1，笹井泰志1，山内行玄2，葛谷昌之3 B2-12 アンモニア‐水プラズマによるポリテトラフルオロエチレン表面の超親水化埼玉工大，海文峰1，程飛1，清水敬太2，○矢嶋龍彦1,2 18:30-20:30 Conference Banquet at Room E(Room 103, 1F) 6月25日（木） Room C (Room 303) 日本語シンポジウム：光機能性デバイス材料 9:30-10:30 座長：高分子学会フェロー長谷川悦雄，東芝木原尚子 B3-01 紫外線照射濡れ性制御ポリイミドにおける光酸発生剤の効果久留米高専，津田祐輔，田平みずき，篠原夏美，坂田大地 B3-02 高分子安定化技術を用いたノーマル・リバース両モードの光学特性を有する液晶素子秋田大院資源，山口留美子，後藤広一郎，櫻井慎太郎，常暁君，友野孝夫 B3-03 高分子安定化強誘電性液晶における2 成分系モノマーによる高分子安定化力の制御東京理科大基礎工，ジャパンディスプレイ*，古江広和，長谷川敦，宿岡真，佐々木仁，岡真一郎*，小村真一* 10:30-11:50 座長：NIMS 安田剛，高分子学会フェロー長谷川悦雄 B3-04 ナノ構造を用いた有機ＥＬ素子の高効率光取出し技術の開発パナソニックエコソリューションズ社，松崎純平，山江和幸 B3-05 次世代照明に向けた高効率白色OLED デバイスの開発コニカミノルタアドバンストレイヤー事業本部，加藤一樹，岩崎利彦，辻村隆俊 B3-06 Key Materials for Highly Stable Phosphorescent Organic Light-Emitting Diodes with Reduced Amount of Emitter NHK技研，Hirohiko Fukagawa B3-07 スピンコート法またはブレードコート法により作製した有機EL 特性比較山形大院理工，田昌和，大久哲，夫勇進，千葉貴之，城戸淳二 11:50-13:00 昼食休憩 13:00-13:40 座長高分子学会フェロー長谷川悦雄，東芝木原尚子基調講演 B3-08 印刷電子デバイスを目指したカーボンナノチューブTFT の開発 NECスマートエネルギー研，遠藤浩幸 13:40-15:00 座長 NEC 遠藤浩幸，東芝木原尚子 B3-09 塗布酸化物半導体トランジスタの低温作製における焼成プロセス依存性の検討産総研フレキシブルエレクトロニクス研，鄭恵貞，小倉晋太郎，福田伸子，吉田学，牛島洋史，植村聖 B3-10 銀ナノワイヤを用いたストレッチャブル電極の製作とバイオ燃料電池への応用日大理工，藤曲裕輔，福士雄大，西岡泰城 B3-11 三座配位子からなる新規メタロ超分子ポリマーの開発とエレクトロクロミック特性評価 NIMS電子機能材料グループ1，JST-CREST2 金尾美樹1,2, 樋口昌芳1,2 B3-12 ポリ乳酸ファイバー膜の圧電的挙動と温度特性評価産総研フレキシブルエレクトロニクス研1，豊橋技科大2，北陸先端科技大3，延島大樹1,石井佑弥2, 酒井平祐3, 植村聖1, 吉田学1 15:00-15:10 休憩 15:10-16:10 座長：愛知工大森竜雄，高分子学会フェロー長谷川悦雄 B3-13 トリフェニルアミン系アモルファスポリマー及び非ハロゲン溶媒を用いた高信頼性バルクヘテロ接合型太陽電池の作製物質研，久留米高専*，安田剛，草垣祐太郎，北原いくみ，韓礼元, 石井努* B3-14 PTB7, PC61BM, PC71BM 三元系有機バルクヘテロ有機太陽電池の研究日大理工，邱佳宇，切石晧大，橋場康成，西岡泰城 B3-15 Bulk-Heterojunction Organic Solar Cells based on Benzobisthiadiazole Semiconducting Polymers Tokyo Inst. Technol., Univ. Melbourne*, Yang Wang, Michael F. G. Klein*, Junya Hiroshi, Susumu Kawauchi, Wallace W. H. Wong* and Tsuyoshi Michinobu, Tokyo Inst. Technol., Univ. Melbourne* 16:10-17:50 座長：東芝，木原尚子，高分子学会フェロー，長谷川悦雄 B3-16 陽極通電ジュール熱による熱処理を用いたポリチオフェン:フラーレン誘導体薄膜太陽電池の特性愛知工大工1，名大院工2，森竜雄1,2，内藤憲樹2 