第16回光学薄膜研究会総会および研究会開催のご案内 2015年度第１回光学薄膜研究会を下記の通り開催致します。皆様のご参加をお待ちしております。 ◆日時：2015年4月21日（火） ◆場所：機械振興会館（〒105-0011 東京都港区芝公園 3-5-8）１．研究会主催光学薄膜特別セミナー（10:00～11:30）・受付： 9:30～10:00 ・題目：「光学薄膜の応力－その発生原因（１）」全２回シリーズの１回目・講師：神戸芸術工科大学名誉教授小倉繁太郎氏・部屋：地下３階会議室２・定員：約２０名・対象者：事前申込による希望者のみ・参加費：2,000円/人・その他：別紙のご案内もご覧下さい。２．総会＆研究会 (13:00～17:00) ・受付：12:30～13:00 ・部屋：地下２階ホール・総会：13:00～13:30 ・研究会：13:35～17:00 ・定員：約２００名・参加費：会員個人会員および法人会員一口あたり３名までの参加は無料。法人で３名/口を超える参加者は5,000円/人非会員 5,000円/人３．懇親会 (17:00～19:00) ・受付：総会＆研究会受付時に同時にお申込下さい。懇親会のみ参加者は懇親会開始前に受け付け致します。・参加費：3,000円/人・場所：地下３階ニュートーキョー --------------------------------------------------------------------４．【研究会プログラム】 4.1 半導体露光装置用投影レンズの波面収差計測の進歩（13:35-14:20）市原裕氏（(株)ニコンコアテクノロジー本部）半導体露光装置に用いる投影レンズの発展と、その波面収差を測定する波面収差測定用干渉計の開発の歴史について述べます。 4.2 研磨加工の基礎（14:20-15:05）室谷裕志氏（東海大学工学部光・画像工学科）基板表面の状態は光学薄膜の品質に大きな影響を与えます。その基板表面の加工技術である研磨加工について、平面研磨を中心に研磨加工の原理と研磨表面の評価技術について解説します。 4.3 ARTON®フィルムによる IR カットフィルターの特性と特長（15:20-16:05）沼田公志氏（JSR 株式会社光学材料事業部光学材料部） JSR が開発した耐熱透明樹脂「ARTON®」は、優れた光学特性、耐熱性により、光学レンズ、光ﾃﾞｨｽｸ、光学フィルム等に使用されております。今般、その応用製品として、 ARTON®フィルムをﾍﾞｰｽに IR カットフィルターを開発致しました。本研究会では ARTON® 樹脂及び IR カットフィルターの特性、特長について述べます。 4.4 ナノ表界面層の導入による銀薄膜の耐久性向上（16:05-16:50）川村みどり氏（北見工業大学工学部マテリアル工学科）厚さ数nm以下の金属層や有機分子層を銀薄膜の表面や基板との界面に導入することにより、銀薄膜加熱時の凝集抑制及び高湿度環境での安定性向上等において改善が認められました。 4.5 事務局からのご案内（16:50-17:00）＊注：プログラムは、諸般の事情により変更する場合がございます。 --------------------------------------------------------------------５．参加申込：光学薄膜研究会事務局鬼崎（ [email protected] ）宛メールにて ① 光学薄膜セミナーの申込有無： ② 研究会参加の有無： ③ 懇親会参加の有無： ④ 氏名，所属： ⑤ メールアドレス：をご連絡ください．申し込み締め切り4月14日(火)です。 ※会場の手配、懇親会の準備等をスムーズに進めるために、出来るだけ早い申込にご協力お願い致します。以下、ご注意とお願いです。・講演資料は、4 月 13 日頃に HP 会員ページにアップしますので、前にプリントアウトしご持参ください。当日の印刷物配布は致しません。 (会員以外の方で当日参加されます方は、当日に白黒印刷で講演資料をお渡しします。) 以上機械振興会館へのアクセス〒105-0011 東京都港区芝公園 3-5-8 http://www.jspmi.or.jp/kaigishitsu/access.html ・東京メトロ日比谷線神谷町駅下車徒歩 8 分・都営地下鉄三田線御成門駅下車徒歩 8 分・都営地下鉄大江戸線赤羽橋駅下車徒歩 10 分・都営地下鉄浅草線・大江戸線大門駅下車徒歩 10 分・JR 浜松町駅下車徒歩 15 分