開発型プラントのご紹介 小西化学工業株式会社 © KONISHI CHEMICAL IND CO.,LTD. 開発型プラント ☆開発型プラント概要 開発型プラント概要 1.2007年12月完成 鉄骨3階建て 総床面積:約200m2 2.数十~数百Kgの多品種切り替え生産対応プラント 3.対象製品系 ・電子材料用化学品、精密化学品、医薬用中間体等 4.プロセス条件 ・反応系 : 水系、有機溶媒系 ・操作温度 : -10℃~200℃ ・操作圧力 : 常圧~0.9MPa(フルバキューム対応) 5.使用機器材質 ・GL、SUS316L © KONISHI CHEMICAL IND CO.,LTD. 開発型プラント ☆設備設計の考え方 設備設計の考え方 1. 製造施設のクローズド化 2. 製品取り出しゾーン(1FL)のクリーン化(クラス10万相当) 3. 空調システム(HEPAフィルター、陽圧管理、パスルーム設置) 4. 反応-精製ゾーンへのフィルターを通したエアー供給 5. 室内清浄環境の確保 ・床面エポキシコート、化粧ケイカル壁、天井設置 6. 設備切り替え洗浄を配慮した機器・配管設計 7. 装置内部発生異物の防止(軸ドライシール採用) 8. プロセス水としてイオン交換水を採用 © KONISHI CHEMICAL IND CO.,LTD. 開発型プラントレイアウト:立面 反応 ・フィルターを通したエアー供給 ・異物混入、汚染防止 ・前室(搬入・搬出室) 反応・精製 ・フィルターを通したエアー供給 ・異物混入、汚染防止 ・前室(搬入・搬出室) ろ過・乾燥・充填 ・製品取り出しゾーンのクリーン化 (クラス10万相当) ・空調システム、陽圧管理 ・前室(更衣室、搬入・搬出室) © KONISHI CHEMICAL IND CO.,LTD. 開発型プラントレイアウト:立面 反応 ・フィルターを通したエアー供給 ・異物混入、汚染防止 ・前室(搬入・搬出室) 反応・精製 ・フィルターを通したエアー供給 ・異物混入、汚染防止 ・前室(搬入・搬出室) ろ過・乾燥・充填 ・製品取り出しゾーンのクリーン化 (クラス10万相当) 空調システム、陽圧管理 ・前室(更衣室、搬入・搬出室) © KONISHI CHEMICAL IND CO.,LTD. 開発型プラントレイアウト:平面(3F) R-545:1,000LSUS釜 R-515:1,000LGL釜 管理室: 更靴 機材、原材料 R-511:50LGL釜 R-543:200LSUS釜(熱媒) R-533:200LSUS釜 R-512:100LGL釜 © KONISHI CHEMICAL IND CO.,LTD. 開発型プラントレイアウト:平面(2F) ブライン装置 R-534:500LSUS釜 R-516:2,000LGL釜 機械室 前室: 更靴 機材、原材料 熱媒装置 © KONISHI CHEMICAL IND CO.,LTD. 開発型プラントレイアウト:平面(1F) 管理ゾーン:クラス10万相当 S-551:GLろ過機 前室: 更靴/更衣 前室: 機材、包材 製品 D-551:コニカルドライヤ 前室 (人) D-552:棚型乾燥機 © KONISHI CHEMICAL IND CO.,LTD. 開発型プラントレイアウト:平面(1F) © KONISHI CHEMICAL IND CO.,LTD. 開発型プラント設備 ☆高粘度対応設備:フルゾーン翼リアクター 1,000L リアクター 広範囲な 粘度域対応 材質 熱源 モーター動力 Max 50Pa・s対応 ※Re数によって異なります。 液浸変化に 強い 液量が変化しても 変わらない撹拌性能 優れた 伝熱性能 撹拌動力の確保により 優れた伝熱性能 :SUS316L :スチーム、温水、(熱媒オイル) :2.2kW © KONISHI CHEMICAL IND CO.,LTD. 開発型プラント製造設備 ☆主要機器 材質 容量 温度 圧力 R-511 GL 50L -5~158℃ FV~0.19MPa R-512 GL 100L -5~150℃ FV~0.19MPa R-515 GL 1,000L -5~150℃ FV~0.19MPa R-516 GL 2,000L -5~150℃ FV~0.19MPa R-533 SUS316L 200L -5~150℃ FV~0.19MPa R-543 SUS316L 200L 290℃ FV~0.95MPa R-534 SUS316L 500L -5~150℃ FV~0.19MPa R-545 SUS316L 1,000L 200℃ FV~0.19MPa 反応機 © KONISHI CHEMICAL IND CO.,LTD. 開発型プラント製造設備 ☆分離機・乾燥機 材質 能力 温度 GL 濾過面積 0.8㎡ ≦100℃ 真空棚型乾燥機 D-551 SUS304 仕込み最大容量 約250L ≦125℃ コニカルドライヤ D-552 GL 全容量:170L 仕込み最大容量:65L ≦130℃ 分離機 加圧ろ過機 S-551 乾燥機 © KONISHI CHEMICAL IND CO.,LTD. 中間実験室製造設備 ☆水素添加反応用設備 200LGL リアクター 高回転型 最大回転数 225 rpmの 高回転型仕様 PPGグラス製 グラス製 耐アルカリ性20%UP、 触媒付着低減、高視認性 低液量対応 30L以下の液量でも撹拌、 温度測定が可能 インターロック :水素遮断、steam遮断 :室内水素濃度、リアクター内酸素濃度 濃度監視 :フレムアレスター、水中ディップ 逆火防止 © KONISHI CHEMICAL IND CO.,LTD. 中間実験室製造設備 ☆主要機器 材質 容量 温度 圧力 R-301 GL 100L 150℃ 常圧 R-302 GL 500L 150℃ 常圧 R-303 GL 1,000L 120℃ FV~0.19MPa R-304 (水素添加反応用) GL 2,000L 200℃ FV~0.98MPa V-201 SUS316L 2,500L 150℃ FV~0.19MPa 反応機 © KONISHI CHEMICAL IND CO.,LTD. 中間実験室製造設備 ☆分離機 材質 能力 温度 遠心脱水機 S-101 ハードラバーライニング (接液部) Φ760×H330mm ≦80℃ 加圧ろ過機 S-103 GL 濾過面積 0.125㎡ ≦80℃ 多段式ろ過機 S-201 SUS316 濾過面積 0.3㎡ ≦150℃ 加圧ろ過機 S-202 SUS316L 濾過面積 0.1㎡ ≦100℃ 分離機 © KONISHI CHEMICAL IND CO.,LTD.
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