2015 年 4 月 27 日
日産化学工業株式会社
Brewer Science とのライセンス契約延長に関するプレスリリース
Brewer Science, Inc.（以下、BSI）と日産化学工業株式会社（以下、日産化学）は、ARC®（半導体用反射防止コ
ーティング材）に関するライセンス契約の延長を発表しましたので、お知らせいたします。
ARC®は BSI の登録商標であり、フォトレジスト下で使用される反射防止膜およびハードマスク用材料に加え、多層
材料、EUV、電子線用下層膜材料も含まれます。
プレスリリースはこちら（http://www.nissanchem.co.jp/news_relese/news/n2015_04_27_02.pdf）

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