B3-17 楕円体TiO2を光活性電極に用いた色素増感太陽電池東海大院工，東海大院理*，関彩希江，下山夕貴，菊池貴寛*，富田恒之*，功刀義人 B3-18 水溶性TiO2インクの開発とインクジェットプリンターでのパターニング東海大院工，加藤芳尭, 植松弘哉, 下山夕貴, 功刀義人 B3-19 新規な感光性低線膨張係数材料の開発 JSR先端材料研，土井貴史，宇野高明，西村功，林英治 B3-20 マイクロ流路デバイス製作のための感光性接着剤 JSR先端材料研，JSR Micro*，窪寛仁，土井貴史，西村功，林英治，稗田克彦， Sara Peters*, Ruben Vanroosbroeck* 18:30-20:30 Conference Banquet at Room E(Room 103, 1F) 6月26日（金） Room C (Room 303) 日本語シンポジウム: 一般講演 9:40-10:40 座長：東京電機大堀内敏行，大阪市大堀邊英夫 B4-01 オリゴラダーフェニルシルセスキオキサン感光性組成物の特性北陸先端科技大1，メルクパーフォーマンスマテリアル2 田代裕治1,2，宮里朗夫1，海老谷幸喜1 B4-02 希土類錯体を含む発光性ポリマーの光分解過程解析北大院工片岡央尚，大曲駿，中西貴之，長谷川靖哉 B4-03 キラル分子で終端された発光性シリコンナノ粒子北大院総合科学1，北大院工2，京大院工3，宮野真理1，中西貴之2，和田智志1，北川裕一2，伏見公志2，森崎泰弘3，中條善樹3，長谷川靖哉2 10:40-10:50 休憩 10:50-12:10 座長：大阪市大，堀邊英夫，大阪工大，神村共住 B4-05 ポリエチレンを基板とした光電変換色素固定薄膜型人工網膜の構造と光誘起表面電位岡山大院自然科学，内田哲也，新田誠，金嶋祥子 B4-06 光解離性高分子を固定化したタンパク質担持金ナノ粒子の開発と評価神奈川大院理1，MANA2，神奈川大院光機能3 山本翔太1，中西淳2，山口和夫1,3 B4-07 回転走査投影露光による小径パイプ表面へのリソグラフィー東京電機大機械，堀内敏行，藤井勇人，安永かほり B4-15 Controlled Polymerization of Electron-deficient Naphthalene-diimide Containing Monomer by Negishi-type Catalyst-transfer Polymerization Eisuke Goto, Hideharu Mori, Mitsui Ueda and Tomoya Higashihara, Yamagata Univ. 12:10-13:10 昼食休憩シンポジウム：レジスト除去技術 13:10-15:00 座長：大阪市大，堀邊英夫，香川高専，山本雅史 B4-08 極低温粒子噴霧を用いた環境調和型レジストはく離システムの開発（招待講演30 分）東北大流体科学研，大阪市大院工* 石本淳，堀邊英夫* B4-09 水蒸気二流体ジェットを用いたレジストの金属薄膜除去（招待講演30分）静岡大院総合科学，北大院工*，真田俊之，渡部正夫* B4-10 オゾンマイクロバブルによるフォトレジストの除去（招待講演30分）産総研1，大阪市大院工2，オプトクリエーション3，高橋正好1，堀邊英夫2，松浦昂平2，田寺克己3 B4-11 オゾンマイクロバブル水によるレジスト用ポリマーの分解大阪市大院工1，香川高専2，産総研3，岩谷産業4，松浦昂平1，西山聖1，佐藤絵理子1，山本雅史2，高橋正好3，小池国彦4，堀邊英夫1 15:00-15:10 休憩 15:10-16:30 座長：大阪市大堀邊英夫，産総研高橋正好 B4-12 減圧環境下で生成した原子状水素によるレジスト除去速度の向上香川高専1，静大院工2，JST CREST3，北陸先端科技大4，大阪市大院工5 山本雅史1，梅本宏信2, 3，大平圭介4，長岡史郎1，鹿間共一1，西山聖5，堀邊英夫5 B4-13 レーザー照射を用いたレジスト剥離技術の開発（招待講演30分）大阪工大工，大阪市大院工* 神村共住，黒木雄太，川崎啓太，村上巧磨，原田義之，倉前宏行，西山聖*，堀邊英夫* B4-14 マイクロ波励起水中気泡プラズマによる高速レジストアッシング技術の開発（招待講演30分）金大サステナブルエネルギー研1，金大院自然2，大阪市大院工3 石島達夫1，伊藤卓也2，北野卓也2，田中康規1，上杉喜彦1，西山聖3，堀邊英夫3