有機半導体セキシチオフェンの合成

分子科学研究所分子科学研究所
夏の体験入学
有機半導体
セキシチオフェンの合成
S
S
S
S
S
S
分子スケールナノサイエンスセンター
鈴木グループ
有機半導体とは?
有機物は一般的に絶縁体であるが、薄膜あるいは単結晶にキャリア
を注入し、高電圧をかけると電気が流れるものがある。キャリアが
ホール(ラジカルカチオン)のものをp型半導体、電子(ラジカル
アニオン)のものをn型半導体と呼ぶ。
有機半導体の注目されている用途とは?
有機EL素子および有機トランジスタ。両者を組み合わせれば、紙の
ように薄くフレキシブルなディスプレーが可能。
トランジスタとは?
1)微弱な電気信号を増幅
2)スイッチング機能
種類
pn接合トランジスタ
Bipolar Transistor
キャリア
電子と
ホール
電界効果トランジスタ
電子また
Field-Effect Transistor はホール
構造
用途
エミッタ、ベース、コレクタの
3領域からなるnpn構造とpnp
構造
高周波増幅、超
高速演算、およ
び信号処理
MOS構造(ゲート電極、酸化
物絶縁体、半導体)にソースお
よびドレイン電極、n型とp型
IC
シリコンベースのFET
FETの種類
単結晶シリコン
MOSFET
半導体の作成法
多結晶シリコンの溶融・
徐冷による単結晶の育成、
ウエハの切出し
アモルファスシリコン
TFT
シランガスと水素ガスの
プラズマCVDによりガ
ラス基板上に作成
多結晶シリコン
TFT
アモルファスシリコンの
レーザーアニールによる
結晶化
電子移動度
(cm2/V s)
500
0.2–1.0
用途
LSI
液晶画素のスイッチ
ング素子
100–200 液晶画素のスイッチ
ング素子および周辺
駆動回路
FETの構造と動作原理
VD
-
ID
半導体(n型)
-
⊖⊖⊖⊖⊖⊖⊖⊖⊖⊖⊖⊖⊖
VG
ソース
電極
nチャンネル
ドレイン +
電極
酸化物(絶縁体)
金属(電極)
VG
ゲート電極
+
+
VD
ID
+
半導体(p型)
+
⊕⊕⊕⊕⊕⊕⊕⊕⊕⊕⊕⊕
VG
ソース
電極
pチャンネル
酸化物(絶縁体)
金属(電極)
-
VG
ゲート電極
-
ドレイン -
電極
FETの電流―電圧特性
VD
ドレイン電流 ID
(c) 飽和領域
ID
VG2
(b)
-
VG1
ソース
電極
n型半導体
nチャンネル
ドレイン +
電極
絶縁体
VG
(a) 線形領域
0
ゲート電極
ドレイン電圧 VD
(a)
+
VD
VD
ID
-
ソース
電極
n型半導体
ID
ドレイン +
電極
-
絶縁体
VG
ゲート電極
+
ソース
電極
n型半導体
ドレイン +
電極
絶縁体
VG
(b)
ゲート電極
+
(c)
ピンチオフ点
有機p型半導体の例
オリゴチオフェン
S
R
S
S
S
S
S
S
S
S
S
0.03 (R = H)
0.06 (R = C6H13)
S
R
S
S
S
R
0.05
R
S
S
R
R
S
0.08 (R = H)
0.11 (R = C6H13)
S
0.04 (R = H)
0.02 (R = C6H13)
アセン
S
R
R
S
0.01
0.3-0.7
0.09 (R = H)
0.15 (R = C6H13)
SiO2/Si基板上でのホール移動度(cm2/V s)
有機n型半導体の例
F
F
F
F
F
F
N
F
N
N
N
Cu
N
N
F
F
N
F
N
F
F
0.08
F
F
F
F
0.03
C6F13
S
S
S
S
S
S
C6F13
0.02
O
O
O
N
N
C8H17 N
O
O
O
O
C7F15
N C8H17
C7F15
0.1
O
0.6
SiO2/Si基板上での電子移動度(cm2/V s)